Anda di halaman 1dari 38

TRANSISTOR HIGH-K DAN METAL GATE DALAM TEKNOLOGI PROSES 45nm PADA PENRYN

DISUSUN OLEH :

NIMXXXXXX NIMXXXXXX NIMXXXXXX NIMXXXXXX NIMXXXXXX NIMXXXXXX

-------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------

UNIVERSITAS BUDI LUHUR FAKULTAS TEKNOLOGI INFORMASI JURUSAN MAGISTER ILMU KOMPUTER JAKARTA 2011

DAFTAR ISI

LATAR BELAKANG

..............................................................................................

2 3 4 5 9 11 15 20 23 27 31 32 34 36

ALASAN PEMILIHAN JUDUL ................................................................................ MASALAH KHUSUS YANG DIBAHAS PADA TULISAN INI ............................ PENGANTAR MIKROARSITEKTUR ..................................................................... INTEL CORE MICROARCHITECTURE: SEBUAH OVERVIEW .................... ROADMAP MIKROPROSESOR INTEL ................................................................. OVERVIEW PERKEMBANGAN TEKNOLOGI PROSESOR INTEL ............... MOORES LAW DAN TICK TOCK DEVELOPMENT MODEL ......................... MASALAH PENGEMBANGAN TEKNOLOGI MIKROPROSESOR ................. HIGH-K MATERIAL DAN METAL GATE TRANSISTOR .............................. DIE SHRINKING 45nm: PENRYN ........................................................................... ADA APA SETELAH 45nm? ..................................................................................... KESIMPULAN DAFTAR PUSTAKA .............................................................................................. ..............................................................................................

1 | TEKNOLOGI PROSES 45nm BERBASIS TRANSISTOR HIGH-K DAN METAL GATE PADA PENRYN

LATAR BELAKANG

Teknologi komputer telah menjadi sebuah solusi global untuk berbagai masalahmasalah manusia. Bermula dari tujuannya sebagai alat bantu komputasi sederhana, ko mputer telah mengalami perkembangan pesat baik secara fisik maupun secara fungsional. Jika pada awal-awal pemunculannya komputer hanya dapat melakukan operasi-operasi matematik sederhana dengan bentuk fisik yang besar, komputer pada masa kini telah bersifat multifungsi dan tersedia dalam berbagai bentuk serta ukuran fisik yang memungkinkan penggunaan secara mobile. Tentu saja, perubahan yang sedemikian pesat tersebut dapat terwujud karena beberapa hal. Di samping dukungan perangkat lunak (bahasa pemrograman, software dan sistem operasi) yang memiliki domain-domain yang beragam (bisnis, multimedia, science dan lainlain), perkembangan ini juga terwujud oleh karena evolusi yang terjadi pada arsitektur komputer itu sendiri. Perubahan dan perkembangan pada sebuah arsitektur komputer akan sangat berdampak pada perkembangan komputer. Lebih khusus lagi, perubahan pada sebuah arsitektur komputer ditentukan oleh bagaimana arsitektur tersebut dibentuk untuk memenuhi kebutuhan penggunanya. Untuk melakukan evolusi pada tingkat arsitektural bukan pekerjaan yang mudah, sebab perubahan ini mencakup perubahan pada tingkat desain CPU dan berkaitan dengan masalah fabrikasi. Para produsen perangkat mikroprosesor memiliki kendala yang sama : keterbatasan teknologi untuk memacu produksi prosesor yang benar-benar memenuhi kriteria pengguna komputer. Dan masalah ini menjadi bahan penelitian selama bertahun-tahun, sampai Intel merilis sebuah teknologi yang membawa perubahan besar bukan hanya kepada teknologi manufaktur Intel secara internal saja, melainkan berdampak kepada seluruh industri mikroprosesor secara global. Teknologi tersebut diterapkan di dalam produksi prosesor yang merupakan bagian dari pengembangan arsitektur Core milik Intel, yakni Penryn.

2 | TEKNOLOGI PROSES 45nm BERBASIS TRANSISTOR HIGH-K DAN METAL GATE PADA PENRYN

ALASAN PEMILIHAN JUDUL KAR YA TULIS

Adapun alasan yang melatar belakangi pilihan untuk membahas arsitektur Penryn pada tulisan ilmiah sesuai judul yang diajukan ini adalah sebagai berikut : 1. Secara bisnis, pengembangan arsitektur Core milik Intel ke Penryn dilakukan pada saat yang tepat, saat Intel sedang berusaha melepaskan diri dari tekanan pesaing bisnis mereka saat itu, AMD dan IBM. 2. Secara filosofi teknologi, terobosan yang dilakukan oleh Intel pada arsitektur Penryn telah memungkinkan mereka (dan produsen mikroprosesor pada umumnya) untuk memenuhi dan melanjutkan prinsip pengembangan teknologi mikroprosesor yang diuraikan di dalam Hukum Moore, baik secara bisnis maupun secara teknologi. 3. Secara teknis, teknologi proses yang digunakan oleh Penryn adalah terobosan besar yang bukan saja terjadi pada internal Intel sebagai prod usennya, melainkan juga merupakan pencapaian baru dalam sejarah industri mikroprosesor pada umumnya.

3 | TEKNOLOGI PROSES 45nm BERBASIS TRANSISTOR HIGH-K DAN METAL GATE PADA PENRYN

MASALAH KHUSUS YANG DIBAHAS DI DALAM TULISAN INI

Karangan ilmiah ini disusun untuk membahas beberapa hal secara khusus yang terdapat pada arsitektur Penryn yang dikembangkan oleh Intel. Hal- hal khusus yang bersifat teknis tersebut adalah : 1. Penggunaan High-K material pada produksi transistor dengan gerbang metal (HK+MT transistor). 2. Fabrikasi 45nm process technology sebagai versi turunan (die shrinking) dari 65nm process technology pada arsitektur Intel sebelumnya (Core). Sebagai pengantar ke dalam pembahasan teknis yang khusus di atas, sebelumnya akan diuraikan terlebih dahulu mengenai konsep mikroarsitektur komputer dan CPU design, mikroprosesor, dan dilanjutkan dengan pembahasan kepada mikroarsitektur Intel sebagai bahan referensi sejarah perkembangan arsitektur Penryn. Dilanjutkan dengan prinsip-prinsip pengembangan teknologi mikroprosesor Intel dan permasalahan umum pada industri mikroprosesor yang melatar belakangi lahirnya teknologi transistor HK+MT, beserta keuntungan yang dituju melalui teknologi ini, baik secara teknis maupun secara bisnis. Akan dibahas pula mengenai fabrikasi 45nm dan prospek pengembangannya pada prosesor di masa depan, yang mengantarkan tulisan ini kepada beberapa kesimpulan akhir.

4 | TEKNOLOGI PROSES 45nm BERBASIS TRANSISTOR HIGH-K DAN METAL GATE PADA PENRYN

PENGANTAR MIKROARSITEKTUR

Mikroarsitektur (microarchitecture, arch, uarch) adalah sebuah konsep yang memiliki


beberapa alternatif penjelasan sebagai berikut : Menurut Wikipedia : Microarchitecture used to implement consists the of a set set of microprocessor microcode, design techniques cache

instruction

(including

pipelining,

systems, etc.).

Menurut Bruce Shriver dan Bennet Smith :


Microarchitecture is the term used to describe the resources and methods used to achieve architecture specification. The term typically includes the

way in which these resources are organized as well as the design techniques used in the processor to reach the target cost and performance goals. The microarchitecture essentially forms a specification for the logical implementation.

(The Anatomy of a High Performance Microprocessor: A Systems Perspective) Dari kedua defenisi tersebut, dapat ditarik sebuah kesimpulan mengenai apa itu istilah atau konsep mikroarsitektur, yakni sebuah konsep yang terdiri dari beberapa bagian spesifik yang berfungsi untuk melakukan fungsi-fungsi kelas obyek (komponen) untuk mendukung fungsi arsitektur secara keseluruhan. Dengan bahasa yang lebih sederhana, mikroarsitektur adalah sebuah sub system dari sebuah arsitektur secara keseluruhan. Dalam kaitannya dengan arsitektur komputer, mikroarsitektur adalah salah satu konsep yang esensial. Jika arsitektur berbicara tentang interkoneksi perangkat keras komputer, maka mikroarsitektur berbicara tentang bagaimana melakukan koneksi-koneksi tersebut, instruksi apa yang harus dijalankan dan hal-hal khusus lainnya. Dengan demikian, pada level yang lebih khusus, mikroarsitektur menentukan desain inti dan konsep-konsep teknis yang akan dijalankan di dalam proses mikroprosesor.

