Laporan Sementara

Praktikum Kimia Fisika

ELEKTROPLATING
Kelompok A-6
M. Nanda Faria

(0904103010006)

Rizki Amalia

(0904103010011)

Syeh Syairazi

(0904103010044)

Yuliana SY

(0904103010068)

LABORATORIUM TEKNIK LINGKUNGAN

JURUSAN TEKNIK KIMIA
FAKULTAS TEKNIK UNIVERSITAS SYIAH KUALA
DARUSSALAM, BANDA ACEH

2010
BAB I
DATA PENGAMATAN
Tabel 1.1 Laju pelapisan Cu terhadap Zn dengan konsentrasi larutan CuSO4
Konsentras
W Cu (gram)
W Zn (gram)
Waktu Kuat Arus
i
(menit)
(mA)
awal
akhir
awal
akhir
CuSO4 (N)
15
0,231
0,229
0,772
0,773
1
10
30
0,265
0,263
0,838
0,839
35
0,170
0,168
0,790
0,791
15
0,212
0,210
0,778
0,780
1,5
10
30
0,280
0,275
0,805
0,807
35
0,238
0,234
0,781
0,783
0,243
0,241
0,857
0,860
15
2
10
30
0,24
0,236
0,798
0,802
35
0,25
0,247
0,788
0,792

BAB II
HASIL DAN PEMBAHASAN

2.1 Pengolahan Data

Tabel 2.1. Perbandingan perubahan berat logam dan berat teoritis.
Berat Logam Percobaan
Berat Logam Teoritis
Kuat
Konsentrasi
(gram)
(gram)
Arus
(N)
(mA)
WCu
WZn
WCu
WZn
1

1,5

15

0,0012

0,0014

0,0029

0,00309

30

0,0018

0,0015

0,0059

0,00609

35

0,0019

0,0015

0,0069

0,0071

15

0,0012

0,0022

0,0029

0,00304

30

0,0046

0,0021

0,0059

0,00609

35

0,0037

0,0027

0,0069

0,0071

15

0,0014

0,0025

0,0029

0,00304

30

0,0041

0,0042

0,0059

0,00609

35

0,0033

0,0044

0,0069

0,0071

Tabel 2.2 Pehitungan persen kesalahan dan efesiensi plating.

Kuat
Persen Kesalahan (%)
Efesiensi Plating (%)
Konsentrasi
Arus
(N)
-WCu
WCu
-WCu
WZn
(mA)
15
58,62
41,37
41,37
54,69
1

1,5

30

69,49

30,50

30,50

75,36

35

72,46

27,53

27,53

78,87

15

58,62

54,54

54,54

27,63

30

22,03

75,53

75,53

65,51

35

46,37

53,62

53,62

61,97

15

51,72

48,27

48,27

17,76

30

30,50

69,49

69,49

31,03

35

52,17

47,82

47,82

38,02

2.2 Pembahasan
Elektroplating merupakan proses pelapisan suatu logam untuk mencegah
terjadinya korosi. Korosi dapat digambarkan sebagai sel galvani yang mengalami

hubungan pendek, sehingga karat terbentuk pada katoda. Korosi dapat dicegah
dengan metode pelapisan dengan plastik, metode galvanisasi, dan metode
menggunakan anoda korban. Pada percobaan ini, metode yang digunakan yaitu
metode galvanisasi. Metode galvanisasi merupakan metode pelapisan suatu logam
dengan menggunakan logam lain yang lebih reduktor (Dogra, 1990).
Korosi merupakan proses elektro kimiawi dua macam metal yang berbeda
potensial dihubungkan langsung di dalam elektrolit sama. Dimana electron
mengalir dari metal kurang mulia (anodik) menuju metal yang lebih mulia
(katodik), akibatnya metal yang kurang mulia berubah menjadi ion-ion positif
karena kehilangan electron. Ion-ion positif metal bereaksi dengan ion negatif yang
berada di dalam elektrolit menjadi garam metal. Karena peristiwa

