Anda di halaman 1dari 5

BAB II

TIJAUAN PUSTAKA

2.1

Definisi Pelapisan
Pelapisan atau electroplating adalah proses mengubah sifat fisis, mekanik,

dan sifat teknologi suatu material. Salah satu contoh perubahan fisik ketika
material dilapis dengan nikel adalah bertambahnya daya tahan material tersebut
terhadap korosi, serta bertambahnya kapasitas konduktifitasnya. Adapun dalam
sifat mekanik, terjadi perubahan kekuatan tarik maupun tekan dari suatu material
sesudah mengalami pelapisan dibandingkan sebelumnya. Karena itu, tujuan
pelapisan logam tidak luput dari tiga hal, yaitu untuk meningkatkan sifat
teknis/mekanis dari suatu logam, yang kedua melindungi logam dari korosi, dan
ketiga memperindah tampilan. Secara sederhana, electroplating dapat diartikan
sebagai proses pelapisan logam, dengan menggunakan bantuan arus listrik dan
senyawa kimia tertentu guna memindahkan partikel logam pelapis ke material
yang hendak dilapis. Secara elektrokimia, prosesnya dapat dilihat pada gambar
dibawah ini.
[http://www.chem-is-try.org/artikel_kimia/teknologi_tepat_guna/teknologipelapisan-logam-secara-listrik]

Gambar II.1 Skema elektrolisis


3

Dengan adanya arus yang mengalir dari sumber maka elektron dialirkan
melalui elektroda positif (anoda) menuju elektroda negatif (katoda). Dengan
adanya ion-ion logam yang didapat dari elektrolit maka menghasilkan logam yang
dapat melapisi permukaan logam lain yang dilapis. Mekanisme terjadinya
pelapisan logam adalah dimulai dari dikelilinginya ion-ion logam oleh molekulmolekul pelarut yang mengalami polarisasi. Di dekat permukaan katoda, terbentuk
daerah Electrical Double Layer (EDL) yang bertindak seperti lapisan dielektrik.
Adanya lapisan EDL memberi beban tambahan bagi ion-ion untuk menembusnya.
Dengan gaya dorong beda potensial listrik dan dibantu oleh reaksi-reaksi kimia,
ion-ion logam akan menuju permukaan katoda dan menangkap electron dari
katoda, sambil mendeposisikan diri di permukaan katoda. Dalam kondisi
equilibrium, setelah ion-ion mengalami discharge menjadi atom-atom kemudian
akan menempatkan diri pada permukaan katoda dengan mula-mula menyesuaikan
mengikuti susunan atom dari material katoda. Ada beberapa hal yang membuat
reaksi elektrolisis menjadi sulit, pertama diharapkan bahwa untuk mengatasi
potensial reaksi reduksi negatif (yang menyebabkan reaksi pada sel spontan)
diperlukan potensial reaksi reduksi dengan jumlah besar yang sama tetapi
berlawanan. Seringkali potensial yang diberikan memulai reaksi jauh lebih besar
pada yang diramalkan teoritis yang perbedaan ini diperlukan untuk memulai
reaksi elektrolisis dengan potensial teoritis dikenal dengan nama over potensial.
Ini merupakan hal yang kedua yang membuat reaksi ini sulit, yang ketiga adalah
sulit untuk menduga reaksi yang terjadi pada elektroda selama proses elektrolisis
berlangsung. Salah satu contoh, dalam larutan ion Na dan OH serta N dan OH dari
air. Hasil dari elektrolisis ini adalah dihasilkan gas hidrogen (H 2) dan gas oksigen
(O2) di dalam air.
[www.wikipedia.org/pelapisan-Cu\]

Beberapa keuntungan dan kerugian dari proses elektroplating ialah:

Kelebihan elektroplating:
1. Temperatur proses rendah
2. Kondisi proses pada lingkungan atmosfir biasa
3. Peralatan relatif murah
4. Komposisi larutan luas
5. Laju pengendapan cepat
6. Porositas pada lapisan, relatif rendah
7. Dapat menghasilkan beberapa lapisan
Kekurangan elektroplating:
1. Terbatas pada logam dan paduannya
2. Perlu perlakuan awal terhadap benda kerja
3. Terbatas pada benda kerja yang bersifat konduktor
[Parning,Horale dan Tiopan.2006]

2.2

Pelapisan Tembaga
Cara pelapisan tembaga-nikel-khrom dengan metode electroplating.