5 | TEKNOLOGI PROSES 45nm BERBASIS TRANSISTOR HIGH-K DAN METAL GATE PADA PENRYN

Hal ini yang kemudian membedakan prinsip dan tujuan arsitektural dengan tujuan serta prinsip mikroarsitektural. Jika peningkatan performa sistem adalah tujuan utama pada level arsitektural, maka tujuan dari pengembangan pada level mikroarsitektural adalah : 1. Pengembangan chip dengan mempertimbangkan biaya produksi. 2. Penanganan penggunaan sumber daya. 3. Kompleksitas sistem. 4. Kemudahan interkoneksi. 5. Fabrikasi. 6. Kemudahan debugging. 7. Ketersediaan test tools. Tuntutan akan ketersediaan sistem komputer yang memiliki performa tinggi telah menyebabkan perubahan-perubahan pendekatan dan teknik perancangan sistem pada level mikroarsitektural. Pada era komputer modern, pendekatan-pendekatan tersebut adalah : 1. Pemilihan instruction set yang tepat Pemilihan ISA (Instruction Set Architecture) adalah salah satu pendekatan paling penting. Jenis ISA yang digunakan akan menentukan tingkat fleksibilitas dan kompleksitas hubungan antara mikroprosesor dengan perangkat keras lainnya.

2. Penggunaan teknik instruction pipelining Instruction pipelining adalah salah satu pendekatan tertua, terefisien dan paling powerful untuk meningkatkan performa mikroprosesor. Dengan menggunakan teknik ini, pemrosesan instruksi pada mikroprosesor tidak mengalami idle yang terlalu besar.

3. Penggunaan cache Penggunaan cache berangkat dari ketersediaan ruang di dalam chip, yang dimungkinkan oleh semakin majunya proses fabrikasi. Prosesor modern

dikembangkan dengan konsep IC (integrated circuit), dengan memampatkan berjuta-juta transistor ke dalam satu keping chip. Ini memungkinkan manufaktur untuk menempatkan cache memory ke dalam chip yang sama. Dalam proses kerjanya, kombinasi antara cache dan prinsip pipelining menghasilkan kinerja yang cukup memuaskan.

6 | TEKNOLOGI PROSES 45nm BERBASIS TRANSISTOR HIGH-K DAN METAL GATE PADA PENRYN

4. Teknik branch prediction dan speculative execution Untuk memaksimalkan kinerja, desain mikroprosesor modern menggunakan dua teknik dalam menjalankan instruksi, yakni branch prediction dan speculative execution. Branch prediction adalah sebuah teknik untuk menentukan eksekusi pada sebuah instruksi bercabang. Sedangkan speculative execution adalah teknik untuk mengeksekusi sebuah kode secara spekulatif. Kedua teknik ini digunakan dalam mikroprosesor modern yang telah mengadopsi konsep pipelining.

5. Out-of-order execution Out-of-Order Execution (OoOE) adalah sebuah pendekatan untuk memangkas waktu delay (stall) dengan menggunakan delay tersebut untuk melakukan proses pada instruksi lainnya. Kebanyakan delay yang terjadi pada prosesor disebabkan karena ketiadaan (keterlambatan) data, dan konsep ini diciptakan untuk mengisi delay tersebut dengan memproses instruksi yang lengkap sebelum kemudian melakukan rekonstruksi pada program order dan data order untuk memberikan output yang teratur sesuai dengan urutan instruksi yang diterima.

6. Superskalar Pada awalnya, prosesor melakukan eksekusi terhadap satu buah instruksi lengkap pada satu kesempatan. Program komputer dapat dieksekusi lebih cepat jika beberapa
instruksi diproses secara bersamaan. Prosesor superskalar mengeksekusi lebih dari satu instruksi pada satu clock cycle dengan melakukan dispatching beberapa instruksi secara bersamaan ke dalam beberapa unit instruksi ke dalam prosesor seperti ALU, FPU dan bit shifter.

7. Register renaming Register renaming adalah teknik yang digunakan untuk memperbolehkan banyak instruksi untuk dijalankan tanpa harus menimbulkan konflik antara berbagai unit eksekusi yang menggunakan satu register secara bersamaan. Teknik ini dilakukan dengan cara meletakkan satu set (bukan satu buah) register ke dalam prosesor dalam waktu yang bersamaan.

7 | TEKNOLOGI PROSES 45nm BERBASIS TRANSISTOR HIGH-K DAN METAL GATE PADA PENRYN

8. Multiprocessing dan multithreading Multiprocessing adalah kemampuan prosesor untuk melakukan beberapa proses dalam waktu yang bersamaan. Ada perbedaan dengan multithreading, dimana multithreading adalah kemampuan prosesor untuk memecahkan proses ke dalam beberapa thread yang berbeda, dimana masing- masing thread tersebut dapat menggunakan sumber daya yang berbeda-beda, namun dapat dijalankan secara independen.

9. Simultaneous multithreading Simultaneous multithreading (SMT) adalah pengembangan dari konsep

multithreading, yang masih merupakan fitur yang berupa obyek penelitian dan pengembangan. Pada prosesor multithreading, eksekusi dijalankan secara linear, sedangkan pada SMT, hal tersebut diubah dengan mengizinkan tiap thread untuk melakukan proses secara paralel.

8 | TEKNOLOGI PROSES 45nm BERBASIS TRANSISTOR HIGH-K DAN METAL GATE PADA PENRYN

INTEL CORE MICROARCHITECTURE: SEBUAH OVERVIEW

Intel Core Microarchitecture, atau yang sebelumnya dikenal dengan nama NextGeneration Micro-Architecture (NGMA) adalah arsitektur berbasis 65nm process untuk prosesor multi-core yang mulai diperkenalkan oleh Intel pada tahun 2006. Arsitektur ini merupakan penyempurnaan dari arsitektur sebelumnya (Yonah) dan arsitektur P6 (Pentium Pro) serta arsitektur berbasis NetBurst lainnya yang diperkenalkan sejak tahun 1995. Penyempurnaan arsitektur ini dikarenakan oleh konsep NetBurst yang memiliki banyak masalah, antara lain pemborosan tenaga serta ketidakmampuan teknologi ini untuk mengurangi panas, yang berujung pada gagalnya peningkatan kecepatan (clock speed) serta berbagai masalah lainnya. Oleh karena itu, Intel kemudian berpaling pada konsep Core, yang merupakan hasil desain tim IDC (Intel Developer Centre) Israel, tim yang sama yang sebelumnya merancang Pentium M untuk prosesor mobile. Prosesor generasi pertama yang lahir dari arsitektur ini adalah prosesor-prosesor dengan codename Merom (selanjutnya Merom menggantikan nama arsitektur Core ini dalam pengembangan arsitektur Intel), Conroe dan Woodcrest. Merom didesain untuk mobile computing, Conroe dirilis untuk sistem desktop dan Woodcrest untuk server. Meskipun lahir dari satu arsitektur yang sama, namun ketiganya memiliki perbedaan pada penggunaan socket, kecepatan bus dan tingkat penggunaan sumber daya. Ciri khas yang menyamakan ketiga prosesor ini adalah beberapa fitur turunan dari NetBurst seperti penggunaan multiple core, dukungan terhadap virtualisasi perangkat keras (melalui teknologi Intel VT-x), fitur Intel 64 dan SSE3, dengan perbaikan terhadap efektifitas pada tahap decoding, unit eksekusi, cache dan bus serta menekan konsumsi sumber daya dan pada saat yang bersamaan meningkatkan kapasitas proses. Satu ciri lagi adalah dihilangkannya teknologi HyperThreading, sebelum teknologi ini kembali diperkenalkan pada saat Intel merilis arsitektur berikut mereka, Nehalem. Silsilah secara umum (walaupun belum lengkap) dari arsitektur Intel secara keseluruhan dapat dilihat pada grafik berikut. Dalam grafik tersebut, mikroarsitektur Intel dicantumkan berdasarkan nama rilis yang diumumkan secara resmi oleh Intel dari tahun 1995.