tersebut,

permukaan anoda kehilangan metal sehingga terbentuklah sumur - sumur karat

(surface attack) atau serangan karat permukaan. Sel galvanik tidak berhubungan
langsung walaupun keduanya berada di dalam elektrolit yang sama (open circuit).
Standar electromotive ini dapat berubah akibat pengaruh perubahan suhu,
perubahan konsentrasi zat-zat yang terlarut, kondisi permukaan elektroda,
kotoran/sampah pada elektroda dan lain- lain (Suarsana, 2008).
Proses elektroplating pada dasarnya sama dengan pemurnian logam secara
elektrolisis. Pada proses elektroplating reaksi tidak dapat berjalan secara spontan
sehingga memerlukan energi listrik agar proses dapat berlangsung. Energi yang
dipergunakan pada proses elektroplating berasal dari arus listrik searah. Pada
proses elektroplating terjadi transfer energi dari energi listrik menjadi energi kimia
dan terjadi transfer elektron dari anoda ke katoda. Pada anoda terjadi reaksi
oksidasi, sedangkan pada katoda terjadi reaksi reduksi (Handayani, 2003).
Elektroplating juga merupakan suatu proses pengerjaan permukaan
material baik logam maupun bukan logam dan upaya meningkatkan sifat-sifat
material tersebut. Sifat-sifat yang ditingkatkan adalah penggabungan sifat-sifat
seperti berikut :
a.
b.
c.
d.

Daya tahan korosi (corrosion resistence)

Tampak rupa (appearance)
Daya tahan gores / aus (abrasion resistence)
Harga / nilai (value)

e.
f.
g.
h.
i.
j.

Mampu solder (solderability)

Karet pengikat (bonding of rubber)
Daya kontak listrik (electrcal contact resistence)
Mampu pantul / bias cahaya (reflectivity)
Penyebaran rintangan (diffusion barrier)
Mampu sikat kawat (wive bondability)
Prinsip kerja electroplating sama dengan proses

elektrolisa

yang

merupakan suatu rangkaian yang terdiri dari rectifier (sumber arus searah), anoda,
katoda (benda kerja), larutan elektrolit. Rangkaian disusun sedemikian rupa
sehingga membentuk sebuah sistem sebagai berikut :
a. Anoda (pelapis) dihubungkan pada kutub positif sumber arus listrik .
b. Katoda (benda kerja) dihubungkan pada kutub negatif sumber arus listrik.
c. Anoda dan katoda dicelupkan ke dalam bak atau bejana yang berisi larutan
elektrolit (Arsianto, 1995).
Skema elektroplating merupakan skema perpindahan ion
logam dengan bantuan arus listrik melalui larutan elektrolit
sehinnga ion logam mengendap pada benda padat yang akan
dilapisi. Ion logam diperoleh dari elektrolit maupun berasal dari
pelarutan anoda logam di dalam elektrolit. Mekanisme terjadinya
pelapisan logam adalah dimulai dari dikelilinginya ion-ion logam
oleh molekul-molekul pelarut yang mengalami polarisasi. Di
dekat permukaan katoda, terbentuk daerah Electrical Double
Layer (EDL) yang bertindak seperti lapisan dielektrik. Adanya
lapisan EDL memberi beban tambahan bagi ion-ion untuk
menembusnya. Dengan gaya dorong beda potensial listrik dari
DC dan dibantu oleh reaksi-reaksi kimia, ion-ion logam akan
menuju permukaan katoda dan menangkap electron dari katoda,
sambil mendeposisikan diri di permukaan katoda. Dalam kondisi
equilibrium, setelah ion-ion mengalami discharge menjadi atomatom kemudian akan menempatkan diri pada permukaan katoda
dengan mula-mula menyesuaikan mengikuti susunan atom dari

material katoda hingga

melapisi secara sempurna permukaan

kato (Annonimous, 2010).

