F. Semikonduktor
F. Semikonduktor
1. Definisi
2. Band structure
Semiconductor - a solid in which the highest occupied energy
band, the valence band (VB), is completely full at T = 0K.
However, the gap above this band is small, so that electrons
may be excited thermally at room temperature from the
valence band to the next-higher band the conduction band
(VB).
3. Bahan Semikonduktor :
Trivalent
Logam-logam yang memiliki atom dengan jumlah elektron
terluar 3 buah, misalnya Boron (B), Gallium (Ga), dan Indium
(In).
Tetravalent
Logam-logam yang memiliki atom dengan jumlah elektron
terluar 4 buah, misalnya Silikon (Si) dan Germanium (Ge).
Pentavalent
Logam-logam yang memiliki atom dengan jumlah elektron
terluar 5
buah, misalnya Fospor (P), Arsenikum (Ar), dan
Antimon (Sb).
Fungsi Distribusi
Kerapatan keadaan
elektron dan hole
Banyaknya keadaan energi dalam selang (E, E+dE) adalah De(E) dE, di
mana De(E) kerapatan keadaan elektron. Bila peluang untuk menduduki
suatu keadaan adalah f(E) maka banyaknya elektron dalam selang energi
tersebut adalah f(E)De(E)dE. Konsentrasi elektron dalam pita konduksi
dihitung dari persamaan :
n
f ( E ) D( E )dE
e
Ec
1
e
( E ) / k BT
f e e ( E ) / k BT
untuk Eg ~ 1eV >> kT, substitusi f(E) ke persamaan konsentrasi elektron diperoleh
dengan
mh k BT
n 2
2
2
3/ 2
e ( Ec ) / k BT
5. Jenis Semikonduktor
a. Semikonduktor Intrinsik
Merupakan semikonduktor murni dan tidak cacat.
Contoh Germanium murni.
me k BT
n 2
2
2
3/ 2
e ( Ec ) / k BT
dan
EC EV 3
mh
EF
k BT ln
2
4
me
b. Semikonduktor Ektrinsik
Merupakan semikonduktor yang memperoleh pengotoran atau
penyuntikan (doping) oleh atom asing.
Tujuan doping :
- meningkatkan konduktivitas semikonduktor
- memperoleh semikonduktor dengan hanya satu pembawa
muatan (elektron atau hole) saja
Perbandingan doping :
- atom dopant merupakan atom pengotor yang jumlahnya 10-6
sampai 10-8 kali atom murninya
- atom dopant pada semikonduktor tipe-n adalah pentavalent
dan dinamakan atom donor
- atom dopant pada semikonduktor tipe-p adalah trivalent dan
atom aseptor
2) Semikonduktor tipe-P
- pengotoran oleh atom trivalent seperti B, Ga, In
- atom-atom pengotornya disebut atom aseptor
- pembawa muatannya adalah hole
Semiconductor statistics
Semiconductors usually contain both donors and acceptors
Electrons in the CB can be created either by
thermal interband excitation or
by thermal ionization of the donors.
Holes in the VB may be generated by
interband excitation, or by thermal excitation
of electrons from the VB into the acceptor level.
In addition, electrons may fall from the donor
levels to the acceptor level.
Finding the concentrations of carriers, both electrons and holes, taking all
these processes into account, is quite complicated.
We shall treat a few special cases, which are often encountered in practice.
Intrinsic region:
Carrier concentration is determined primarily by thermally induced
Interband transitions. In this region n = p.
The intrinsic region: the impurity doping is small.
If the concentrations of donors and acceptors are Nd and Na, the
requirement for the validity of the intrinsic condition is: n >>Nd - Na
n increases rapidly with temperature the intrinsic condition becomes
more favorable at higher temperatures.
In fact, all semiconductors become intrinsic at sufficiently high
temperatures (unless the doping is unusually high).
In this case, the carrier concentration is:
ni = p =
Extrinsic region:
For the common doping levels, about 1015 cm -3, the number of carriers
supplied by the impurities is large enough to change the intrinsic
concentration appreciably at room temperature.