9 | TEKNOLOGI PROSES 45nm BERBASIS TRANSISTOR HIGH-K DAN METAL GATE PADA PENRYN

Silsilah mikroarsitektur Intel (http://www.hardwaresecrets.com/intel_roadmap/)

Dalam perkembangannya, sampai pada tahun ini (2011) arsitektur yang telah dirilis oleh Intel adalah Sandy Bridge (32nm), dan direncanakan akan diikuti oleh Ivy Bridge, kemudian berikutnya adalah arsitektur Haswell (2013/22nm), Skylake, Larrabee dan Bonell.

10 | TEKNOLOGI PROSES 45nm BERBASIS TRANSISTOR HIGH-K DAN METAL GATE PADA PENRYN

ROADMAP MIKROPROSESOR INTEL

Debut Intel dimulai dengan processor seri MCS4 yang merupakan cikal bakal dari prosesor i4004. Processor 4 bit ini yang direncanakan untuk menjadi otak kalkulator, namun karena ternyata prosesor ini jauh lebih hebat dari yang diharapkan, Intel menggunakannya dalam pengembangan lebih lanjut. Berikutnya muncul processor 8 bit pertama i8008 (1972), tapi kurang diminati konsumen karena bersifat multivoltage. Pada tahun 1974, Intel merilis processor i8080, dengan perubahan ke format triple voltage serta menggunakan teknologi NMOS (Intel menggunakan teknologi PMOS pada seriseri awal prosesor mereka), dan memperkenalkan sistem clock generator untuk pertama kalinya, dikemas dalam bentuk DIP Array 40 pins. Prosesor i8080 adalah prosesor dengan register internal 8-bit, bus eksternal 8-bit, dan memori addressing 20-bit (dapat mengakses 1 MB memori total), dan modus operasi REAL. Pada tahun 1977 Intel merilis seri 8085, dengan clock generator onprocessor, cikal bakalnya seri i8086, prosesor dengan register 16bit, bus data eksternal 16-bit, dan memori addressing 20-bit, yang dirilis pada tahun 1978 menggunakan teknologi HMOS. Namun karena saat itu komponen pendukung bus 16 bit sangat langka, harga prosesor ini menjadi sangat mahal. Maka untuk menjawab tuntutan pasar muncul i8088 dengan spesifikasi 16bit bus internal serta 8bit bus external. IBM memilih chip ini untuk pebuatan IBM PC karena lebih murah daripada i8086. Chip 8088 dan 8086 kompatibel penuh dengan program yang dibuat untuk chip 8080, walaupun mungkin ada beberapa program yang dibuat untuk 8086 tidak berfungsi pada chip 8088 dikarenakan adanya perbedaan lebar bus. Sejak seri i80186, prosessor mulai dikemas dalam bentuk PLCC, LCC dan PGA 68 kaki. i80186 secara fisik berbentuk bujursangkar dengan 17 kaki persisi (PLCC/LCC) atau 2 deret kaki persisi (PGA) dan mulai dari i80186 inilah chip DMA dan interrupt controller disatukan ke dalam processor. Semenjak menggunakan 286, mulai dikenal penggunaan slot ISA 16 bit yang dikembangkan dari slot ISA 8 bit, juga mulai dikenal penggunaan Protected Virtual Adress Mode yang memungkinkan dilakukannya multitasking secara time sharing (via hardware resetting). Pada tahun 1985, Intel meluncurkan desain prosesor yang sama sekali baru: i80386. Sebuah prosesor 32-bit, dalam arti memiliki register 32-bit, bus data eksternal 32-bit, dan

11 | TEKNOLOGI PROSES 45nm BERBASIS TRANSISTOR HIGH-K DAN METAL GATE PADA PENRYN

mempertahankan kompatibilitas dengan prosesor generasi sebelumnya, dengan tambahan diperkenalkannya mode PROTECTED 32-BIT untuk memori addressing 32-bit, mampu mengakses maksimum 4 GB, dan tidak lupa tambahan beberapa instruksi baru. Chip ini mulai dikemas dalam bentuk PGA (pin Grid Array) Pada tanggal 6 Oktober 1998, Intel Corporation meliris prosessor rangkap versi tercepat Intel Pentium II Xeon dengan kecepatan 450 MHz, dirancang khusus untuk digunakan pada Prosessor-dual (two-way) Workstation dan servers. Prosessor baru ini di harapkan mampu membangun sebuah kepercayaan yang kokoh agar Pentium II Xeon dapat di terima di pasaran dan bisa dijadikan prosessor dasar bagi semua Workstation dan Server. Seperti anggota keluarga yang lain dari Intel Inside microprocessor, hal yang paling menonjol pada prosessor Pentium II Xeon 450 MHz adalah Caches Level 2 (L2) yang lebih besar, kecepatan pemrosesan data, penanganan khusus pada proteksi arus panas, Kemampuan Multiprosessing, dan 100-MHz Bus sistem. AGPset Intel 440GX untuk workstation dan server dengan satu atau dua prosessor mampu menyediakan support memory hingga 20-GB dan Grafik AGP yang lebih halus dan lebih realistis. Prosessor ini juga menunjang pengembangan Sistem Operasi seperti Windows NT (New Technology) untuk Workstation, Windows NT untuk Servers, Netware dan UNIX. Prosessor Pentium II Xeon 450 MHz dengan 512 KB L2 cache seharga $824, sekitar Rp. 5.768.000,- (kurs Rp 7000,- per Dollar); Prosessor Pentium II Xeon 450 MHz empat jalur (Four-way) jika tidak berhalangan akan terealisasi di awal tahun 1999. Pada tahun 1999, Intel mengeluarkan prosessor dengan tipe Intel Pentium III Processor. Processor Pentium III merupakan processor yang diberi tambahan 70 instruksi baru yang secara dramatis memperkaya kemampuan pencitraan tingkat tinggi, tiga d imensi, audio streaming, dan aplikasi-aplikasi video serta pengenalan suara. Disamping itu pada tahun yang sama Intel juga mengeluarkan prosesor tipe Intel Pentium III Xeon. Processor Intel ini kembali merambah pasaran server dan workstation dengan mengeluarkan seri Xeon tetapi jenis Pentium III yang mempunyai 70 perintah SIMD. Pada tahun 2000, Intel mengeluarkan prosessor dengan tipe Intel Pentium 4 Processor. Processor Pentium 4 merupakan produk Intel yang kecepatan prosesnya mampu menembus kecepatan hingga 3,06 GHz. Pertama kali keluar processor ini berkecepatan 1.5 GHz dengan form factor pin 423, setelah itu Intel merubah form factor processor Pentium 4 menjadi pin 478 yang dimulai dari processor Pentium 4 berkecepatan 1,3 GHz sampai yang