Pelapisan menggunakan arus searah, cara kerjanya mirip dengan elektrolisa


dimana logam pelapis bertindak sebagai anoda, sedangkan logam dasarnya
sebagai katoda. Pengerjaan electroplating tembaga-nikel-khrom pada dasarnya
terbagi atas tiga proses yaitu perlakuan awal, proses pelapisan dan proses
pengolahan akhir hasil electroplating. Proses electroplating ini terdapat tiga jenis

proses pelapisan yaitu yang pertama adalah pelapisan logam dengan tembaga, lalu
dilanjutkan dengan pelapisan nikel dan yang terakhir benda dilapis dengan khrom.
Tembaga atau Cuprum (Cu) merupakan logam yang banyak sekali digunakan,
karena mempunyai sifat hantaran arus dan panas yang baik. Tembaga digunakan
untuk pelapisan dasar karena dapat menutup permukaan bahan yang dilapis
dengan baik.
Tahapan sehingga proses pelapisan dapat terjadi :
1. Sebuah atom dalam larutan atau dalam logam anoda kehilangan
sebuah elektron sehingga berubah menjadi sebuah ion didalam
larutan.
2. Ion yang bermuatan positif ditarik menuju katoda (strip baja yang
akan di lapisi) dan bergerak kearah katoda tersebut.
3. Ion-ion yang mendapatkan elektron pada pemukaan katoda berubah
menjadi atom yang stabil dan berbentuk logam yang diendapkan pada
permukaan katoda/strip baja.
Alasan pemilihan pelapisan tembaga untuk aplikasi ini karena sifat
penutupan lapisan yang bagus dan daya tembus yang tinggi.
Sifat sifat fisika tembaga:
1. Logam berwarna kemerah merahan dan berkilau.
2. Dapat ditempa, dibengkokan dan merupakan penghantar panas dan
listrik.
3. Titik leleh: 1.083 0C dan titik didih: 2.301 0C.
4. Berat jenis tembaga sekitar 8,92 gram/cm3
Sifat-sifat Kimia Tembaga:
1. Dalam udara kering sukar teroksidasi, akan tetapi jika dipanaskan
akan membentuk oksida tembaga (CuO).
2. Dalam udara lembab akan diubah menjadi senyawa karbonat atau
karat basa, menurut reaksi : 2Cu + O2 + CO2 + H2O (CuOH)2 CO3.
3. Tidak dapat bereaksi dengan larutan HCl encer maupun H2SO4 encer.
4. Dapat bereaksi dengan H2SO4 pekat maupun HNO3 encer dan pekat
Cu + H2SO4 CuSO4 +2H2O + SO2 Cu + 4HNO3 pekat Cu(NO3)2
+ 2H2O + 2NO2 3Cu + 8HNO3 encer 3Cu(NO3)2 + 4H2O + 2NO.

5. Pada umumnya lapisan tembaga adalah lapisan dasar yang harus


dilapisi lagi dengan nikel atau khrom. Pada prinsipnya ini merupakan
proses pengendapan logam secara elektrokimia, digunakan listrik arus
searah (DC). Jenis elektrolit yang digunakan adalah tipe alkali dan
tipe asam.
[http://www.chem-is-try.org/materi_kimia/kimia-industri/utilitaspabrik/proses-elektroplating-tembaga-nikel-khrom/]

2.3 Sumber Arus


Sumber arus yang digunakan untuk elektrolisa haruslah mengguanakan
arus searah (DC), karena pelapisan akan terjadi jika hanya menggunakan arus
searah, jika menggunakan arus bolak balik (AC) akan mengacaukan proses
pelapisan, dan pelapisan tak akan berjalan sebagaimana mestinya.