Anda di halaman 1dari 10

NF ID CO

Further information please open :

EN
M. Ekaditya Albar Bangkit Indriyana 0806331683 0806455622
(Educational Purpose)
Journal of Metals, Materials and Minerals, Vol.21 No.1 pp.115-119, 2011

TA

Mikrostruktur dan sifat mekanik dari lapisan (Ti,Al)N dipengaruhi oleh besarnya tegangan, tekanan nitrogen, dan rasio antara Al dan Ti.

CO

NF ID

Teknik pelapisan PVD cathodic arc plasma adalah salah satu teknik untuk menghasilkan hard coating surface dengan laju deposisi yang tinggi.

EN

(Ti,Al)N membentuk solid solution yang meningkatkan ketahanan korosi pada suhu tinggi, kekerasan serta memiliki ketahanan aus yang baik.

TA

Lapisan (Ti,Al)N yang digunakan pada cutting dan forming tools dapat meningkatkan life time komponen sehingga meningkatkan produktifitas dibanding lapisan TiN.

CO NF ID EN TA

Alat Karakterisasi Calotest (CSM Instruments, Switzerland) Rockwell C (VDI 3198 Germany, 150 Kgf) Mikroskop Optik (Olympus)

Mengukur ketebalan film Mengukur coating adhesion Melihat hasil indentasi

Surface Roughness Analyzer (DIAVITE DH-7) SEM (JEOL JSM-6340F) XRD (Brukers D8)

CO

NF ID

EN

Mengukur kekasaran permukaan rata-rata

Melihat struktur morfologi permukaan coating Indentifikasi fasa film

TA
Tujuan

NF ID

EN
Pengaruh tekanan N2 terhadap ketebalan lapisan

TA
Cold work Tool Steel SKD 11 TiN, tebal 0.4m

CO

(Ti,Al)N, tebal 1.56 2.76m


Hasil pengujian Calotest yang diamati dengan mikroskop optik

p N2 tebal film p N2 tumbukan gas energi kinetik ion free path p N2 laju deposisi tebal film

CO

NF ID
Pola XRD hasil coating dengan tekanan N2 sebesar 1 Pa, 1.5 Pa dan 2 Pa
Peak tertinggi : film dengan p N2 = 1.5 Pa Struktur Ti0.5Al0.5N terbentuk lebih banyak pada p N2 = 1.5 Pa

EN

Parameter XRD: Cu K radiation, 40 kV, 30 mA Low incident angle of 1o Scanning angular (2) : 30o 90o Scanning rate: 2o/min

TA

CO

NF ID
Pengaruh tekanan N2 terhadap kekasaran permukaan Morfologi permukaan dari film deposited dengan tekanan N2 sebesar 1 Pa (a), 1.5 Pa (b) dan 2 Pa (c) Jumlah makropartikel kekasaran permukaan p N2 tumbukan ion energi kinetik ion ke substrat p N2 Jumlah makropartikel

EN

TA

CO

Pengaruh tekanan N2 terhadap kekerasan dan modulus elastisitas

Kekerasan film seluruh sampel 38 48 GPa Film dengan p N2 = 1 Pa dan 1.5 Pa tergolong superhard hardness (> 40 GPa) Kekerasan tertinggi pada p N2 = 1.5 Pa fasa Ti0.5Al0.5N (hasil XRD)

NF ID

EN

TA

N2 (Pa)
1.0

TA
Rockwell Adhesion Test VDI 3198
HF 1 HF 1 HF 1

L EN
1.5 2.0

Loading at full delamination from Scratch test (N)


> 150 > 150 128.43 3.95

Hasil uji adhesi tidak ada fracture di sekitar penjejakan kekuatan adhesi HF 1 Reinforce small particle (d= 1-2 m ) Excellent properties (hardness, Youngs modulus, adhesion strength) Film dengan p N2 = 2 Pa konsentrasi atom N2 pembentukan void gas N2 di film dan interface antara film dan substrat poor adhesion

CO

NF ID

10

Kekuatan adhesi yang baik disebabkan oleh keseragaman partikel kecil di seluruh permukaan lapisan. Nilai critical failure load (>150 N) ditemukan pada lapisan dengan tekanan N2 sebesar 1 dan 1.5 Pa.
Minimum critical failure load (Lc 128.43 N) terdapat pada lapisan dengan tekanan N2 sebesar 2 Pa .

CO

NF ID

Lapisan yang dihasilkan dengan tekanan N2 sebesar 1.5 Pa memiliki kekerasan yang paling tinggi.

EN

Ketebalan film yang dihasilkan sebesar 1.96 3.16 m.

TA

Lapisan Ti0.5Al0.5N dengan interlayer TiN0.5 dapat diproduksi dari proses PVD arc coating dengan menggunakan Ti-Al sintered dan tekanan N2 antara 1-2 Pa.

Anda mungkin juga menyukai