Anda di halaman 1dari 9

Heat & Surface Treatment

CVD, PVD, Electroless, and Thermal Spray

Dewi Lestari Natalia 1006704530

Departemen Teknik Metalurgi dan Material Fakultas Teknik Universitas Indonesia 2012

SURFACE TREATMET CVD dan PVD


Pelapisan atau coating merupakan salah satu metode untuk mendapatkan bentuk dan sifat baru dari suatu material. Hingga saat ini ada beberapa teknologi yang cukup famliar dikembangkan dibidang industri. Setiap jenis coating memilki sifat hasil pelapisan yang berbeda sesuai dengan prinsip dasar pelapisannya. Hal ini yang menyebabkan penggunaan metode coating dalam aplikasi industri dan riset berbeda beda. Tujuan dilakukannya pelapisan adalah untuk memperbaiki: --Sifat ketahan aus, dari perkakas potong, bantalan --Konduktivitas listrik, dari komponen elektronik --Sifat optik, dari bahan kaca dan plastik --Ketahanan korosi, dari komponen industri kimia Hingga saat ini ada beberapa teknologi yang cukup famliar dikembangkan dibidang industri. Beberapa diantaranya antara lain: chemical vapor deposition (CVD), physical vapor deposition (PVD), electroplating, spraying, dan spin coating. Metoda pelapisan permukaan dengan cara mengendapkan logam atau senyawa logam ke permukaan komponen melalui fasa uap didalam bejana tertutup. Dua cara, yaitu: melalui dekomposisi/reaksi kimia disekitar permukaan komponen (CVD) atau peristiwa kondensasi fisika (PVD).
Kondisi vakum / bertekanan rendah

Gambar 1. Kondisi pelapisan fasa uap

1|Page

A. Chemical Vapor Deposition (CVD) CVD merupakan proses pengendapan senyawa / unsur terjadi akibat reaksi dekomposisi kimia akibat aktivasi termal di seputar komponen yang dilapisi. Pada proses CVD, substrat diletakkan di depan pada satu atau lebih prekursor yang bereaksi pada permukaan substrat untuk menghasilkan deposit yang diinginkan, kemudian dikeluarkan oleh aliran gas melalui reaksi ruangan. CVD dilakukan dalam reaktor, yang terdiri dari : sistem suplai reaktan (reactant supply system), ruang deposisi (deposition chamber), dan sistem daur ulang (recycle/disposal system)

Gambar 2. Reaktor CVD thermal

Gas-gas dari sistem suplai reaktan dimasukkan ke dalam ruang deposisi. Karena temperatur cukup tinggi, maka gas-gas tersebut akan berdekomposisi membentuk lapisan di atas permu-kaan bendakerja (substrat). Limbah beracun, korosif, dan/atau mudah terbakar di-kumpulkan dan diproses dalam sistem daur ulang.

Gambar 3. Skema chemical vapor deposition (CVD)

2|Page

A.1 Aplikasi Penggunaan CVD Baru-baru ini, para ilmuwan telah dapat menciptakan berlian sintetis yang berhasil meniru kekuatan batu alam. Ini dilakukan dengan menggunakan dua metode: suhu dan tekanan yang tinggi (HPHT=high presure and temperature), serta pengendapan uap kimia (CVD = chemical vapor deposition), yang mengendapkan lapisan berlian ke dalam bahan dasar yang padat. Lapisan berlian yang diciptakan dengan CVD dapat digunakan dalam berbagai bidang seperti tribologi (ilmu pengetahuan dan teknologi gaya gesek dan pelumasan), lapisan anti karat, elektroda, lensa optik, mesin pendingin, gas, sensor partikel, dan pelapis untuk alat kedokteran. Pelapisan emas juga bisa menggunakan proses CVD. Pelapisan emas dengan CVD dapat menghasilkan lapisan emas dengan ketebalan yang sangat tipis. Ketangguhan dari lapisan emas bergantung pada ketebalan lapisan, namun dapat ditingkatkan dengan suatu metode tertentu. Selain digunakan dalam pelapisan emas, CVD juga dapat digunakan untuk memproduksi intan secara sintetik. Di bawah ini terdapat tabel aplikasi CVD hard coating pada material yang berbeda-beda serta umur pakai dan waktu perbaikannya: Umur Pakai Rata-Rata (Stroke) Non-Lapis Lapis 20.000 1.500.000 150 11.000 100.000 4950 2000 3000 1500 1000 200.000 1000 100.000 1.000.000 23.000 70.000 9000 4500 4000 1.000.000