Pada percobaan ini akan terjadi laju pelapisan oleh logam Cu terhadap
logam Zn. Arus listrik dihubungkan pada logam Cu dan Zn lalu dicelupkan
kedalam larutan elektrolit CuSO4 agar dapat terjadi perpindahan elektron yang
menghasilkan reaksi kimia. Arus listrik yang dihubungkan pada logam tersebut
berfungsi untuk berlangsungnya reaksi redoks yang tidak spontan. Larutan
elektrolitmerupakan larutan yang dapat menghantarkan arus listrik, pada
percobaan digunakan CuSO4 untuk memudahkan atau melancarkan transfer kation
Cu ke Zn karena pada CuSO4 mengandung kation positif Cu (Keenan, 1992).
Pada percobaan, mekanisme terjadinya proses elektroplating dimulai
dengan terlepasnya elektron anoda yaitu Cu (tembaga) yang teroksidasi karena
adanya gaya listrik searah yang diberikan melalui DC (Direct Current) kedalam
larutan CuSO4 yang juga mengandung ion-ion Cu2+ untuk mengantarkan ataupun
sebagi media pengantar ion yang telah dioksidasi di anoda ke Zn (seng) sebagai
katoda untuk direduksi. Elektron Cu pada anoda yang terlepas bergabung dengan
elektron-elektron Cu pada larutan CuSO4 akan mengendap pada katoda Zn,
sehingga Zn akan terlapisi oleh ion-ion Cu.
Sebelum proses pelapisan dilakukan, logam Cu dan logam Zn yang akan
digunakan terlebih dahulu dibersihkan dengan menggunakan amplas. Hal ini
bertujuan untuk menghilangkan korosi atau karatan pada lempengan logam Cu
dan logam Zn yang akan digunakan. Setelah logam Cu dan logam Zn dibersihkan,
logam tersebut ditimbang untuk mengetahui berat awal logam tersebut sebelum
dilakukannya proses elektroplating. Selanjutnya logam Cu dan logam Zn yang
telah ditimbang dihubungkan dengan sumber arus listrik dan dicelupkan ke dalam
larutan elektrolit CuSO4 yang telah dibuat untuk dilakukannya proses
elektroplating. Proses elektroplating ini dilakukan sesuai waktu yang telah
ditentukan. Setelah proses elektroplating, logam Cu dan logam Zn dikeringkan.

Hal ini bertujuan agar pada saat penimbangan kita dapat mengetahui berat logam
secara akurat setelah dilakukannya proses elektroplating (Arsianto, 1995).

W Zn (gram)

WCu 0

WZn

W Cu (gram)

0
1

1.5

Konsentrasi (N)

Gambar 2.1 Grafik hubungan konsentrasi CuSO4 terhadap laju pelapisan

Pada Gambar 2.1 membuktikan bahwa semakin besar konsentrasi larutan
elektrolit maka semakin besar pula laju pelapisan. Hal ini sesuai dengan teori yang
ada, bahwa semakin besar konsentrasi larutan elektrolit yang digunakan maka
semakin besar laju pelapisannya. Larutan dengan konsentrasi yang lebih tinggi
mengandung partikel-partikel yang lebih rapat. Kerapatan ini menyebabkan
partikel mudah bertumbukan sehingga semakin banyak elektron yang berpindah
dari Cu ke Zn. Berdasarkan hasil percobaan yang didapat, pada konsentrasi CuSO4
1 N dengan voltase 15 mA dan waktu pelapisan selama 10 menit, berat logam Zn
yang bertambah sebesar 0,0014 gram. Pada konsentrasi CuSO 4 1,5 N dengan
voltase dan waktu pelapisan yang sama, berat logam Zn yang bertambah sebesar
0,0022 gram. Pada konsentrasi CuSO4 2 N dengan voltase dan waktu pelapisan
yang juga sama, berat logam Zn yang bertambah adalah sebesar 0,0045 gram
(Keenan, 1992).
Selain konsentrasi, faktor lain yang mempengaruhi berat pelapisan adalah
tegangan listrik yang diberikan pada saat pelapisan. Tegangan merupakan hasil
kali kuat arus listrik dengan hambatan, pada tegangan yang sama dengan jarak

yang berbeda maka jumlah aliran arus menjadi berbeda. Sebagaimana yang
ditunjukkan pada Gambar 2.2.
0