12 | TEKNOLOGI PROSES 45nm BERBASIS TRANSISTOR HIGH-K DAN METAL GATE PADA PENRYN

terbaru yang saat ini mampu menembus kecepatannya hingga 3,4 GHz. Pada tanggal 9 Agustus 2006, Intel Corporation meluncurkan prosesor Intel Core 2 Duo yang ditujukan bagi PC dan workstation desktop dan laptop consumer dan bisnis prosesor dengan teknologi yang dapat menghasilkan kinerja lebih, konsumsi daya lebih kecil, serta keleluasaan pemakaian bagi para penggunanya. Prosesor-prosesor Intel Core 2 Duo dibangun di beberapa fasilitas manufaktur bervolume tinggi dan canggih di dunia menggunakan proses berteknologi silikon 64nanometer dari Intel. Versi PC desktop dari prosesor-prosesor ini juga menghasilkan peningkatan kinerja hingga 40 persen dan efisiensi daya hingga 40 persen dibandingkan prosesor terbaik Intel generasi sebelumnya. Keluarga prosesor ini didasarkan pada arsitektur mikro Intel Core yang revolusioner, dirancang untuk menghasilkan kinerja yang bertenaga namun dengan pemakaian daya efisien. Dengan kekuatan dua inti, atau mesin komputasi, prosesor-prosesor ini bisa mengerjakan banyak pekerjaan dengan lebih cepat. Prosesorprosesor ini juga bisa bekerja tanpa masalah saat menjalankan lebih dari satu aplikasi. Chipchip inti- ganda ini juga meningkatkan performa beragam aplikasi dan memungkinkan umur baterai yang lebih baik untuk notebook- notebook yang lebih ramping dan ringan. Prosesor-prosesor Intel Core 2 Duo memiliki banyak inovasi tingkat lanjut, seperti: a) Intel Wide Dynamic Execution Meningkatkan kinerja dan efisiensi. Masing- masing inti bisa menyelesaikan hingga empat instruksi penuh secara bersamaa n menggunakan sebuah pipeline 14-tahap yang efisien. b) Intel Smart Memory Access Meningkatkan kinerja sistem dengan menyembunyikan latency memori, yang kemudian mengoptimalkan penggunaan bandwidth data komputer yang tersedia untuk menyediakan data ke prosesor ketika dibutuhkan. c) Intel Advance Smart Cache Memiliki sebuah cache atau cadangan memori L2 yang berbagi untuk mengurangi daya dengan meminimalkan lalu lintas memori tapi meningkatkan kinerja dengan memungkinkan satu inti untuk menggunakan seluruh cache ketika core yang lain sedang tidak bekerja. Hanya Intel yang menyediakan kemampuan ini di seluruh segmen. d) Intel Advanced Digital Media Boost Secara efektif menggandakan kecepatan eksekusi untuk instruksi- instruksi yang banyak digunakan di aplikasi-aplikasi multimedia dan grafis.

13 | TEKNOLOGI PROSES 45nm BERBASIS TRANSISTOR HIGH-K DAN METAL GATE PADA PENRYN

e) Intel 64 Technology Penambahan ke arsitektur Intel 32-bit ini mendukung komputasi 64-bit, termasuk memungkinkan prosesor untuk mengakses memori yang lebih besar. f) Intel Dynamic Power Coordination Mengkoordinasikan transisi- transisi Enhanced Intel SpeedStep Technology dan tahap manajemen daya idle (C-states) secara independen per inti untuk membantu mengirit daya. g) Intel Dynamic Bus Parking Memungkinkan penghematan daya dan umur batere yang lebih baik dengan memungkinkan chipset untuk menurunkan daya bersama dengan prosesor dalam modus frekuensi rendah. h) Enhanced Intel Deeper Sleep dengan Dynamic Cache Sizing Menghemat daya dengan menguras data cache ke memori sistem selama periode idle untuk menurunkan voltasi prosesor.

Secara garis besar, roadmap perjalanan perkembangan mikroprosesor Intel dapat digambarkan ke dalam tabel seperti berikut :
Tahun 1971 1972 1974 1978 1979 1982 1985 1989 1993 1995 1997 1999 2000 2002 2002 2005 2006 2006 2006 2007 Seri 4004 8008 8080 8086 8088 286 386 486 Pentium Pentium Pro Pentium II Pentium III Pentium 4 Pentium M Itanium 2 Pentium D Core 2 Duo Itanium 2 9000 Quad Core Dual Core (Penryn) Clock Speed 108KHz 500-800KHz 2MHz 5MHz 5MHz 6MHz 16MHz 25MHz 66MHz 200MHz 300MHz 500MHz 1.5GHz 1.7GHz 1GHz 3.2GHz 2.39GHz 1.66GHz 2.66GHz > 3GHz Jumlah Transistor 2,300 3,500 4,500 29,000 29,000 134,000 275,000 1,200,000 3,100,000 5,500,000 7,500,000 9,500,000 42,000,000 55,000,000 220,000,000 291,000,000 291,000,000 1,720,000,000 582,000,000 820,000,000 Manufacturing Technology 10 10 6 3 3 1.5 1.5 1 0.8 0.6 0.25 0.18 0.18 90nm 0.13 65nm 65nm 90nm 65nm 45nm

Tabel perkembangan prosesor Intel dari tahun 1971 2007 (http://www.intel.com)

14 | TEKNOLOGI PROSES 45nm BERBASIS TRANSISTOR HIGH-K DAN METAL GATE PADA PENRYN

OVERVIEW PERKEMBANGAN TEKNOLOGI PROSESOR INTEL

Berbicara tentang perjalanan perkembangan mikroprosesor Intel, tidak lengkap jika tanpa membahas tentang perkembangan teknologi yang digunakan oleh Intel pada setiap rilis produk mikroprosesornya. Untuk itulah di sini akan diuraikan secara umum perkembangan penggunaan teknologi pada setiap rilis mikroprosesor yang diproduksi oleh Intel. Sebagai pendahuluan, terobosan yang dilakukan Intel sebenarnya telah dimulai saat Pentium dirilis. Pada tahun 1992, mereka mengeluarkan seri 80386SX-16 yang menggunakan gerbang silikon. Minimum dari ukuran gerbangnya adalah sebesar 1.1, dan ukuran per transistornya adalah sebesar 3.3.

Foto die dari mikroprosesor Intel 803866SX-16 (lebar gerbang :1.1) Pada tahun berikut, Intel meluncurkan seri Pentium lainnya yang menggunakan 3 juta transistor dan difabrikasi dengan menggunakan teknologi proses BiCMOS 0.8. Ini merupakan generasi awal dari keluarga Pentium yang menggunakan transistor bipolar. Ukuran gerbang transistornya mengecil menjadi 0.6 dan ukuran tiap keping transistornya sebesar 1.9. Transistor MOS ini menggunakan silicide Ti pada gerbangnya dan difusi S/D serta mengaplikasikan struktur sederhana dari silikon nitrida. Bagian ini menggunakan tiga buah level A1 metal dan dilengkapi dengan 6T SRAM yang memiliki sel berukuran 122.

15 | TEKNOLOGI PROSES 45nm BERBASIS TRANSISTOR HIGH-K DAN METAL GATE PADA PENRYN

Foto die Intel Pentium Prosesor (dengan ukuran gerbang MOS sebesar 0.65) Pada tahun 1994, seri Pentium lainnya, P54C dirilis dengan menggunakan teknologi proses 0.60 BiCMOS dengan transistor bergerbang MOS berukuran 0.45 di atas chip metal berukuran 1.45. Material yang digunakan untuk transistornya tidak berubah. Pada rilis ini digunakan empat level A1 metal.

Foto die Intel Pentium (P54C) Pentium Pro yang dirilis pada tahun 1996 dibuat menggunakan proses BiCMOS 0.35, dengan transistor bergerbang MOS berukuran 0.30 dan minimum keping metal berukuran 0.95. Transistor ini berbahan Ti silisida pada gerbangnya dan difusi S/D, serta masih menggunakan struktur silikon nitrida.

Foto die Pentium Pro 200Mz

16 | TEKNOLOGI PROSES 45nm BERBASIS TRANSISTOR HIGH-K DAN METAL GATE PADA PENRYN

Pada tahun berikutnya, Intel merilis lagi seri P200Mhz, tapi kali ini dilengkapi dengan teknologi MMX. Sejak saat ini Pentium telah beralih sepenuhnya kepada teknologi proses berbasis CMOS. Transistor pada prosesor ini berukuran 0.30, meski banyak pihak yang menyimpulkan bahwa ukuran sebenarnya adalah 0.28. Pada seri berikutnya (Prosesor 266 MHz 32-bit dengan codename Klamath), barulah ukuran tersebut benar-benar turun menjadi 0.28 , dengan ukuran chip metal 0.95. Fabrikasi ini tetap menggunakan 4 level metal A1 dan masih tidak merubah material serta bahan dasar untuk gerbang-gerbang transistornya.

Foto die Pentium 266MHz 32-bit (Klamath)

Pada tahun 1998, Intel merilis Pentium II 333 MHz 32-bit (Deschutes) dengan teknologi proses 0.25, kali ini telah beralih sepenuhnya kepada CMOS. Terdiri dari prosesor MOS berukuran 0.20 dan ukuran chip untuk per unit sebesar 0.65, prosesor ini menambahkan satu level tambahan pada interkoneksi metal A1, tetapi tanpa ada perubahan pada struktur gerbangnya.