Jenis perkakas Draw die Cut off tool Trim die Thread rolling die Form tool Extrusion punch Tap Class C hob Drill Minting collars

Material D2 M2 M2 D2 M2 M2 M2 M2 M2 D2

Perbaikan 75X 6,3X 9,1X 10X 4,6X 35X 3X 3X 4X 5X

3|Page

B. Physical Vapor Deposition (PVD) PVD merupakan proses pengendapan senyawa / unsur terjadi akibat peristiwa kondensasi fisika. PVD digunakan untuk meningkatkan kekerasan dan daya tahan terhadap keausan, mengurangi efek gesekan, dan meningkatkan daya tahan terhadap oksidasi. Mekanismenya target material ditembaki dengan energi agar atom- atomny lepas kemudian ditransferkan dan didepositkan pada material yang ingin di lapiskan. Namun, PVD juga memiliki kelemahan yaitu beberapa proses memerlukan tekanan dan temperatur yang tinggi, proses pada suhu yang tinggi memerlukan sistem pendinginan yang mahal, dan biasanya kecepatan deposisi cukup lambat.

Gambar 4. Skema PVD Pelapisan PVD dilakukan dalam ruang hampa dimana material pelapis dirubah ke fase uap dan dideposisikan pada permukaan material dasar sehingga terjadi lapisan yang sangat tipis (thin film). Terdapat 3 jenis mekanisme PVD : penguapan dalam ruang hampa (vacuum evaporation) pemercikan/pancaran partikel atom (sputtering) pelapisan ion (ion plating)

B. 1 Aplikasi Penggunaan PVD Proses Sputtering termasuk dalam bagian Physical Vapor Deposition (PVD), sputtering ini telah terbukti mampu meningkatkan kekerasan permukaan baik itu bahan logam, non logam, keramik maupun
4|Page

polimer. Aplikasi dari teknik pelapisan dengan sputtering ini salah satunya adalah pada material alat potong (cutting tools). Alat potong ini digunakan dalam proses pemesinan yang digunakan untuk membuat komponen mesin. Beberapa dari ciri dari alat potong adalah harus memiliki ketahanan aus yang baik, kekerasan yang tinggi dan memiliki kecepatan potong yang tinggi pula. Salah satu alat potong yang masih banyak digukan dalam industri-industri manufaktur adalah baja kecepatan tinggi atau sering disebut pahat HSS (High Speed Steel). Selain itu PVD sebagai pelapis dapat digunakan berbagai macam material seperti paduan (alloy), keramik, dan senyawa unorganik lainnya, dan juga dapat digunakan plastik. Sedang material dasar yang dilapisi, dapat berupa logam, gelas, dan plastik. Selain itu PVD dalam digunakan dalam pemakaian : 1. proses pelapisan anti refleksi pada lensa optik 2. rangkaian penghubung dalam integrated circuit (IC) 3. proses pelapisan perkakas potong dengan TiN 4. proses pelapisan pada cetakan plastik

5|Page

ELECTROLESS DAN THERMAL SPRAY


A. Electroless Elestroless merupakan salah satu metode pelapisan logam. Elestroless banyak digunakan dalam logam Nikel. Elektroless Nikel ( ENi ) adalah proses plating yang tidak menggunakan sumber arus listrik, merupakan proses otokatalitik yaitu terjadinya endapan yang kontinu karena reduksi kimia dari ion nikel yang berasal dari dalam larutan dengan bantuan zat reduktor yang juga terkandung di dalam larutan. Pelapisan yang terjadi karena adanya reaksi oksidasi dan reduksi pada permukaan barang, sehingga terbentuk lapisan logam yang berasal dari garam logam tersebut. Karena tidak menggunakan bantuan arus listrik dalam pertukaran elektron, proses pelapisan yang terjadi berjalan lebih lambat, sehingga untuk mempercepat pelapisan, temperatur proses harus tinggi, bisa mencapai 90oC. Hasil Lapisan pada Electroless Nickel bukan berupa lapisan Nickel murni, melainkan berupa alloy. Adapun jenis alloynya tergantung pada jenis pereduksinya. Bila menggunakan sodium hypophosphite, maka terbentuk alloy Phosphorus-Nickel (3 5 % Phosphorus), dan bila menggunakan Sodium Borohydrate atau Amine Borane terbentuk alloy Boron-Nickel (5 7 % Boron). Lapisan phosphorus-nickel dengan proses lebih lanjut dapat menghasilkan lapisan ultra black nickel yang mempunyai daya absorbs panas matahari yang sangat tinggi, sehingga bisa digunakan untuk melapisi pipa tembaga dari solar water heater. Salah satu keunggulan lapisan hasil electroless bila dibandingkan dengan Iapisan hasil elektroplating terletak pada lapisannya. Lapisan electroless memiliki ketebalan yang serba sama di setiap bagian permukaan dengan bentuk dan geometri yang kompleks. Merniliki sifat.-sifat maupun mekanik yang sangat baik antara lain ketahanan korosi yang tinggi, ketahanan aus, kekerasan permukaan, sifat magnetik, dan tahanan listrik (electrical resistivity). Proses ENi dapat dilakukan pada beberapa jenis logam dasar, misal baja karbon, baja baja tahan karat, aluminium, tembaga dan paduannya bahkan bisa juga dilakukan pada plastik. Aplikasi produk ENi antara lain pada industri elektronika, komputer, otomotif, kimia dll.