0
W Zn (gram)

WZn

W Cu (gram)

WCu 0

0
0

0
10

15

20

25

30

35

40

Arus Listrik (mA)

Gambar 2.2 Hubungan arus terhadap laju pelapisan

Dari Gambar 2.2 di atas menunjukkan bahwa semakin besar tegangan
arus listrik maka semakin besar pula arus yang dihasilkan, dan semakin besar kuat
arus yang dihasilkan akan semakin besar berat pelepasan Cu untuk melapisi Zn.
Data yang diperoleh pada kosentrasi larutan elektrolit 1 N berat logam Cu pada
tegangan 15 mA, 30 mA dan 35 mA serta lamanya pelapisan sepuluh menit
adalah 0,0012 gram, 0,0018 gram dan 0,0019 gram. Maka hal tersebut sesuai
dengan hukum Faraday yang menyatakan massa zat tertentu yang dihasilkan atau
dipakai pada suatu elektroda berbanding lurus dengan jumlah muatan listrik yang
melalui sel (Atkins, 1997).
Hukum Faraday I menyatakan : "massa zat yang terbentuk pada
masing-masing elektroda sebanding dengan kuat arus/arus listrik yang mengalir
pada elektrolisis tersebut".
Rumus:

m=( e . i. t)/96500

Q = i.t
Dimana : m = massa zat yang dihasilkan (gram)
e = berat ekivalen = Ar/Valensi = Mr/Valensi

i = kuat arus listrik (amper)

t = waktu (detik)
Q = muatan listrik (coulomb)
Sedangkan hukum Faraday II menyatakan : "massa dari macam-macam
zat yang diendapkan pada masing-masing elektroda (terbentuk pada masingmasing elektroda) oleh sejumlah arus listrik yang sama banyaknya akan sebanding
dengan berat ekivalen masing-masing zat tersebut."
Rumus: m1 : m2 = e1 : e2
Dimana : m = massa zat (garam)
e = beret ekivalen = Ar/Valensi = Mr/Valensi (Bastian, 2003).
Pada percobaan yang dilakukan untuk proses pelapisan logam Zn dengan
Cu banyak terdapat kesalahan yang terjadi. Persen kesalahan berkisar dari 17 % 79 % dengan rincian pada kesalahan terbesar Cu adalah 72,46 % dengan kuat
arus 35 mA pada konsentrasi larutan elektrolit CuSO4 1 N, sedangkan paling
terendah adalah pada konsentrasi larutan elektrolit 1,5 N dengan voltase 30 mA
yaitu sebesar 22,03 %. Sedangkan pada Zn kesalahan terbesar adalah pada
konsentrasi larutan elektrolit 78,87 % Kesalahan ini terjadi karena beberapa
kemungkinan:
1. Sumber arus tidak bekerja secara efektif dalam mengubah arus bolak balik
menjadi arus searah.
2. Pengeringan

yang

tidak

maksimal

sehingga

dalam

logam

masih

mengandung air.
3. Air yang digunakan untuk membuat larutan elektrolit adalah air yang masih
memungkinkan mengandung ion- ion yang dapat menggangu proses
pelapisan.
4. Kurang bersihnya permukaan logam yang akan dilapisi, karena bersihnya
permukaan logam yang akan dilapisi sangat mempengaruhi berat pelapisan.

5. Dalam praktikum ini pedoman yang dipakai hanya mengacu pada hukum
Faraday 1 sehingga faktor- faktor lain di luar hukum Faraday 1 diabaikan
seperti pH larutan, temperatur, dan jarak kedua elektroda
Dari hasil percobaan yang telah dilakukan, dapat disimpulkan bahwa
faktor-faktor yang mempengaruhi berat pelapisan Cu terhadap Zn antara lain
perbedaan konsentrsi larutan elektrolit yang digunakan dan besarnya voltase
listrik yang diberikan (Sudiar, 2002).

