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UNIVERSIDADE TIRADENTES UNIT

PROGRAMA DE PS-GRADUAO EM ENGENHARIA DE PROCESSOS PEP










ESTUDO PARA CARACTERIZAO DE QUASICRISTAL
(AlCuFe) VISANDO APLICAO NA INDSTRIA DO
PETRLEO





Autor: Angelo Menezes de Souza
Orientadores: Prof
a
Dra. Eliane Bezerra Cavalcanti
Prof
o
Dr. Paulo Mrio Machado de Arajo








ARACAJU, SE - BRASIL
ABRIL DE 2009
ii











FICHA CATALOGRFICA

S729e Souza, Angelo Menezes de
Estudo para Caracterizao de Quasicristal (AlCuFe) visando Aplicao na
Indstria do Petrleo / Angelo Menezes de Souza; orientadores Eliane Bezerra
Cavalcanti, Paulo Mrio Machado de Arajo Aracaju, 2009.
120 p.: il.

Inclui bibliografia.
Dissertao (Mestrado em Engenharia de Processos) Universidade
Tiradentes, 2009.

1. Indstria do petrleo. 2. Liga quasicristalina AlCuFe. 3. Corroso.
4. Ensaios eletroqumicos. I. Cavalcanti, Eliane Bezerra. (orient.). II. Arajo,
Paulo Mrio Machado (orient.). III. Ttulo


CDU 622.276
665.6/.7
iii
ESTUDO PARA CARACTERIZAO DE QUASICRISTAL (AlCuFe) VISANDO
APLICAO NA INDSTRIA DO PETRLEO



Angelo Menezes de Souza

DISSERTAO SUBMETIDA AO PROGRAMA DE PS-GRADUAO EM
ENGENHARIA DE PROCESSOS DA UNIVERSIDADE TIRADENTES COMO PARTE
DOS REQUISITOS NECESSRIOS PARA A OBTENO DO GRAU DE MESTRE EM
ENGENHARIA DE PROCESSOS.

Aprovada por:



ARACAJU, SE - BRASIL
ABRIL DE 2009
iv
DEDICATRIA



























Aos meus pais que so a minha referncia de dignidade, respeito, honradez e honestidade.
minha esposa, minha eterna namorada.
terra dos altos coqueiros, Pernambuco, Imortal, Imortal!


v
AGRADECIMENTOS

Gostaria de agradecer a todos que de uma forma ou de outra contriburam para a
realizao deste trabalho, especialmente:

minha esposa Marli por todo apoio e compreenso, principalmente, nos momentos mais
crticos;
Aos engenheiros Marcos de Oliveira Fonseca e Carlos Roberto Carvalho de Holleben por
terem acreditado e apoiado a realizao deste trabalho;
consultora tcnica Rita Menezes e o supervisor Jairo Maynard, respectivamente dos
Laboratrios de Anlise de Fluidos de Aracaju e de Carmpolis, pelo apoio prestado nas
caracterizaes da gua produzida;
Ao tcnico de manuteno Antonio Herberto Fontes de Menezes da Caldeiraria do Ativo
Sergipe Terra pelo apoio e coordenao da confeco de alguns equipamentos utilizados nos
ensaios de corroso;
Ao tcnico de operao Luiz Jorge Souza Mendona da Caldeiraria do Ativo Sergipe Terra
pelo apoio e assistncia na conduo das atividades da Caldeiraria, quando das minhas
ausncias motivadas pela pesquisa;
Aos professores Dra. Eliane Bezerra Cavalcanti e Dr. Paulo Mrio Machado de Arajo pela
orientao deste trabalho e incentivo durante todo o perodo de pesquisa do mestrado, alm da
grande amizade formada;
s alunas de graduao Andrea Elysa de Jesus Gis Pinto e Luciete da Paixo Souza pela
conduo dos trabalhos realizados no Laboratrio de Energia e Materiais do ITP, que
demandou muita dedicao e presteza de ambas;
Aos professores Dr. Severino Jackson e Mestre Danielle Guedes pela fabricao e
disponibilidade das amostras utilizadas nos ensaios;
Aos professores Dr.lvaro Lima, Dr. Renan Tavares Figueiredo e Dra. Cleide Mara pelo
apoio na preparao da apresentao final e pelas orientaes, quando dos seminrios;
Aos professores Dr. Severino Jackson e Dr. Eudsio Oliveira Vilar pela aceitao do convite
em participar da banca examinadora, cuja participao em muito contribuiu para o
engrandecimento deste trabalho.




