[TESIS] 12 de abril de 2013

INSTITUTO TECNOLGICO SUPERIOR DE IRAPUATO

EXTENSION SAN JOSE ITURBIDE

MATERIA TALLER DE INVESTIGACIN II

TEMA:

Diseo del Soporte mvil para colocacin de recubrimientos uniformes en piezas irregulares evaporando en vaco.
ALUMNO: Juan Arturo Rodrguez Jurez

CATEDRATICO: ING. Blanca Estela Pineda Muoz

FECHA Fecha: 12 de abril Del 2013

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Diseo del Soporte mvil para colocacin de recubrimientos uniformes en piezas irregulares evaporando en vaco.
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INTRODUCCIN El uso de pelculas o recubrimientos se extiende a una gran diversidad de aplicaciones a nivel industrial, por ejemplo, en la industria de los semiconductores, recubrimientos de proteccin, etc. Estos recubrimientos pueden mejorar las propiedades de los materiales en bulto. Uno de los recubrimientos que ms ha atrado la atencin de la comunidad cientfica y tecnolgica por su versatilidad de aplicacin es el TiN (Nitruro de Titanio). Sus atractivas propiedades mecnicas, elctricas, pticas, estabilidad qumica, trmica y su color llamativo (desde el dorado basta el caf oscuro), lo hacen apto para muchas aplicaciones industriales como recubrimiento protector en herramientas de corte, en piezas decorativas, en arquitectura, como capa de barrera difusora en dispositivos de semiconductores y en pantallas planas. Existen diversas tcnicas para depositar TiN, siendo una de las tcnicas ms usadas la de erosin catdica asistida por campo magntico o "magnetrn sputtering". Magnetrn sputtering es una tcnica que puede usar fuentes de corriente directa DC y de radiofrecuencia RF. Actualmente, una de las fuentes ms usadas es la de corriente directa pulsada, que permite crecimiento preferencial en diversos planos cristalinos dependiendo, de sus parmetros de evaporacin.

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[TESIS] 12 de abril de 2013 CAPTULO 1: EL PROBLEMA 1.1 Marco contextual, Contextualizacin o Antecedentes del problema. El Centro de Investigacin y de Estudios Avanzados del Instituto Politcnico Nacional (CINVESTAV) laboratorio se desarrollan recubrimientos avanzados de diferente naturaleza y con distinto campo de aplicacin, son obtenidos mediante la tcnica de Sputtering (Erosin Catdica). Los grupos principales de materiales elaborados son: Recubrimientos duros (Nitruro de titanio, Nitruro de Aluminio y Carbono tipo diamante o DLC), recubrimientos semiconductores (xido de Zinc y xido de Zinc dopado con Aluminio) y materiales ternarios con propiedades de memoria ptica y ferro-elctricas (Germanio: Antimonio: Telurio). Los recubrimientos duros basados en nitruros de metales de transicin fabricados por diferentes tcnicas de evaporacin fsica y qumica, son ampliamente usados en la industria, principalmente como proteccin de herramientas de corte y en aplicaciones en donde la proteccin al desgaste es importante. Entre estos materiales el nitruro de titanio (TiN) es uno de los ms ampliamente utilizados y estudiados y sus referencias. Son diversas las aplicaciones actuales del TiN, adems de las de tipo industrial, se encuentran en recubrimientos de implantes en el cuerpo humano debido a su biocompatibilidad y como recubrimientos decorativos por su atractivo color oro brillante. Los principales estudios de TiN se realizaron en recubrimientos colocados sobre sustratos de acero y carburo de tungsteno, observndose una estructura cristalina en la fase cbica simple, TiN, con una crecimiento de grano de tipo columnar Usualmente, los recubrimientos de TiN depositados por la tcnica de arco elctrico muestran una marcada orientacin preferencial en la direccin Cristalogrfica. Los estudios de microestructura y rugosidad superficiales de los recubrimientos de TiN fabricados por sta tcnica han mostrado que estas propiedades tienen una notable dependencia con el flujo de iones que se
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[TESIS] 12 de abril de 2013 impacta sobre el sustrato, adems de la presin parcial de nitrgeno y del potencial de polarizacin aplicado al sustrato [. As mismo, se ha mostrado que la orientacin preferencial del grano influye en las propiedades mecnicas del recubrimiento, que se manifiesta principalmente en los esfuerzos residuales presentes. Al incrementar el voltaje de polarizacin aplicado al sustrato