Foto die Pentium II 32-bit 333 MHz (Deschutes)

17 | TEKNOLOGI PROSES 45nm BERBASIS TRANSISTOR HIGH-K DAN METAL GATE PADA PENRYN

Pada tahun 1999, Pentium III 550 MHz dirilis, dengan spesifikasi proses CMOS 0.18 , terdiri dari transistor MOS berukuran 0.13 dengan lebar keping metal per transistornya sebesar 0.70. Prosesor ini memuat 9.5 juta transistor, lima level metal A1 dan SRAM 6T berukuran 11.9. Pada seri ini, Intel tidak melakukan perubahan terhadap material dasar.

Foto die Pentium III 550 MHz 32-bit Pada akhir tahun 1999, Intel merilis Pentium III 650 MHz (Coppermine) dengan spesifikasi transistor bergerbang NMOS sebesar 0.08 dan 0.10 PMOS. Gerbang pada transistor mengalami kerapatan untuk mengurangi lebar fisik dari gerbang transistor tersebut. Dan mungkin yang merupakan perubahan paling besar adalah penggunaan bahan silikon pada gerbang elektroda dan difusi S/D.

Foto die Pentium III 650 MHz (Coppermine)

Tahun 2001 adalah pertama kalinya Intel memperkenalkan Cu part yang digunakan pada Pentium III 1.2 GHz yang mengandung 44 juta transistor. Gerbang transistor menggunakan buffer oxide dan silikon L-shaped SWS. Minimum lebar gerbang adalah 0.07 untuk transistor NMOS dan PMOS. Ukuran keping metal per 1 pitchnya adalah 0.47.

18 | TEKNOLOGI PROSES 45nm BERBASIS TRANSISTOR HIGH-K DAN METAL GATE PADA PENRYN

Foto die Pentium III 1.2 GHz

Tahun berikutnya adalah tahun istimewa untuk Intel. Mereka merealisasikan strategi shrinking transistor dengan Pentium 4 2.8 GHz (Prescott). Gerbang transistor pada prosesor ini masih menggunakan buffer oxide dan silikon nitride SWS, namun lebih tipis dari rilis sebelumnya.

Foto die Pentium 4 2.8 GHz

Tahun berikutnya, terjadi evolusi dengan penyusutan proses 90nm ke 65nm dengan perubahan besar-besaran pada transistor yang digunakan. Prosesor dengan codename Presler (2.8 GHz, dual core) menggunakan transistor dengan lebar gerbang hanya 42nm untuk NMOS dan 38nm untuk PMOS.

19 | TEKNOLOGI PROSES 45nm BERBASIS TRANSISTOR HIGH-K DAN METAL GATE PADA PENRYN

MOORES LAW DAN TICK TOCK DEVELOPMENT MODEL

Perubahan-perubahan yang telah dilakukan oleh Intel dan seluruh produsen mikrochip di dunia didasarkan oleh sebuah telaah oleh Gordon Moore, salah seorang pendiri Intel sendiri yang dipublikasikan oleh jurnal elektronik Amerika Serikat, Electronics, pada tahun 1965. Artikel ini sebenarnya merupakan sebuah analisa dan prediksi semata, namun karena tingkat keakuratannya yang tinggi, artikel dan analisa Moore menjadi patokan untuk para pengembang mikroprosesor sampai saat ini dan dikenal sebagai Hukum Moore (Moores Law). Dalam artikelnya tersebut, Moore mengatakan bahwa the number of transistors that can be fit onto a square inch of silicon doubles every 12 months. Namun Moore tidak mendeskripsikan secara khusus sisi teknis dari perubahan tiap 12 bulan tersebut. Sebenarnya, yang Moore maksudkan di dalam artikel tersebut adalah prospek bisnis dan kelangsungan produksi mikroprosesor, bukan bagaimana menghasilkan teknologi transistor baru.

Perkembangan jumlah transistor dalam prosesor sesuai Hukum Moore

20 | TEKNOLOGI PROSES 45nm BERBASIS TRANSISTOR HIGH-K DAN METAL GATE PADA PENRYN

Moore mencoba menjelaskan tentang proses penyusutan biaya produksi (cost) chip mikroprosesor, daripada lebih menjelaskan tentang teknisnya. Ia berpandangan, jika biaya produksi mikroprosesor dapat ditekan dan dikontrol, maka harga perangkat keras dan perangkat lunak komputer akan semakin murah. Hal ini wajar apabila dikaitkan dengan harga transistor serta biaya penelitian yang bisa memakan biaya sangat mahal. Jika penggunaan transistor dapat ditekan (atau dimampatkan), maka biaya produksi akan turun dengan signifikan dan akan mempengaruhi pula harga jual. Pada akhirnya, harga perangkat (mesin) komputer akan dengan sendirinya semakin terjangkau. Namun, Hukum Moore ini tetap paralel secara teknis dengan pengembangan mutu kerja mikroprosesor. Penyusutan komponen inti prosesor (transistor) memang dibutuhkan untuk menekan panas dan overload pada penggunaan sumber daya, yang pada akhirnya akan berdampak pada semakin cepatnya proses kerja prose sor itu sendiri. Jadi bukan merupakan sebuah masalah apabila Hukum Moore kemudian diadopsi oleh seluruh produsen mikroprosesor. Yang jelas adalah, Hukum Moore haruslah dipandang dari dua sisi yang sama, yakni sisi produksi (pembiayaan produksi) atau bisnis, serta sisi teknis. Hukum Moore ini kemudian dikembangkan oleh Intel dengan salah satu terobosan lain mereka dalam hal development model (model pengembangan) teknologi mikroprosesor yang dikenal sebagai Tick-tock development model. Model ini diadopsi dari model pengembangan yang dihasilkan oleh Ashwani Gupta, salah seorang peneliti pada Jones Farm. Dengan pola pengembangan Tick-tock, Intel dapat melakukan proses produksi dan pengembangan setiap tahun, dengan dibagi dalam dua tahap (fase) sebagai berikut : a. Tick (pengembangan teknologi proses) : Sebuah tick adalah fase pengecilan (shrinking) komponen semikonduktor (transistor) pada prosesor dengan beberapa penyempurnaan pada material perangkat keras untuk pendukung pemrosesan. Fase ini diterapkan pada arsitektur sebelumnya. b. Tock (proses pembangunan arsitektur baru) : Sebuah tock adalah sebuah pengembangan dan rilis arsitektur baru yang merupakan penyempurnaan keseluruhan dari fase sebelumnya (tick). Dalam setiap tahun, Intel menargetkan setidaknya terjadi satu kali tick atau tock.

21 | TEKNOLOGI PROSES 45nm BERBASIS TRANSISTOR HIGH-K DAN METAL GATE PADA PENRYN

Pada tahun 2006, terjadi tock pertama, dengan dirilisnya arsitektur baru (Merom/Core). Pada tahun berikutnya terjadi tick, dimana lahir mikroprosesor dengan codename Penryn, yang merupakan cikal bakal bagi arsitektur mikroproseso r Intel selanjutnya.

Model pengembangan arsitektur Intel (tick -tock) sejak tahun 2006


(http://www.overclock3d.net/news/cpu_mainboard/intel_core_i7_presentation/1)

Pada perkembangannya, model ini telah sampai pada tock ke tiga, dengan dirilisnya arsitektur baru (Sandy Bridge) pada tahun ini (2011). Jika dirunut dari diagram perkembangan teknologi CPU Intel, kita akan mendapatkan tick berikut (Ivy Bridge) pada tahun 2012.