vi
Resumo da Dissertao apresentada ao Programa de Ps-graduao em Engenharia de
Processos da Universidade Tiradentes como parte dos requisitos necessrios para a obteno
do grau de Mestre em Engenharia de Processos.

ESTUDO PARA CARACTERIZAO DE QUASICRISTAL (AlCuFe) VISANDO
APLICAO NA INDSTRIA DO PETRLEO

Angelo Menezes de Souza

Os materiais quasicristalinos oferecem um novo desafio para os engenheiros de
materiais e de produo. O seu enorme potencial de aplicao principalmente devido s suas
caractersticas incomuns, onde as suas propriedades apresentam semelhanas alternando entre
os polmeros e os metais. Dentre todas as possveis aplicaes para os materiais
quasicristalinos, a utilizao como revestimento com uma tima resistncia corroso uma
das mais intrigantes e de maior potencial de aplicao na indstria do petrleo.

Os custos inerentes interveno de manuteno dos equipamentos estticos do setor
produtivo, alm do impacto da descontinuidade operacional, j so por si s fortes razes para
se pensar em solues que promovam um maior tempo de vida dos equipamentos e menores
intervenes. Dentre todas as ligas quasicristalinas, a liga quasicristalina AlCuFe uma das
que tem sido bastante estudadas devido sua particular facilidade de construo e aplicao,
alm da resistncia corroso em diversos meios corrosivos.

Esta dissertao contemplou um estudo para uma melhor caracterizao a fim de
analisar a resistncia corroso desta liga quanto aos ambientes corrosivos mais comuns do
setor de explorao e produo de petrleo, alm de obter algumas propriedades mecnicas,
tais como: a microdureza e o mdulo de elasticidade. Para tal, foram realizados ensaios de
mdulo de elasticidade e de microdureza para a caracterizao mecnica, alm dos ensaios de
potencial de circuito aberto, de polarizao linear e de Tafel para a anlise do comportamento
corrosivo.

A faixa do mdulo de elasticidade obtido da liga quasicristalina, entre 118 a 148GPa,
foi superior faixa do mdulo de elasticidade obtido da liga cristalina, entre 40,5 a 92,1GPa.
Os resultados dos ensaios de microdureza Vickers da liga quasicristalina ficaram dentro da
faixa de 800 a 1000HV, ratificando os valores apresentados por Jenks et al. (1998). No
entanto, a microdureza da liga quasicristalina no evidenciou um aumento significativo em
relao sua anloga cristalina. Atravs do ensaio de potencial de circuito aberto ao longo do
tempo, concluiu-se que ambas as ligas de quasicristal e de cristal sofreram passivao,
evidenciando-se que a formao da camada passivadora est mais relacionada natureza
qumica. Atravs dos ensaios de resistncia de polarizao linear e de Tafel, foi possvel
calcular a taxa de corroso para a liga quasicristalina AlCuFe, onde foram obtidas taxas de
corroso de 2,1 x 10
-4
e de 1,26 x 10
-3
mm/ano. Foi realizado um planejamento experimental,
onde se verificou as influncias significativas do sulfeto, do sulfato, do bicarbonato, alm das
interaes sulfeto-sulfato e sulfeto-sulfato-bicarbonato da gua produzida no processo corrosivo.