durante el proceso de depsito del recubrimiento, se incrementa la energa con que los iones impactan sobre la pelcula provocando: a) una modificacin de las condiciones del crecimiento de la pelcula, en particular, de la energa de los iones que se impactan sobre el recubrimiento, y por lo tanto, de su estructura; b) un efecto de erosin sobre la pelcula, lo que afecta directamente la rugosidad superficial del recubrimiento; y por ltimo, c) un cambio en los esfuerzos residuales promedio del recubrimiento que afecta su dureza 1.2 Formulacin del problema El principal problema que se tiene con la aplicacin de recubrimientos o

pelculas en los dispositivos tratados, es que solo se puede aplicar en partes uniformes, es decir que no se puede aplicar en partes curveadas a amorfas dentro de La mquina Intercovamex Sputtering v3 Lo que se pretende disear y construir es la parte mvil que permitir la

impregnacin uniforme de estas partculas en los dispositivos de las prtesis. Una vez que se logre esta aplicacin de recubrimiento de tan solo unas cuantas micras las propiedades del material que anteriormente estaba en

bruto adquirir unas propiedades inimaginables con una excelente calidad y resistencia.

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[TESIS] 12 de abril de 2013 1.3 Objetivos

Diseo y construccin de soporte mvil para sustratos irregulares con movimiento en dos ejes. Requerido para lograr una evaporacin uniforme en la pieza..

Implementar

la tcnica de evaporacin por arco elctrico variando el

potencial de polarizacin aplicado al sustrato de nitruro de titanio en las prtesis

Aplicacin de los recubrimientos en las prtesis y que cumplan con las caractersticas de biocompatibilidad especificadas.

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[TESIS] 12 de abril de 2013 1.4 Justificacin de la investigacin La tecnologa del alto vaco ha permitido desarrollar la tcnica de evaporacin de metales en una atmsfera de muy baja presin. Las pelculas delgadas obtenidas mediante esta tcnica, se pueden usar como materiales de recubrimiento y tienen mltiples usos en la industria, la investigacin y la enseanza, lo cual se pueden utilizar en lo que se est realizando con

respecto a los recubrimientos de prtesis que estaran beneficiando a miles de personas que les es difcil adquirir una prtesis de un material quirrgico. Tambin tenemos la posibilidad de contar con un sistema de laboratorio para conocer a fondo los procesos por los que se llegan a obtener bajas presiones en ambientes controlados y con posibilidades de desarrollos en la

investigacin. Nuestro sistema de alto vaco se comporta de manera estable al alcanzar su mnima presin de 10-4 Pa en una cmara de acero inoxidable, con capacidad de 24 litros Tomando como base este sistema de alto vaco, disearemos y construiremos una evaporadora de metales con un punto de fusin menor al del tungsteno, que son (34100 c ) De esta forma estamos en posibilidad de evaporar metales como oro, plata, cobre y aluminio entre otros, sobre diferentes substratos entre los que se encuentran vidrios, plsticos y cermicas. Las caractersticas de los elementos mecnicos, elctricos y electrnicos que nos permiten usar el sistema de alto vaco como una evaporadora de metales y que usamos para depositar capas metlicas delgadas en diferentes substratos.

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[TESIS] 12 de abril de 2013 1.5 Limitaciones

CAPTULO 2: MARCO TERICO 2.1 Antecedentes de la investigacin 2.2 Bases tericas 2.3 Definicin de trminos 2.4 Hiptesis 2.5 Variables CAPTULO 3: MARCO METODOLGICO 3.1 Nivel de investigacin 3.2 Diseo de investigacin 3.3 Tcnicas e instrumentos de recoleccin de datos 3.4 Tcnicas de procesamiento y anlisis de datos CAPTULO 4: ASPECTOS ADMINISTRATIVOS 4.1 Recursos requeridos: humanos, materiales, financieros y tecnolgicos 4.2 Cronograma de actividades: Diagrama de Gantt BIBLIOGRAFA ANEXOS

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