145
Jurnal
Teknologi Proses
Media Publikasi Karya Ilmiah
Teknik Kimia
Abstrak
Dalam penelitian ini dikembangkan solusi analitik transpor pembawa minoritas dalam daerah silikon
kuasi netral. Sel Surya emiter didoping tinggi, di mana kerapatan doping yang tidak uniform berperan
penting, dianalisis melalui penerapan solusi analitik melalui simulasi peranti model sel surya dioda n+
(x)/p.
Kata kunci: pendopingan tinggi, simulasi peranti, solusi analiti.
Pendahuluan
Suatu peranti photo voltaic yang
dirancang untuk keperluan memperoleh
model sel surya efisiensi tinggi dengan
memanfaatkan teknologi canggih dan untuk
memperoleh model sel surya efisiensi rendah
dengan memanfaatkan teknologi produksi
konsumsi massa, harus dapat menyerap
cahaya secara efisien dalam lapisan semikonduktor yang aktif dan memberikan daya
listrik di beban luar dengan kehilangankehilangan dalam yang minimum. Pada
dasarnya model-model sel surya telah banyak
dikembangkan para peneliti, baik model sel
surya berbahan silikon amorf maupun sel
surya berbahan silikon kristal. Dalam tulisan
ini hanya dibahas pemodelan sel surya kristal
silikon pendopingan tinggi. Model sel surya
kristal pendopingan tinggi mempunyai
efisiensi yang jauh lebih tinggi dari pada
model sel surya silikon amorf. Persoalannya
adalah: biaya memproduksi sel surya silikon
kristal jauh lebih mahal dari pada
memproduksi sel surya silikon amorf.
Namun, mengingat perkembangan teknologi
semikonduktor yang demikian cepat dan
Mara Bangun Harahap / Jurnal Teknologi Proses 5(2) Juli 2006: 142 147
146
Perumusan masalah
Penelitian ini dibatasi pada cara
memperoleh fungsi hubungan kerapatan arus
jenuh keadaan gelap dengan ketebalan untuk
profil doping fungsi pangkat model sel surya
dioda n+ (x)/p.
Tujuan penelitian
Penelitian ini bertujuan untuk: (a)
menganalisis hubungan arus jenuh terhadap
bertambahnya ketebalan emiter model sel
surya dioda n+ (x)/p (b) melihat pengaruh S
(rekombinasi permukaan) pada keadaan (a);
dan (c) kaitan profil pungsi pangkat dengan
profil fungsi eksponen untuk c > 10.
Tinjauan Pustaka
Persamaan transpor pembawa minoritas
dalam material silikon kristal doping
tinggi
Pada bagian ini diuraikan persamaan
transpor pembawa minoritas bahan silikon
kristal tipe N berdasarkan pada hasil analisis
Harahap (1992), yang menghasilkan solusi
umum untuk bahan tersebut. Asumsi yang
diajukan dalam menentukan solusi: (a)
parameter-parameter
transpor
hanya
merupakan fungsi kedalaman (x) dalam
material,
sehingga
transpor
dapat
diperlakukan dalam satu dimensi; (b)
pembahasan dalam kondisi kuasi netral dan
injeksi rendah, sehingga hanya diperlakukan
untuk pembawa minoritas saja; dan (c)
peranti yang dibahas dalam keadaan tunak.
...
(1)
1 d
p
J+ =0
e dx
(2)
E = - VT
d
1 d
ln (N) +
E G
dx
e dx
(3)
(N) = K N -k
(4)
(N) = M N -m
(5)
E G = e f VT ln [
Manfaat penelitian
dp
+e p
dx
N
]
N0
(6)
Pada persamaan (1) sampai dengan
persamaan (6) arti simbol adalah sebagai
berikut: J menyatakan kerapatan arus, yang
terdiri dari jumlah kerapatan arus difusi Jdiff
dan
kerapatan
arus
hanyut
Jdrift;
menyatakan mobilitas hole;
VT =
kT
e
Mara Bangun Harahap / Jurnal Teknologi Proses 5(2) Juli 2006: 142 147
147
VT =
kT
e
Metode Penelitian
Sifat penelitian
Penelitian ini bersifat eksploratif. Dengan
demikian dalam penelitian ini tidak diajukan
hipotesis
penelitian.
Penelitian
ini
menggabungkan pendekatan fisika teoretis dan
fisika komputasional dalam pengembangan
fisika semikonduktor subbidang sel surya.
Parameter-parameter
empiris
yang
disadur dari berbagai literatur dijadikan
sebagai masukan simulasi peranti.
Variabel penelitian
logam
5.1018 cm-3
1017 cm-3
emiter
+
n (x)
basis p
W
Mara Bangun Harahap / Jurnal Teknologi Proses 5(2) Juli 2006: 142 147
148
Prosedur penelitian
Tahap
kedua:
merumuskan
solusi
persamaan transpor minoritas material
semikonduktor.
Himpunan persamaan yang harus
ditentukan solusinya adalah sebagai berikut:
J(x) = Jdiff + Jdrift = - e D
(7)
dp
+e p
dx
1 d
p
J+ =0
e dx
(8)
E = - VT
(9)
d
1 d
ln (N) +
E G
dx
e dx
(N) = K N -k
...
(10)
(N) = M N -m
(11)
E G = e f VT ln [
N
]
N0
149
Mara Bangun Harahap / Jurnal Teknologi Proses 5(2) Juli 2006: 142 147
Pembahasan
Gambar 2 mengungkapkan hubungan
kerapatan arus jenuh keadaan gelap sebagai
fungsi ketebalan. Berdasarkan Gambar 2
diperoleh:
a. Kerapatan arus jenuh berkurang terhadap
bertambahnya ketebalan emiter (namun
berkurangnya sangat kecil [grafik hampir
garis lurus untuk ketebalan w 0,1 m
0,4 m]).
b. Pengaruh harga s tidak muncul (grafik
untuk s = 104 cm/s dangan s 106 cm/s
berimpit).
c. Arus pada ketebalan 0,4 m 9.10-16
A/cm2 atau sekitar 10-15 A/cm2.
Mara Bangun Harahap / Jurnal Teknologi Proses 5(2) Juli 2006: 142 147
150
Daftar Pustaka