Palavras-chave: liga quasicristalina AlCuFe, corroso, ensaios eletroqumicos.
vii
Abstract of Dissertation presented to the Process Engineering Graduate Program of
Universidade Tiradentes as a partial fulfillment of the requirements for the degree of Master
of Science (M.Sc.)


STUDY FOR CARACTERIZATION OF QUASICRYSTAL (AlCuFe) AIMING
APPLICATION IN THE OIL INDUSTRY

Angelo Menezes de Souza

The quasicristallines materials offer a new challenge for the production and materials
engineers. The enormous potential of application is mainly due to its unusual characteristics,
where its properties have similarities alternating between polymers and metals. Among all the
possible applications for quasicristallines materials their use as a coating with excellent
resistance to corrosion is one of the most intriguing and greater potential for application in the
petroleum industry.

The cost of intervention for static equipment maintenance of productive sector, in
addition to the impact of discontinued operation, are in themselves good reasons to think of
solutions that promote a longer service life for equipment and minor operations. Among all
quasicristallines alloys, the quasicristalline alloy AlCuFe is one that has been widely studied
because of their particular construction and ease of application, in addition to corrosion
resistance in various corrosive media.

This work included a study to better characterization the corrosion resistance of this
alloy, in the most common corrosive environments of oil exploration and production, and get
some mechanical properties, such as the microhardness and modulus of elasticity. For this,
tests were performed involving modulus of elasticity and microhardness for the mechanical
characterization, in addition to testing the potential of open circuit, the linear polarization and
Tafel for analyzing the corrosion behavior.

The range of modulus of elasticity of the quasicristalline alloy was 118 to 148GPa,
above the range of modulus of elasticity obtained from the crystalline alloy, between 40.5 to
92.1 GPa. The test results of Vickers microhardness of the quasicristalline alloy were within
the range of 800 to 1000HV, confirming the results reported by Jenks et al. (1998). However,
the microhardness of the quasicristalline alloy showed no significant increase in relation to
their similar crystal. Through the testing of the open circuit potential over time, it was
concluded that both quasicristalline and crystal alloy suffered passivation, indicating that the
formation of the passivated layer is more related to the chemical nature. Through the test of
linear polarization resistance and Tafel, it was possible to calculate the rate of corrosion for
the quasicristalline AlCuFe, where corrosion rates were obtained from 2.1 x 10
-4
and 1.26 x
10
-3
mm/year. An experimental design was performed, where was realized the influence of
sulfide, sulfate, bicarbonate, in addition to interactions sulfide-sulfate and sulfide-sulfate-
bicarbonate in the water produced corrosion process.

Keywords: AlCuFe quasicristalline alloy, corrosion, electrochemicals tests.
viii
SUMRIO


Pg.
DEDICATRIA iv
AGRADECIMENTOS v
RESUMO vi
ABSTRACT vii
LISTA DE FIGURAS xii
LISTA DE TABELAS xv
CAPTULO I INTRODUO 1
1.1 ABORDAGEM GERAL 1
1.2 OBJETIVOS DO TRABALHO 3
1.2.1 Objetivo Geral 3
1.2.2 Objetivos Especficos 3
1.3 ORGANIZAO DO TRABALHO 4