BAB III
KESIMPULAN
Berdasarkan percobaan yang telah dilakukan, maka dapat diambil
beberapa kesimpulan sebagai berikut:
1. Cu bergerak sebagai reduktor. Pada konsentrasi elektrolit CuSO 4 1 N dengan
voltase 15 mA; 30 mA; 35 mA, Cu mengalami penurunan berat setelah
dielektrolisis sebesar 0,0012; 0,0018; 0,0019 gram. Konsentrasi 1,5 N dengan
voltase 15 mA; 30 mA; 35 mA, Cu mengalami penurunan berat setelah
dielektrolisis sebesar 0,0012; 0,0046; 0,0037 gram. Dan pada konsentrasi
elektrolit CuSO4 2 N dengan voltase 15 mA; 30 mA; 35 mA, Cu mengalami
penurunan berat setelah dielektrolisis sebesar 0,0014; 0,0041; 0,0033 gram.
2. Zn bergerak sebagai oksidator. Pada konsentrasi larutan elektrolit 1 N dengan
voltase 15 mA; 30 mA; 35 mA, Zn

mengalami kenaikan berat setelah

dielektrolisis
sebesar 0,0014; 0,0015; 0,0015 gram. konsentrasi 1,5 N dengan voltase 15
mA; 30 mA; 35 mA, Zn mengalami kenaikan berat setelah dielektrolisis
sebesar 0,0022; 0,0021; 0,0027 gram. Dan pada konsentrasi larutan elektrolit
2 N dengan voltase 15 mA; 30 mA; 35 mA, Zn mengalami kenaikan berat
setelah dielektrolisis sebesar 0,0045; 0,0042; 0,0044 gram.
3. Efesiensi kuat arus Cu paling besar adalah pada konsentrasi 1,5 N dan waktu
10 menit dengan voltase 30 mA sebesar 75,53%. Dan paling kecil adalah
pada konsentrasi 1 N dengan voltase 35 mA sebesar 27,53%.

4. Efesiensi kuat arus Zn paling besar adalah pada konsentrasi 2 N dan waktu 10
menit dengan voltase 15 mA sebesar 82,23%. Dan paling kecil adalah pada
konsentrasi 1 N dengan voltase 35 mA sebesar 21,12%.
5. Faktor faktor yang mempengaruhi electroplating adalah kerapatan arus
listrik, konsentrasi elektrolit, jenis elektrolit, dan sifat elektrolit.
6. Persen kesalahan terbesar dan terkecil pada berat Cu adalah 72,46% dan
22,03%. Masing-masing pada konsentrasi 1 N dengan voltase 35 mA, dan 1,5
n dengan voltase 30 mA.
7. Sedangkan

persen kesalahan terbesar dan terkecil pada berat Zn adalah

78,87% dan 17,76%. Masing-masing pada konsentrasi 1 N dengan voltase

35 mA, dan 2 N dengan voltase 15 mA.
DAFTAR PUSTAKA
Annonymous, 2008. Penuntun Praktikum Kimia Fisika. Laboratorium Kimia
Fisika Fakultas Teknik Jurusan Teknik Kimia, Banda Aceh
Annoymous, 2010, Eeltroplating,http://wapedia.mobi/id/Elektroplating,
(Diakses tanggal 06 November 2010, jam 13:31 WIB)
Arifin, B., Ramli, S., Aprillia, S., Nurhayati., Daud, F., Jamil, C A Z., 2003, Diktat
Kuliah Kimia Fisika, Fakultas Teknik, Jurusan Teknik Kimia,
Universitas Syiah Kuala, Darussalam
Arsianto, S. A. 1995. Mengenal Teknik Pelapisan Logam. Bandung : Balai Besar
Atkins. P. W., 1997, Kimia Fisika Edisi keempat Jilid 2, Erlangga, Jakarta
Dogra, 1990, Kimia Fisika dan Soal-soal, UI Press : Jakarta
Handayani, P., 2003, Pengaruh Pengadukan, Tegangan Listrik Dan Waktu
Terhadap Penurunan Konsentrasi Kromium Pada Elektroplating, Skripsi,
Fakultas Teknik, Jurusan Teknik Kimia, Universitas Syiah Kuala,
Darussalam
Keenan, 1992, Kimia Untuk Universitas Edisi Keenam Jilid 2, Erlangga : Jakarta