22 | TEKNOLOGI PROSES 45nm BERBASIS TRANSISTOR HIGH-K DAN METAL GATE PADA PENRYN

MASALAH PENGEMBANGAN TEKNOLOGI MIKROPROSESOR

Kembali sejenak kepada Hukum Moore, kepadatan transistor di dalam sebuah keping IC bertambah dua kali lipat dalam dua tahun. Dalam 15 tahun terakhir, Intel menggunakan partikel silicon dioxide (SiO2 ) untuk gerbang dielektrik di dalam transistor-transistornya. Dan seiring perjalanan teknologi, dan untuk memenuhi Hukum Moore di atas, ukuran transistor tersebut harus mengalami penyusutan. Penyusutan ukuran fisik dari transistor

memperbolehkan pihak produsen untuk memproduksi lebih banyak lagi prosesor dalam satu wafer silikon (akan dijelaskan kemudian). Di samping itu, secara teknis, pengecilan ukuran fisik memberikan peluang untuk diproduksinya sebuah chip yang lengkap, serta dapat meningkatkan kinerja prosesor itu sendiri. Sekali lagi, kembali kepada Hukum Moore, penyusutan ukuran transistor di dalam IC prosesor memiliki dua manfaat: penurunan biaya produksi dan pencapaian tingkat kinerja prosesor secara signifikan. Hal ini yang kemudian menjadi masalah, sebab menurut perhitungan fisika, untuk memenuhi Hukum Moore, ukuran fisik transistor harus disusutkan sampai pada faktor 0.7. Masalahnya adalah, ada sebuah partikel di dalam transistor tradisional yang tidak bisa disusutkan lagi ukurannya. Partikel itu adalah gerbang oksida pada transistor yang berbahan silicon dioxide (SiO 2 ), partikel insulator yang memiliki tugas untuk melakukan isolasi terhadap gerbang transistor secara elektris pada saat transistor sedang berada di dalam state on. Layer insulator ini telah mengalami penyusutan pada tiap arsitektur baru sejak tahun 1990-an. Dan pada dua generasi sebelum Penryn lahir, ukuran insulator tersebut telah turun sebanyak 1.2nm, atau setara dengan 5 kali ukuran atom. Itu adalah ukuran maksimal, dan tidak ada lagi solusi untuk memperkecil ukuran tersebut ke dalam ukuran ideal, yakni 10nm lebih kecil. Dalam ukuran yang sedemikian kecil saja, insulator sudah menjadi masalah. Semakin kecil dan tipis, fungsi gerbang dielektrik menjadi lumpuh, dan semakin banyak elektron yang bocor pada saat transistor berada dalam posisi on. Tanpa sebuah terobosan yang benar-benar revolusioner, perkembangan produksi prosesor dapat mengalami kemacetan dan tidak mampu untuk menghasilkan perkembangan sesuai dengan apa yang diharapkan oleh pengguna komputer pada umumnya. Untuk lebih memperjelas uraian teknis tersebut, kita perlu mempelajari cara kerja transistor tradisional yang telah digunakan sejak tahun 1965. Transistor yang digunakan di

23 | TEKNOLOGI PROSES 45nm BERBASIS TRANSISTOR HIGH-K DAN METAL GATE PADA PENRYN

dalam prosesor, memory, dan chip-chip lainnya adalah transistor yang berjenis metal-oxidesemiconductor field effect type (MOSFET). Transistor ini adalah switch dengan berbahan dasar polysilicon dan silicon dioxide (SiO 2 ), seperti yang telah dijelaskan sebelumnya. Karena bersifat sebagai switch, cara kerja transistor ini adalah dengan menggunakan voltase pada salah satu gerbangnya, untuk melakukan kontrol (switch) terhadap masuk-dan keluarnya arus terhadap dua buah gerbang lainnya (source/sumber dan drain/pembuangan). MOSFET terdiri dari dua buah jenis, yakni N (NMOS, n-type) dan P (PMOS, p-type). Yang menjadi perbedaan di antara dua varian MOSFET ini adalah bahan dasar kimia yang digunakan untuk membuat komponen gerbang, sumber dan pembuangannya. Rangkaian IC pada mesin- mesin modern menggunakan kedua varian transistor MOSFET ini. Transistortransistor tersebut disusun di atas sebuah wafer kristal silikon, kemudian silikon tersebut diinjeksi melalui proses kimia (dikenal dengan istilah doping) untuk memasukkan senyawa arsenik, fosfor atau boron. Injeksi boron akan menambahkan carrier untuk muatan positif kepada kristal silikon tersebut, kemudian disebut holes, membuatnya menjadi p-type, sedangkan injeksi dengan arsenik atau fosfor akan menambahkan elektron, yang akan membuatnya menjadi n-type.

Contoh wafer silikon.

24 | TEKNOLOGI PROSES 45nm BERBASIS TRANSISTOR HIGH-K DAN METAL GATE PADA PENRYN

Kita amati transistor NMOS, yang bagian dasar dari daerah sumber serta pembuangan pada transistor ini dibuat dengan menggunakan bahan silikon n-type. Di antara dua wilayah tersebut, terdapat sebuah saluran tipis yang bertipe p-type, yang disebut kanal transistor, dimana arus masuk mengalir. Di atas dari kanal tersebut terdapat sebuah lapisan tipis insulator berbahan silicon dioxide, yang disebut gerbang insulator atau gerbang oksida. Gerbang inilah yang menjadi sumber masalah. Di atas dari gerbang insulator terdapat gerbang elektroda yang berbahan dasar silikon. Transistor NMOS bekerja dengan ilustrasi sebagai berikut: arus positif pada gerbang memicu medan listrik ke seluruh lapisan oksida. Medan listrik ini kemudian menutup holes dan menarik elektron untuk membentuk kanal penyalur elektron di antara sumber dan pembuangan. Transistor PMOS adalah penyeimbang dan pelengkap untuk operasi ini, dimana tegangan positif pada gerbang transistor PMOS akan melakukan pemutusan terhadap aliran elektron yang masuk. Dengan demikian, secara teori, transistor hanya mengambil daya (power) pada saat ia berada dalam keadaan ON atau OFF. Dari cara kerja kedua transistor inilah istilah CMOS (Complementary Metal-Oxide Semiconductor) lahir. Kedua transistor ini digunakan secara bersama-sama, dengan urutan yang telah ditentukan untuk dapat mengisi dan menyeimbangkan (complement) tugasnya masing- masing.

Operasi on dan off pada transistor tradisional dan ilustrasi kebocoran arus Di atas adalah ilustrasi cara kerja transistor MOSFET tradisonal. Idealnya, pada saat transistor berada dalam keadaan ON, arus pada Ion harus mengalami peningkatan tegangan, sebaliknya pada saat transistor berada dalam keadaan OFF, tidak boleh ada tegangan yang masuk. Semakin tinggi nilai Ion akan membuat transistor berada dalam frekuensi kerja yang

25 | TEKNOLOGI PROSES 45nm BERBASIS TRANSISTOR HIGH-K DAN METAL GATE PADA PENRYN

lebih cepat. Sayangnya, transistor yang cepat seringkali memiliki tingkat kebocoran arus yang besar pula. Sumber kebocoran arus yang paling besar adalah pada gerbang oksida (Igate). Performa transistor dapat ditingkatkan dengan cara menipiskan gerbang oksida ini, namun penipisan gerbang ini juga menjadi masalah karena tingkat kebocoran arus akan semakin besar. Hal ini terjadi karena pada lapisan yang paling tipis, gerbang oksida atau insulator akan kehilangan fungsinya, dan tidak dapat lagi menahan arus yang masuk. Inilah yang menyebabkan disipasi panas dan daya, yang mengakibatkan penurunan performa prosesor serta komputer secara keseluruhan.

Ilustrasi kebocoran arus pada gerbang oksida yang ditipiskan Jadi konsekuensi dari peningkatan kecepatan transistor adalah peningkatan (pula) pada kebocoran arus, dan ini membawa masalah serius terhadap pengembangan transistor dan prosesor untuk masa depan. Keadaan ini disadari oleh Intel dan berbagai pengembang mikrochip lainnya, yang mulai mengadakan penelitian pada pertengahan tahun 1990-an. Fokus dari penelitian mereka adalah mencari bahan atau material baru yang akan digunakan untuk mengganti silikon oksida pada gerbang oksida, agar penipisan dapat dilakukan dengan menekan tingkat kebocoran arus.