CAPTULO I I REVISO BIBLIOGRFICA 5
2.1 ARMAZENAMENTO E TRANSPORTE DE PETRLEO 5
2.1.1 Tanques de Armazenamento 5
2.1.2 Equipamentos de Processo 6
2.1.3 Tubulaes Industriais 8
2.2 PRINCPIOS DE CINCIA E ENGENHARIA DOS MATERIAIS 10
2.2.1 A Estrutura Cristalina 10
2.2.2 Os Quasicristais 13
2.2.3 A Liga Quasicristalina AlCuFe 17
2.2.4 Processamento da Liga Quasicristalina AlCuFe 19
2.3 CORROSO 20
2.3.1 Corroso Eletroqumica 21
2.3.1.1 Polarizao 24
2.3.1.2 Passivao 27
2.3.1.3 Tipos de Corroso Eletroqumica 27
2.3.2 Meios Corrosivos da gua Produzida de Carmpolis 29
2.3.2.1 Corroso por CO
2
29
2.3.2.2 Corroso por H
2
S 30
ix
2.3.2.3 Corroso pela gua 31
2.3.2.4 Corroso quanto Temperatura e ao pH 32
2.3.2.5 Corroso pelo Oxignio 32
2.3.2.6 Corroso pelo NaCl 33
2.3.3 Corroso em Ligas Quasicristalinas AlCuFe 33
2.4 CARACTERIZAO DA LIGA 34
2.4.1 Tcnicas Para Caracterizao Fsico-Qumica Da Liga 34
2.4.1.1 Propriedades Fsicas 35
2.4.1.2 Difrao de Raios X 35
2.4.1.3 Microscopia tica 38
2.4.2 Tcnicas Para Caracterizao Das Propriedades Mecnicas 38
2.4.2.1 Mdulo de Elasticidade 38
2.4.2.2 Microdureza e Dureza 39
2.4.2.2.1 Ensaio de Dureza Vickers 40
2.5 CARACTERIZAO DA CORROSO ELETROQUMICA 41
2.5.1 Ensaios Eletroqumicos 41
2.5.2 Caracterizao da gua Produzida de Carmpolis 44
2.5.3 Planejamento de Experimentos 45

CAPTULO I I I MATERIAL E MTODOS 47
3.1 ABORDAGEM GERAL 47
3.2 FABRICAO DAS AMOSTRAS 47
3.3 CARACTERIZAO FSICO-QUMICA DA LIGA 48
3.3.1 Difrao de Raios X e MEV 48
3.3.2 Caracterizao das Propriedades Mecnicas 49
3.3.2.1 Microdureza 50
3.3.2.2 Modulo de Elasticidade 51
3.3.3 Caracterizao da Resistncia Corroso 53
3.3.3.1 Caracterizao da gua Produzida 54
3.3.3.2 Ensaios de Corroso em Laboratrio 59
3.3.3.2.1 Ensaios de Acompanhamento do potencial de Circuito Aberto (PCA) 59
3.3.3.2.2 Ensaios Eletroqumicos 61
3.3.3.4 Planejamento Experimental 63
x
CAPTULO I V RESULTADOS DOS ENSAIOS 66
4.1 CARACTERIZAO FSICO-QUMICA DA LIGA 66
4.1.1 Difrao de Raios X e MEV 66
4.1.2 Caracterizao das Propriedades Mecnicas 70
4.1.2.1 Mdulo de Elasticidade 70
4.1.2.2 Microdureza 71
4.1.3 Caracterizao da Resistncia Corroso 74
4.1.3.1 Caracterizao da gua Produzida 74
4.1.3.2 Ensaios de Corroso em Laboratrio 76
4.1.3.2.1 Ensaios de Acompanhamento do Potencial de Circuito Aberto 76
4.1.3.2.2 Ensaios Eletroqumicos/Corrosimetria 79
4.1.3.2.3 Planejamento Experimental 93

CAPTULO V CONCLUSO 99

CAPTULO IV REFERNCIA BIBLIOGRFICA 101

ANEXO 1 109

ANEXO 2 118

xi
LISTA DE FIGURAS Pg.