Suarsana, I Ketut., 2008, Pengaruh Waktu Pelapisan Nikel Pada Tembaga Dalam
Pelapisan Khrom Dekoratif Terhadap Tingka Kecerahan Dan Ketebalan
Lapisan, Jurnal Ilmiah, Fakultas Teknik, Jurusan Teknik Mesin,
Universitas Udayana, Jimbaran Bali

LAMPIRAN B
GRAFIK

0
0

0
0
W Zn (gram)

WCu 0
0

WZn

W Cu (gram)

0
1

1.5

Konsentrasi (N)

Grafik 2.1 Hubungan konsentrasi larutan elektrolit terhadap laju pelapisan pada
arus 15 mA, dan waktu 10 menit.

0.01

0
0

W Zn (gram) 0
WZn

W Cu (gram)

0
WCu
0

0
1

1.5

Konsentrasi (N)

Grafik 2.2 Hubungan konsentrasi larutan elektrolit terhadap laju pelapisan pada
arus 30 mA, dan waktu 10 menit.
0.01

0
W Zn (gram)

0 W Cu (gram)

WZn

WCu 0

0
1

1.5

Konsentrasi (N)

Grafik 2.3 Hubungan konsentrasi larutan elektrolit terhadap laju pelapisan pada
arus 35 mA, dan waktu 10 menit.

0
0

0
0
0

0
0
W Zn (gram) 0

0
WCu
0

WZn

0
0

W Cu (gram)

0
0

0
0

0
10

15

20

25

30

35

40

Arus Listrik (mA)

Grafik 2.4 Hubungan arus listrik terhadap laju pelapisan pada konsentrasi 1 N,
dan waktu 10 menit.

0.01

0.01

0.01
0

0.01
W Zn (gram)

0
WZn

WCu

W Cu (gram)

0
0

0
0

0
10

15

20

25

30

35

40

Arus Listrik (mA)

Grafik 2.5 Hubungan arus listrik terhadap laju pelapisan pada konsentrasi 1, 5 N,
dan waktu 10 menit.

0.01

0
W Zn (gram)

0 W Cu (gram)

WZn

WCu

0
10

15

20

25

30

35

40

Arus Listrik (mA)

Grafik 2.6 Hubungan arus listrik terhadap laju pelapisan pada konsentrasi 2 N,
dan waktu10 menit

0.01
0.01

0.01
0.01

W Cu percobaan (gram)

0
0

W Cu teoritis (gram)

0
0

0
15 25 35
10 20 30 40

Kuat Arus (mA)

W Cu percobaan

W Cu teoritis

Grafik 2.7 Hubungan berat Cu Percobaan dan Cu Teoritis terhadap kuat arus
listrik pada konsentrasi 1 N

0.01
0
0
0
0
0
W Cu percobaan
0
0
0
0
0

0.01
0.01
0.01
0.01
0
0

W Cu teoritis

0
0
0
10 15 20 25 30 35 40
Kuat Arus (mA)

W Cu percobaan

W Cu teoritis

Grafik 2.8 Hubungan berat Cu Percobaan dan Cu Teoritis terhadap kuat arus
listrik pada konsentrasi 1,5 N

0
0
0
0
0
W Cu percobaan 0
0
0
0
0

0.01
0.01
0.01
0.01
0
0
0
0
0
10 15 20 25 30 35 40
Kuat Arus (mA)