26 | TEKNOLOGI PROSES 45nm BERBASIS TRANSISTOR HIGH-K DAN METAL GATE PADA PENRYN

HIGH-K MATERIAL DAN METAL GATE TRANSISTOR

Solusi dari permasalahan pada gerbang oksida transistor, demi peningkatan frekuensi elektron untuk mempercepat kerja transistor adalah bagaimana memformulasikan seb uah material dasar sebagai pengganti silikon oksida (SiO 2 ). Diharapkan, material baru ini dapat membentuk sebuah gerbang yang memiliki ketebalan cukup untuk mencegah kebocoran, namun dapat menyerap medan elektrik pada gerbang, masuk ke dalam kanal untuk menyalakan transistor. Dengan kata lain, materi tersebut harus tebal secara fisik, namun tipis secara elektris. Material yang memiliki sifat tersebut dispesifikasikan sebagai high-k. k, konstanta dielektrik, adalah istilah yang merujuk kepada kemampuan material yang bersangkutan untuk mengkonsentrasikan medan elektrik. high-k berarti insulator tersebut memiliki kemampuan yang sama dengan insulator tradisional yang memiliki ketebalan lebih besar. Intel adalah produsen pertama dalam dalam sejarah industri mikrochip yang menemukan solusi untuk permasalahan ini, dengan mengembangkan material baru berkategori high-k berbasis hafnium untuk menggantikan silikon dioksida. Penggunaan materi high-k pada gerbang insulator dikombinasikan dengan pergantian bahan polysilikon pada gerbang elektroda dengan bahan metal.

Ilustrasi perbandingan antara transistor tradisional dengan HK+MG transistor

27 | TEKNOLOGI PROSES 45nm BERBASIS TRANSISTOR HIGH-K DAN METAL GATE PADA PENRYN

Pada gambar di atas diilustrasikan perbandingan antara transistor tradisional yang menggunakan material SiO 2 (silikon dioksida) sebagai bahan gerbangnya, dengan HK+MG transistor. Pada Merom, tebal gerbang insulator pada transistor hanya sebesar 1.2nm, tipisnya gerbang ini membuat elektron bisa menyusup masuk dan menyebabkan kebocoran arus. Perbedaan mendasar antara kedua transistor tersebut adalah pada gerbang berbahan high-k, dimana untuk menggantikan SiO 2 , Intel mengembangkan sebuah material baru yang berbasis hafnium. Ada beberapa jenis hafnium yang telah dikembangkan, termasuk hafnium oksida (HfO 2 ), hafnium silika (HfSiO) dan beberapa jenis lain yang masih dalam tahap penilitian dan pengembangan. HfO 2 saja memiliki nilai k sebesar 29, sekitar 6 kali lebih besar dan lebih baik dari SiO 2 yang memiliki nilai k hanya sebesar 3.9.

Proses pengontrolan medan elektris oleh insulator dengan high-k material Oleh karena sifat dasar hafnium yang dapat meningkatkan medan elektrik, yang mengontrol kanal pada daerah sumber dan pembuangan pada transistor, maka gerbang oksida telah dapat dipertebal (perhatikan gambar di atas sebagai ilustrasi dari proses ini). Hasil dari perpaduan kedua proses tersebut adalah peningkatan pada I on dan penurunan tingkat kebocoran. Pada gambar di bawah ditunjukkan stack gerbang pada transistor baru itu, dengan ketebalan pada gerbang insulator sebesar 2.2nm.

Stack gerbang pada transistor HK+MG

28 | TEKNOLOGI PROSES 45nm BERBASIS TRANSISTOR HIGH-K DAN METAL GATE PADA PENRYN

Perubahan lain yang terjadi adalah penggunaan metal pada gerbang elektroda. Hal ini dilakukan sebab material hafnium ternyata tidak kompatibel dengan material polisilikon yang digunakan sebagai material lama pada gerbang tersebut. Untuk prosesor keluarga Penryn, digunakan dua jenis metal yang berbeda untuk transistor NMOS dan transistor PMOS, namun detail dari material metal tersebut tidak diuraikan secara khusus oleh Intel sampai saat ini.

Detail dari bagan penyelesaian masalah kebocoran arus dengan penggunaan material high-k serta gerbang metal

Penggunaan materi high-k dan metal gate pada prosesor memberikan banyak keuntungan dibandingkan dengan transistor tradisional pada arsitektur yang lama. Keuntungan-keuntungan tersebut adalah: 1. Menyusutkan ukuran transistor sampai dua kali lipat. Ini berarti Intel dapat menempatkan lebih banyak lagi transistor. Dengan demikian, Intel memiliki alternatif untuk membuat chip prosesor yang lebih kecil lagi, atau menempatkan lebih banyak transistor ke dalam chip yang berukuran sama dengan chip prosesor pada arsitektur sebelumnya. 2. Penurunan daya sebesar 30 persen untuk proses switching pada transistor.

29 | TEKNOLOGI PROSES 45nm BERBASIS TRANSISTOR HIGH-K DAN METAL GATE PADA PENRYN

3.

Turunnya waktu proses (switching) pada transistor sebanyak 20 persen (atau peningkatan proses switching sebanyak 20 persen), atau penurunan kebocoran arus sebesar 5 persen.

4.

Penurunan kebocoran pada gerbang transistor sebanyak 10 kali.

Kombinasi high-k material dan metal gate pada transistor ini masih dipertahankan sampai Intel merilis arsitektur terbaru mereka pada tahun 2011 (tahun ini), Sandy Bridge.

30 | TEKNOLOGI PROSES 45nm BERBASIS TRANSISTOR HIGH-K DAN METAL GATE PADA PENRYN

DIE SHRINKING 45nm: PENRYN

Penryn adalah prosesor (keluarga prosesor) pertama yang difabrikasi dengan teknologi proses 45nm, menggunakan transistor HK+MG yang merupakan teknologi baru dalam sejarah perjalanan industri mikrochip. 45nm menyatakan 45 nanometer, ukuran fisik dari masing- masing transistor yang ditanam ke dalam sebuah chip. Penryn adalah versi die shrink
(penyusutan) dari arsitektur sebelumnya. Jika pada Merom adalah 65nm, maka Penryn mengalami penyusutan sampai 45nm. Sebagai perbandingan, jika pada prosesor Merom terdapat sekitar 582 juta transistor, maka prosesor keluarga Penryn menampung sekitar 820 juta transistor di dalam tiap kepingnya. Ukuran transistor ini memiliki peranan penting dalam mempercepat kinerja proses switching pada prosesor. Dalam keluarga Penryn, kerapatan 45nm ini menjadikan satu buah transistor dapat melakukan proses switching sebanyak 300 miliar dalam satu detik. Kecepatan clock dapat ditingkatkan hingga 25 persen, dan kinerja dapat didongkrak sampai 35 persen.

Foto die Penryn 45nm Pada 27 Januari 2007, Penryn secara resmi diperkenalkan oleh Intel kepada publik. Penryn dirilis dengan beberapa varian, Dual-Core (410 juta transistor) dan Quad-Core (820 juta transistor). Varian-varian tersebut terdiri dari 16 prosesor, yang diperuntukkan untuk desktop (QX960), server (Xeon 5400 45nm), PDA dan mobile.

31 | TEKNOLOGI PROSES 45nm BERBASIS TRANSISTOR HIGH-K DAN METAL GATE PADA PENRYN

ADA APA SETELAH 45nm?

Seperti yang kita ketahui, perkembangan selanjutnya dari teknologi proses 45nm dengan Penryn sebagai pelopornya adalah Nehalem dan Sandy Bridge. Nehalem adalah mikroarsitektur hasil pengembangan Penryn, dan Sandy Bridge adalah pengembangan teknologi proses dari Nehalem (perhatikan diagram Tick-tock development model pada pembahasan sebelumnya). Sesuai dengan roadmap pengembangan Intel, kita akan mendapatkan Ivy Bridge, Larabee, Haswell dan lain- lainya di masa depan. Semuanya masih menggunakan konsep Tick-tock development model.