FIGURA 1 Tanque de armazenamento de petrleo da UPGN da UN-SEAL 6
da Petrobras.
FIGURA 2 Equipamento de processo da UPGN da UN-SEAL da Petrobras. 7
FIGURA 3 Sistema de tubulaes industriais da Unidade de Negcio Sergipe 9
e Alagoas da Petrobras.
FIGURA 4 Representao espacial dos sistemas cristalinos 12
FIGURA 5 Reticulado geral de referncia. 13
FIGURA 6 Liga icosaedral quasicristalina de Al
62.2
Cu
25.5
Fe
12.3
19
FIGURA 7 Diagrama esquemtico do rearranjo da estrutura local atravs da 19
formao de um quasicristal.
FIGURA 8 Modelo de difrao eletrnica de um gro de um revestimento de 20
quasicristal de AlCuFe de 300 nm de espessura.
FIGURA 9 Modelo de arranjo atmico de um cristal 38
FIGURA 10 Raios X incidentes em um plano cristalino 38
FIGURA 11 Forno de induo de alta freqncia da DEM/UFPB 51
FIGURA 12 Lixas para polimento com pasta de diamante de 6m, 3m e 1m 53
utilizadas na politriz PL04E do LEM-ITP
FIGURA 13 Microscpio tico Opton do LEM-ITP 53
FIGURA 14 Microdurmetro Shimadzu HMV-2 54
FIGURA 15 Quadriltero obtido na superfcie da amostra aps a penetrao do 55
indentador de base piramidal.
FIGURA 16 Ultra-microdurmetro Shimadzu DUH-W201S 55
FIGURA 17 Fora x Tempo no teste de carga-descarga 56
FIGURA 18 Exemplo de resultado do teste de carga-descarga 57
FIGURA 19 Amostras de gua produzida analisadas no laboratrio de anlise de 58
gua de Carmpolis
FIGURA 20 Medidor de pH e agitador magntico do laboratrio de anlise de 60
gua de Carmpolis
FIGURA 21 Bureta digital do laboratrio de anlise de gua de Carmpolis 61
FIGURA 22 Vidraria e filtro de membrana utilizados para a obteno do TSS 62
das amostras de gua produzida.
FIGURA 24 Ultrassom SPENCER para limpeza das amostras e dos eletrodos 63
FIGURA 25 JAR-TEST modificado utilizado no ensaio de variao do potencial 64
de circuito aberto
FIGURA 26 Cortadora metalogrfica CM70 da Teclago do LEM-ITP 65
FIGURA 27 Clula eletroqumica utilizada com o potenciostato da Gamry 66
nos ensaios eletroqumicos
FIGURA 28 Clculo de rea atravs do Image Tool 67
FIGURA 29 Difratometria do efeito do tempo de moagem 72
FIGURA 30 Microscopia eletrnica de varredura do p modo por 30min 73
tratados a 298K, 773K e 973K
FIGURA 31 Microscopia eletrnica de varredura do p modo por 10h 73
tratados a 298K, 773K e 973K
FIGURA 32 Microscopia eletrnica de varredura do p modo por 20h 74
tratados a 298K, 773K e 973K
FIGURA 33 Difratometria de raios X do p modo por 20 h tratados a 74
298K, 773K e 973K
FIGURA 34 Comparao entre os resultados obtidos os ensaios de mdulo de 76
elasticidade dos quasicristais e cristais AlCuFe.
xii
FIGURA 35 Superfcie de amostra de quasicristal AlCuFe antes dos ensaios 77
de microdureza
FIGURA 36 Superfcie de amostra de quasicristal AlCuFe submetida a cargas 77
de 10g, 25g e 50g, respectivamente, nos ensaios de microdureza
FIGURA 37 Superfcie de amostra de quasicristal AlCuFe submetida a cargas 78
de 100g e 200g, respectivamente
FIGURA 38 Superfcie de amostra de quasicristal AlCuFe antes dos ensaios de 78
microdureza
FIGURA 39 Superfcie de amostra de cristal AlCuFe submetida a cargas de 78
10g e 25g, respectivamente, nos ensaios de microdureza
FIGURA 40 Superfcie de amostra de cristal AlCuFe submetida a cargas de 79
50g, 100g e 200g, respectivamente
FIGURA 41 Comparao da microdureza do quasicrsital e cristal AlCuFe 80
FIGURA 42 Variao do PCA da amostra 1 do quasicristal AlCuFe ao longo 83
do tempo
FIGURA 43 Variao do PCA da amostra 2 do quasicristal AlCuFe ao longo 83
do tempo
FIGURA 44 Variao do PCA da amostra 1 do cristal AlCuFe ao longo do tempo 84
FIGURA 45 Variao do PCA da amostra 2 do cristal AlCuFe ao longo do tempo 84
FIGURA 46 Eletrodo de trabalho com a liga quasicristalina AlCuFe utilizado 85
no ensaio de acompanhamento do potencial de circuito aberto
FIGURA 47 Variao da resistncia de polarizao linear do quasicristal AlCuFe 86
durante o experimento 1
FIGURA 48 Micrografia tica com a resoluo de 10x da superfcie do eletrodo de 86
quasicristal AlCuFe aps a realizao do ensaio 1 de resistncia de polarizao linear
FIGURA 49 Variao da resistncia de polarizao linear do quasicristal AlCuFe 87
durante o experimento 2
FIGURA 50 Micrografia tica com a resoluo de 10x da superfcie do eletrodo de 88