Two different types of extrinsic regions may be distinguished.
1) Nd >> Na.
In this case, to a good approximation, n = Nd
Hole concentration p is small. To calculate it, note that
mk T
n 2 e B2
2
3/ 2
mk T
p 2 h B2
2
dan
( E F E g ) / k BT
3/ 2
e E F / k BT
np 4
k BT
2 2
3/ 2
me mh
3/ 2
E g / k BT
n
ni p i
Nd
2
2) Na >> Nd
In this case, p = Na n is small
2
Similarly get
ni
n
Na
n << Na = p
p-type semiconductor
DIODE PERTEMUAN PN
Definisi :
Suatu
pertemuan
pn
adalah
kristal
tunggal
semikonduktor yang pada satu sisinya mendapat
penyuntikan atom aseptor dan pada sisi lainnya
mendapat penyuntikan atom donor yang merupakan blok
bangunan dasar (basic building block) bagi piranti
semikonduktor
Tipe-P
Tipe-N
Diode
Kawat
Kawat
Tipe-P
Logam
Anoda
Tipe-N
Logam
Katoda
Lapisan Pengosongan
b.
Tegangan Penghalang
QUIZ
Pada semikonduktor intrinsik buktikan bahwa :
a. Konsentrasi pembawa muatannya adalah :
k BT
ni pi 2
2
2
3/ 2
(me mh )
3/ 4
E g / 2 k BT
Eg
SEMIKONDUKTOR INTRINSIK
mk T
n 2 e B2
2
3/ 2
e ( E F EC ) / k B T
mh k BT
p 2
2
2
3/ 2
e ( Ev E F ) / k BT
SEMIKONDUKTOR EKSTRINSIK
a. Semikonduktor Tipe-n
Karena Nd >> Na diperoleh :
NC
Nd
E F EC k BT ln
di mana
mk T
N C 2 e B2
2
3/ 2
b. Semikonduktor Tipe-p
Karena Na >> Nd diperoleh :
NV
EF EV k BT ln
Na
di mana
mk T
NV 2 h B2
2
3/ 2
PERSAMBUNGAN PN
(x)
+qNd
-xp
o
xn
-qNa
-xp
-qNaxp/1
xn
-qNdxn/2
Rapat muatan :
(x) = +qNd , O < x xn
= -qNa, -xp x < O
= O ,
di daerah lainnya
Berdasarkan hukum Gauss :
qN d xn qN a x p
(*)
Na 2
xp
21
Nd 2
N
2
xn q a x p
2 2
21
**)
N
V
x p 1 2 d
N a 1 N a 2 N d
q
2
N
V
xn 1 2 a
q
N
N
d
1
a
2
d
1/ 2
1/ 2
1 2
( N a N d )2
W
Vbi
Na Nd
q 1 N a 2 N d
dan
qN d xn qN a x p Q
N N
Q 2q 1 2 a d Vbi
1 N a 2 N d
1/ 2
1/ 2
a.
Asumsi-1 :
Potensial yang diberikan melintasi daerah deplesi. Akibat pemberian
potensial yaitu terjadinya perubahan potensial saat melintasi daerah
deplesi dari Vbi mejadi Vbi-V. Oleh karenanya,
2
Vbi V
N
xn 1 2 d
N a 1 N a 2 N d
q
1/ 2
2
Vbi V
N
x p 1 2 a
q
N
N
d
1 a
2 d
1/ 2
dan
N N
Q 2q 1 2 a d (Vbi V )
1 N a 2 N d
1/ 2
Aliran Arus :
Perhitungan arus persambungan pn digunakan model drift-diffusion. Model ini
berlaku hanya bila pita Ec dan Ev kecil dibandingkan KT.
Dalam keadaan setimbang, difusi elektron dan hole sama dengan arus drift, di
mana arah difusi berlawanan dengan arus drift.