W Cu percobaan

W Cu teoritis

W Cu teoritis

Grafik 2.9 Hubungan berat Cu Percobaan dan Cu Teoritis terhadap kuat arus
listrik pada konsentrasi 2 N

0.01
0.01
0.01
0.01
0
W Zn teoritis
0
0
0
0

0
W Zn percobaan

0
0
0
1

1.2

1.4

1.6

1.8

Kuat arus (mA)

W Zn percobaan

W Zn teoritis

Grafik 2.10 Hubungan berat Zn Percobaan dan Zn Teoritis terhadap kuat arus
listrik pada konsentrasi 1 N

W Zn percobaan

0.01

0.01

0.01

0.01

1.5

Kuat arus (mA)

W Zn percobaan

W Zn teoritis

W Zn teoritis

Grafik 2.11 Hubungan berat Zn Percobaan dan Zn Teoritis terhadap kuat arus
listrik pada konsentrasi 1,5 N

0.01

0.01

0.01

0
W Zn percobaan

0
0

0
1

1.5

W Zn teoritis

Kuat arus (mA)

W Zn percobaan

W Zn teoritis

Grafik 2.12 Hubungan berat Zn Percobaan dan Zn Teoritis terhadap kuat arus
listrik pada konsentrasi 2 N

LAMPIRAN C
JAWABAN SOAL
1. Bedakan elektroplating, elektrokimia, dan elektrolisis. Sertakan contohnya
masing-masing!
Jawab:
Elektrokimia adalah metode yang didasarkan pada reaksi redoks, yaitu
gabungan dari reaksi reduksi dan oksidasi, yang berlangsung pada elektroda
yang sama/berbeda dalam suatu sistim elektrokimia. Sistem elektrokimia
meliputi sel elektrokimia dan reaksi elektrokimia. Sel elektrokimia yang

menghasilkan listrik karena terjadinya reaksi spontan di dalamnya di sebut sel

galvani. Sedangkan sel elektrokimia di mana reaksi tak-spontan terjadi di
dalamnya di sebut sel elektrolisis.
Elektrokimia adalah reaksi kimia

yang

menyebabkan

arus

listrik.

Elektroplating adalah pelapisan logam dengan cara mengendapkan logam

pelapis pada logam atau plastik yang dilakukan secara elektrolitik. Elektrolis
adalah proses pemurnian logam (proses pemisahan aniaon/kation dengan
menggunakan arus listrik searah).
Contohnya:
Elektroplating, pelapisan logam Zn oleh logam Cu.
Elektrokimia, baterai (sel kering), acuu.
Elektrolisis, elektroplating (pemurnian logam, penyepuhan).
2. Mengapa dalam praktikum elektroplating Anda menggunakan logam Cu dan
Zn sebagai anoda dan katoda?
Jawab:
Karena nilai potensial elektroda Cu lebih kecil daripada nilai potensial Zn,
sehingga Cu yang melapisi Zn.
3. Jika untuk menghitung berat pelapisan elektroplating (W) adalah W = e.i.t,
dimana e adalah tetapan, i dan t adalah kuat arus dan waktu yang diperlukan
logam untuk melapisi logam lainnya, maka turunkan satuan dari persamaan
tersebut sehingga diperoleh satuan akhir berat (W) dalam gram!
Jawab:
W = e.i.t
BM

i.t
n.F
gram
mol C

mol. C
gram
4. Bagaimana cara membuat larutan CuSO4 1 N sebanyak 100 ml, jika senyawa
kimia yang tersedia dalam bentuk hidrat yaitu CuSO4.5H2O.
Jawab:
Konsentrasi CuSO4 1 N

M=

N CuSO4
valensi

1
2

= 0,5 M

mCuSO4 1000

Mr
V

M CuSO4 Mr CuSO4 V
1000
gram CuSO4 =

0,5 159,5 100

1000

= 7,975 gram

gram CuSO4
MrCuSO4 .5H 2 O
Mr
CuSO
4
gram CuSO4.5H2O =
7,975
249,5 12,475 gram
159,5
=