quasicristal AlCuFe aps a realizao do ensaio 2 de resistncia de polarizao linear
FIGURA 51 Variao da resistncia de polarizao linear do quasicristal AlCuFe 88
durante o experimento 3
FIGURA 52 Fotos do eletrodo de quasicristal AlCuFe antes (a) e depois (b) 89
da realizao do ensaio 3 de resistncia de polarizao linear
FIGURA 53 Variao da resistncia de polarizao linear do quasicristal AlCuFe 90
durante o experimento 4
FIGURA 54 Micrografias ticas com a resoluo de 10x da superfcie do eletrodo 90
de quasicristal AlCuFe antes (a) e aps (b) a realizao do ensaio 4 de resistncia de
polarizao linear
FIGURA 55 Variao da resistncia de polarizao linear do quasicristal AlCuFe 91
durante o experimento 5
FIGURA 56 Micrografia tica com a resoluo de 10x da superfcie do eletrodo de 92
quasicristal AlCuFe aps a realizao do ensaio 5 de resistncia de polarizao linear
FIGURA 57 Variao da resistncia de polarizao linear do quasicristal AlCuFe 92
durante o experimento 6
FIGURA 58 Foto do eletrodo de quasicristal AlCuFe aps a realizao do ensaio 6 93
de resistncia de polarizao linear
FIGURA 59 Variao da resistncia de polarizao linear do quasicristal AlCuFe 94
durante o experimento 7
FIGURA 60 Fotos do eletrodo de quasicristal AlCuFe antes (a) e depois (b) 94
da realizao do ensaio 7 de resistncia de polarizao linear
FIGURA 61 Variao da resistncia de polarizao linear do quasicristal AlCuFe 95
durante o experimento 8
xiii
FIGURA 62 Micrografia tica com a resoluo de 10x da superfcie do eletrodo de 96
quasicristal AlCuFe aps a realizao do ensaio 8 de resistncia de polarizao linear
FIGURA 63 Variao da resistncia de polarizao linear do quasicristal AlCuFe 96
durante o experimento 9
FIGURA 64 Micrografia tica com a resoluo de 10x da superfcie do eletrodo de 97
quasicristal AlCuFe antes (a) e aps (b) a realizao do ensaio 9 de resistncia de
polarizao linear
FIGURA 65 Variao da resistncia de polarizao linear do quasicristal AlCuFe 97
durante o experimento 10
FIGURA 66 Fotos do eletrodo de quasicristal AlCuFe antes (a) e depois (b) 98
da realizao do ensaio 10 de resistncia de polarizao linear
FIGURA 67 Variao da resistncia de polarizao linear do quasicristal AlCuFe 99
durante o experimento 11
FIGURA 68 Fotos do eletrodo de quasicristal AlCuFe antes (a) e depois (b) 99
da realizao do ensaio 11 de resistncia de polarizao linear
FIGURA 69 Superfcie de resposta do planejamento experimental da interao 102
sulfato-sulfeto
FIGURA 70 Superfcie de resposta do planejamento experimental da interao 102
bicarbonato-sulfeto
FIGURA 71 Superfcie de resposta do planejamento experimental da interao 103
sulfato-bicarbonato
FIGURA 72 Curva de polarizao andica de Tafel para a liga quasicristalina 103
AlCuFe
FIGURA 73 Curva de polarizao catdica de Tafel para a liga quasicristalina 104
AlCuFe.
FIGURA 1.A Fora x Profundidade da liga quasicristalina AlCuFe submetida a 116
uma carga de 10g
FIGURA 2.A Profundidade x Tempo para a obteno do Mdulo de Elasticidade 117
da liga quasicristalina AlCuFe submetida a uma carga de 10g
FIGURA 3.A Fora x Profundidade da liga quasicristalina AlCuFe submetida 118
a uma carga de 25g
FIGURA 4.A Profundidade x Tempo para a obteno do Mdulo de Elasticidade 118
da liga quasicristalina AlCuFe submetida a uma carga de 25g
FIGURA 5.A Fora x Profundidade da liga quasicristalina AlCuFe submetida 119
a uma carga de 50g
FIGURA 6.A Profundidade x Tempo para a obteno do Mdulo de Elasticidade 120
da liga quasicristalina AlCuFe submetida a uma carga de 50g
FIGURA 7.A Fora x Profundidade da liga cristalina AlCuFe submetida 121
a uma carga de 10g
FIGURA 8.A Profundidade x Tempo para a obteno do Mdulo de Elasticidade 121
da liga cristalina AlCuFe submetida a uma carga de 10g
FIGURA 9.A Fora x Profundidade da liga cristalina AlCuFe submetida 122
a uma carga de 25g
FIGURA 10.A Profundidade x Tempo para a obteno do Mdulo de Elasticidade 123
da liga cristalina AlCuFe submetida a uma carga de 25g
FIGURA 11.A Fora x Profundidade da liga cristalina AlCuFe submetida 124
a uma carga de 50g
FIGURA 12.A Profundidade x Tempo para a obteno do Mdulo de Elasticidade 124
da liga cristalina AlCuFe submetida a uma carga de 50g