6|Page

B. Thermal Spray Thermal spray dapat menghasilkan lapisan dengan ketebalan (kisaran ketebalan sekitar adalah 20 mikrometer hingga beberapa mm, tergantung pada proses dan material pelapis), dan area yang luas dengan laju deposisi yang tinggi dibandingkan dengan proses pelapisan lainnya seperti elektroplating, CVD, dan PVD. Material pelapis yang tersedia untuk thermal spray yaitu logam, paduan, keramik, plastik dan komposit. Material pelapis tersebut dalam bentuk powder atau kawat, yang dipanaskan ke keadaan cair atau semimolten dan dipercepat terhadap substrat dalam bentuk mikrometer-ukuran partikel. Pembakaran atau debit electrical arc biasanya digunakan sebagai sumber energi untuk penyemprotan termal. Pelapis yang dihasilkan dibuat oleh akumulasi partikel-partikel yang disemprotkan.

Gambar 5. Schematic Diagram of Thermal Spray Metal Coating

Kualitas coating biasanya dinilai dengan mengukurnya melalui porositas, oksida konten, makro dan mikro hardness, kekuatan ikatan, dan kekasaran permukaan. Umumnya kualitas lapisan meningkat dengan meningkatnya kecepatan partikel. Beberapa aplikasi thermal spray coating meliputi:

Perlindungan korosi pada struktur dan komponen (misalnya jembatan,

platform lepas pantai, LPG botol) dengan lapisan aluminium atau seng. Aluminium memiliki harga yang lebih mahal, namun memiliki ketahanan untuk atmosfer gas asam (seperti yang terkait dengan produk pembakaran bahan bakar fosil), serta solusi yang netral, seperti air garam. Sedangkan penggunaan seng karena memiliki ketahanan terhadap korosi basa. Flame

7|Page

spraying juga digunakan untuk menyemprot sebagai ketahanan korosi pelapis polimer termoplastik.

Reklamasi worn

shafts,

terutama

pada

bagian

bantalan (bearing

areas)dengan penggunaan bahan seperti stainless steel atau paduan perunggu. Lapisan yang dihasilkan cukup berpori dan pelumas dapat diserap ke dalam lapisan, sehingga meningkatkan kinerja bantalan (bearing). Dua bidang utama yang mempengaruhi kualitas coating yaitu persiapan permukaan dan parameter penyemprotan. Persiapan permukaan adalah penting untuk adhesi coating dan dapat mempengaruhi kinerja korosi pada lapisan. Faktor utama adalah profil grit blast dan kontaminasi permukaan. Parameter penyemprotan lebih cenderung mempengaruhi mikrostruktur lapisan dan juga akan mempengaruhi kinerja lapisan. Parameter penting diantaranya gun untuk orientasi substrat dan jarak, laju aliran gas dan laju powder feed. Ikatan lapisan disemprotkan dalam kondisi termal sebagian besar dilakukan secara mekanik. Bagaimanapun, ini tidak memungkinkan bond strength untuk tetap stabil pada material substrat. Ada perbedaan signifikan misalnya antara penyemprotan ke baja karbon dan stainless steel. Hal ini mungkin karena oksida permukaan atau ekspansi termal, dan faktor-faktor tersebut harus dipertimbangkan sebelum diterapkan pada lapisan.

Referensi: http://www.metalindoabadi.com/electroless-nickel/ http://www.electrochempune.com/electroless-nickel-plating.html


www.scribd.com/doc/110888167/PVD-dan-CVD Lecturer Notes Heat and Surface Treatment 8|Page