Saat tegangan yang diberikan melintasi persambungan, medan listrik pada
daerah deplesi berkurang dan arus difusi melebihi arus drift. Elektron
berdifusi dari sisi-n melintasi daerah deplesi ke sisi-p dan hole berdifusi
melintasi daerah deplesi ke sisi-n.
Laju generation-recombination
minoritas) pada sisi-p adalah :
Re( x) Ge( x )
dari
n( x) n po dan
e1
injeksi
elektron
ni
n po
Na
(pembawa
muatan
J e ( x) qDe1
Karena
n( x)
x
n 1
J e ( x) Ge( x ) Re( x)
t q x
maka
2 n( x) n( x) n po
De1
2
x
e1
2 n( x) n( x) no n( x) n po
2
2
x
De1 e1
Le1
dan
n
0
t
2 p ( x) p ( x) pno
2
2
x
Lh 2
Dengan
2
n
pno i
Nd
di mana
Le1 De1 e1
Lh 2 Dh 2 h 2
Asumsi-2 :
Di bawah pengaruh tegangan bias maju
qV
EFh
Ev
Ec
EFe
Ev
-xp
xn
qV
n
n( x p ) i1 e kT
Na
Pada x = xn didapat :
2
qV
n
p ( xn ) i 2 e kT
Nd
-w1
Tipe-n
-xp
xn
w2
n( x) n( x) n po
Dan kelebihan konsentrasi hole adalah
p ( x) p ( x) p no
menuju nol pada metal kontak, hal ini karena laju recombinationgeneration pada metal kontak sangat besar.
2
2
x
De1 e1
Le1
dengan
2
qV
n
n( x p ) i1 e kT
Na
dan
Misalkan n( x) n( x) n po
n
n( w1 ) n po i1
Na
membutuhkan penyelesaian
2 n( x) n( x)
2
2
x
Le1
2
dengan
qV
n
n( x p ) i1 e kT
Na
dan n( w1 ) 0
Diperoleh solusi :
w1 x
L
ni1
e
1
n( x)
Na
w xp
sinh 1
L
e1
sinh
qV
kT
untuk w1 x -xp
n
p( x) i 2
Nd
w2 x
L
h2
sinh
sinh
qV
untuk xn x w2
e kT 1
w2 xn
Lh 2
n(x)
-w1
p(x)
-xp
xn
w2
n( x)
x
2
n D
q i1 e1
N a Le1
w1 x
L
e1
w1 x p
Le1
cosh
sinh
qV
kT
Jh(x) untuk xn x w2
J h ( x) qDh1
2
p( x)
x
n D
q i2 h2
N d Lh 2
w2 x
Lh 2
cosh
sinh
w1 xn
L
h2
qV
kT
Arus total JT= Je(x) + Jh(x) harus menjadi tidak bergantung posisi
pada keadaan tunak. JT didapat bila diketahui Je(x) dan Jh(x) pada
tiap lokasi.
Asumsi-3 :
Mengabaikan recombination-generation di daerah deplesi. Bila
digunakan asumsi ini maka
J e ( x p ) J e ( xn ) J e ( x )
pada xp x xn
J h ( x p ) J h ( xn ) J h ( x )
pada xp x xn
tetapi
2
w1 x p
ni1 De1
J e ( x p ) q
coth
N a Le1
Le1
w x
n D
J h ( xn ) q i 2 h 2 coth 2 n
N d Lh 2
Lh 2
qV
kT
qV
kT
Sehingga diperoleh
ni12 De1
w1 x p
JT q
coth
N a Le1
Le1
qV
kT
ni 2 2 Dh 2
w2 xn
1
coth
N d Lh 2
Lh 2
I AJ T I 0 e
qV
kT
ni12 De1
w1 x p
I 0 qA
coth
N a Le1
Le1
qV
kT
ni 2 2 Dh 2
w x
1
coth 2 n
N d Lh 2
Lh 2
qV
kT
Arus adalah :
I I 0 e
qV
kT
1 I 0