xiv

LISTA DE TABELAS Pg.



TABELA 1 Sistemas cristalinos e reticulado de Bravais 1
TABELA 2 Propriedades fsicas e mecnicas de ligas quasicristalinas 16
comparadas com outros materiais
TABELA 3 Condutividade trmica 17

TABELA 4 Microdureza e coeficiente de frico 18
TABELA 5 Sumrio de constituintes e mtodo analtico adotados na anlise 59
da gua produzida
TABELA 7 Tabela dos ensaios do Planejamento experimental 2
3
com ponto central 70
TABELA 8 Resultados dos clculos do mdulo de elasticidade 75
TABELA 9 Resultados dos clculos do mdulo de elasticidade 79
TABELA 10 Resultados dos clculos do mdulo de elasticidade 81
TABELA 11 Parmetros adotados para elaborao da gua produzida sintetizada 82
TABELA 12 Matriz do planejamento experimental 2
3
com repetio do ponto central 100
TABELA 13 Dados da anlise dos efeitos, erros-padro e do teste t de Student do 101
planejamento experimental dos ensaios eletroqumicos
TABELA 14 Parmetros para clculo do equivalente-grama da liga quasicrsitalina 104
AlCuFe
TABELA 15 Parmetros levantados nos ensaios eletroqumicos para determinao 105
da taxa de corroso da liga quasicristalina AlCuFe
TABELA 1.A Mdulo de elasticidade da liga quasicristalina AlCuFe submetida a uma 116
carga de 10g
TABELA 2.A Mdulo de elasticidade da liga quasicristalina AlCuFe submetida a uma 117
carga de 25g
TABELA 3.A Mdulo de elasticidade da liga quasicristalina AlCuFe submetida a uma 119
carga de 50g
TABELA 4.A Mdulo de elasticidade da liga cristalina AlCuFe submetida a uma 120
carga de 10g
TABELA 5.A Mdulo de elasticidade da liga cristalina AlCuFe submetida a uma 122
carga de 25g
TABELA 6.A Mdulo de elasticidade da liga cristalina AlCuFe submetida a uma 123
carga de 50g
TABELA 1.B Microdureza Vickers em uma amostra de Quasicristal com a aplicao 125
das cargas de 50, 25 e 10g
TABELA 2.B Microdureza Vickers em uma amostra de Quasicristal com a aplicao 125
da carga de 100g
TABELA 3.B Microdureza Vickers em uma amostra de Cristal com a aplicao da 126
carga de 200g
TABELA 4.B Microdureza Vickers em uma amostra de Cristal com a aplicao das 126
cargas de 50, 25 e 10g.
TABELA 5.B Microdureza Vickers em uma amostra de Cristal com a aplicao da 127
carga de 100g
TABELA 6.B Microdureza Vickers em uma amostra de Cristal com a aplicao da 127
carga de 200g
1
CAPTULO I