Roadmap (perjalanan) teknologi intel dari edisi Penryn ke tahun 2015 mendatang. Seiring dengan pergantian mikroarsitektur Intel, dan dengan pola pengembangan teknologi proses yang demikian dinamis, jumlah transistor di dalam prosesor pun meningkat drastis, sesuai dengan penurunan ukuran fisik tra nsistor tiap dua tahun. Hal ini menggenapi dan meneruskan Hukum Moore itu sendiri. Dan salah satu aspek yang paling penting, selain dari sisi teknis, bahwa fabrikasi mikroprosesor pun dapat berjalan dengan lancar karena biaya produksi lebih dapat ditekan. Berikutnya, adalah pertanyaan besar. Terobosan apa lagi, bentuk teknologi baru apa lagi yang harus diusung saat perkembangan prosesor semakin maju ke depan? Setelah terobosan teknologi transistor HK+MG dibuat oleh Intel, tidak mustahil jika akan ada revolusi lainnya yang terjadi untuk memenuhi Hukum Moore dan kebutuhan proses mikrochip pada umumnya.

32 | TEKNOLOGI PROSES 45nm BERBASIS TRANSISTOR HIGH-K DAN METAL GATE PADA PENRYN

Ukuran transistor sampai pada tahun 2011 telah menyusut sampai angka 22nm. Dan pada pertengahan tahun ini, Intel kembali membuat sejarah dengan mengumumkan has il penelitian mereka mengenai konsep teknologi transistor Tri-Gate, atau transistor 3D Tri-Gate. Rencananya, transistor ini akan digunakan dalam arsitektur berikut, Ivy Bridge, dengan teknologi proses 22nm. Transistor ini dijanjikan akan memiliki kecepatan yang jauh lebih tinggi bahkan dibandingkan dengan transistor yang ada sekarang ini. Meskipun demikian, untuk beberapa waktu ke depan, material dasar pembuatan komponen transistor pabrikan Intel sepertinya belum mengalami perubahan berarti. Terobosan HK+MG pada transistor modern masih menjadi tumpuan sampai beberapa tahun ke depan.

33 | TEKNOLOGI PROSES 45nm BERBASIS TRANSISTOR HIGH-K DAN METAL GATE PADA PENRYN

KESIMPULAN

Setelah membahas berbagai masalah dan perkembangan teknologi sesuai dengan judul tulisan ilmiah yang diajukan, ada beberapa hal yang dapat diuraikan sebagai kesimpulan akhir mengenai tulisan ini. Kesimpulan-kesimpulan tersebut adalah sebagai berikut : 1. Perlu ada pe mahaman yang seimbang mengenai Hukum Moore. Pemahaman Hukum Moore harus diseimbangkan antara sisi bisnis dan sisi teknis. Selama ini banyak pihak yang hanya melihat Hukum Moore sebagai panduan teknis saja. Hal ini penting, sebab perhitungan faktor bisnis harus dipertimbangkan secara matang sebelum sebuah penelitian dan pengembangan teknologi dilakukan.

2. Transistor HK+MG adalah salah satu terobosan ilmiah berharga sepanjang sejarah. Tidak berlebihan apabila disebutkan bahwa kita bisa saja belum dapat memasuki era multicore jika terobosan ini tidak dilakukan oleh Intel (dan kemudian akan diikuti oleh IBM serta AMD). Penggunaan hafnium dan metal sebagai material dasar pembuatan komponen transistor telah membawa dua keuntungan, yakni penekanan biaya produksi dan peningkatan kinerja transistor. Selain itu, penemuan ini telah menjamin bahwa pengembangan mikroprosesor berdasarkan Hukum Moore akan berjalan lebih lama lagi.

3. Penryn adalah salah satu penge mbangan mikroarsitektur yang penting dalam sejarah Intel. Jika dilihat dari peta perjalanan prosesor Intel berdasarkan model pengembangan Tick-tock, Penryn berada di dalam fase tick, yakni fase rekonstruksi teknologi proses. Ini berarti semua perubahan teknis (teknologi proses) yang terjadi pada Penryn akan mempengaruhi mikroarsitektur berikutnya (pada fase tock, kita kenal sekarang dengan nama Nehalem). Di samping itu, Penryn adalah tick pertama, dan juga prosesor pertama dalam sejarah yang menggunakan transistor HK+MG serta berteknologi proses 45nm. Material HK+MG di dalam transistortransistor Penryn masih digunakan sampai sekarang.

34 | TEKNOLOGI PROSES 45nm BERBASIS TRANSISTOR HIGH-K DAN METAL GATE PADA PENRYN

4. Perlu ada tinjauan khusus menge nai teknologi baru mengenai transistor. Seiring dengan perkembangan, mikrochip harus menyesuaikan diri dengan kebutuhan para penggunanya. Semakin kecil ukuran sebuah chip, maka akan semakin mudah pula untuk mengimplementasikan teknologinya terhadap berbagai platform dan bentuk kebutuhan. Bukan tidak mungkin, ada perkembanganperkembangan baru di dalam lingkungan teknologi proses dan transistor. Suatu saat nanti, ukuran transistor akan semakin kecil dan besar kemungkinan akan ada teknologi baru untuk menggantikan material transistor yang sekarang ini kita kenali.

35 | TEKNOLOGI PROSES 45nm BERBASIS TRANSISTOR HIGH-K DAN METAL GATE PADA PENRYN

DAFTAR PUSTAKA

1. 2.

http://en.wikipedia.org/wiki/Microarchitecture, diakses pada tanggal 15 Oktober 2011. Shriver, Bruce dan Smith, Bennet. The Anatomy of a High Performance Microprocessor: A Systems Perspective. Isi dikutip dari http://www.deepakalur.com/blog/2005/04/25/what-is-a-micro-architecture/, diakses pada tanggal 15 Oktober 2011.

3. 4. 5.

http://en.wikipedia.org/wiki/CPU_design, diakses pada tanggal 15 Oktober 2011. http://en.wikipedia.org/wiki/Microprocessor, diakses pada tanggal 16 Oktober 2011. http://en.wikipedia.org/wiki/Intel_Core_%28microarchitecture%29, diakses tanggal 16 Oktober 2011.

6.

http://en.wikipedia.org/wiki/List_of_Intel_CPU_microarchitectures#x86_microarchitect ures, diakses pada tanggal 16 Oktober 2011.

7. 8.

http://en.wikipedia.org/wiki/Intel_Tick-Tock, diakses pada tanggal 16 Oktober 2011. Purbo, Onno W. Dasar-dasar Transistor MOSFET, (http://kambing.ac.id/onnopurbo/, didownload pada tanggal 17 Oktober 2011).

9.

Fontaine, Roy. Intel Transistor Innovation (Online). 17 Oktober 2007, (http://www.chipworks.com/en/technical-competitive-analysis/resources/technologyblog/2007/10/intel-transistor- innovation-part-1/, diakses pada tanggal 17 Oktober 2011)

10. Fontaine, Roy. The Path from Pentium to Penryn (Online). 22 Oktober 2007, (http://www.chipworks.com/en/technical-competitive-analysis/resources/technologyblog/2007/10/the-path- from-pentium-to-penryn-part-2/, diakses pada tanggal 17 Oktober 2011). 11. Stokes, Jon. Understanding Moores Law (Online). 20 Februari 2003, (http://arstechnica.com/hardware/news/2008/09/moore.ars, diakses tanggal 18 Oktober 2011). 12. Bohr, Mark, Chau, Robert, Ghani, Tahir dan Mistry, Kaizad. The High-k Solution (Online). Oktober 2007, (http://spectrum.ieee.org/semiconductors/design/the- highksolution/0, diakses pada tanggal 19 Oktober 2011).

36 | TEKNOLOGI PROSES 45nm BERBASIS TRANSISTOR HIGH-K DAN METAL GATE PADA PENRYN

13. Kanter, David. Intels 45nm Surprise: High-k Dielectrics dan Metal Gates (Online). 27 Januari 2007, (http://www.realworldtech.com/page.cfm?ArticleID=RWT012707024759, diakses tanggal 19 Oktober 2011). 14. Smalley, Tim. Intel 45nm Technology Overview (Online). 27 Januari 2007, (http://www.bittech.net/hardware/cpus/2007/01/27/intel_45nm_technology_overview/1, diakses pada tanggal 19 Oktober 2011).

37 | TEKNOLOGI PROSES 45nm BERBASIS TRANSISTOR HIGH-K DAN METAL GATE PADA PENRYN