INTRODUO



1.1 ABORDAGEM GERAL

A corroso um fenmeno de extrema importncia na vida moderna devido grande
dependncia da funcionalidade dos metais e suas ligas. So necessrios custos vultosos para se
manter a disponibilidade, o desempenho e a segurana das instalaes devido ao fato dos
problemas de corroso ocorrerem nas mais variadas atividades e formas. A corroso pode ser
entendida como a deteriorao do material em virtude de reaes ou interaes com o meio a
que esteja exposto. No caso dos metais, essa deteriorao , na maioria das vezes, resultante
de uma reao qumica e/ou eletroqumica, na qual h a dissoluo do metal. Em alguns casos,
essas reaes podem resultar em produtos que agem como protetores do metal base e a este
processo chamamos de passivao, onde normalmente h a formao de um xido por
semicondutores.

As perdas econmicas inerentes corroso podem ser classificadas em diretas e
indiretas. As perdas diretas esto relacionadas aos custos de manuteno para substituio das
peas ou dos equipamentos em si que sofreram corroso, incluindo-se material e mo-de-obra,
alm dos custos dos processos de proteo. As perdas indiretas so mais difceis de serem
identificadas, avaliadas e mensuradas, podendo totalizar custos ainda mais elevados que os
custos das perdas diretas. Essas ltimas esto relacionadas perda de eficincia dos
equipamentos, perda de produto, paralisaes acidentais, superdimensionamento nos projetos
e contaminao dos produtos.

Estima-se o custo da corroso em 3,5% do PIB mundial (GENTIL, 2003). Neste custo
esto inclusos os custos devido s perdas diretas e indiretas, ou seja, no somente os gastos
com reposio de materiais, mas tambm os gastos com preveno de corroso, como
emprego de materiais mais resistentes aos processos corrosivos, medidas de preveno e de
proteo e com manuteno. A corroso avana paralelamente ao desenvolvimento
tecnolgico e quanto mais tecnologicamente avanado for um pas, mais elevado o custo de
2
corroso de modo que as medidas para sua preveno e combate possuem uma grande
prioridade. Alm das questes econmicas, a corroso assume um papel altamente
preocupante quanto s questes de segurana e poluio ambiental. Corroso em tubulaes
ou em tanques de armazenamento de derivados de petrleo, e consequente vazamento do
fluido de servio, podem ser seguidos de incndio ou exploses de grandes propores com
custos de recuperao exorbitantes, impacto ambiental incalculvel e perda de vidas humanas.

Devido agressividade dos fluidos produzidos aos materiais metlicos dos
equipamentos da indstria de produo de petrleo e gs natural so disponibilizados grandes
recursos para o monitoramento, a manuteno e a substituio de peas ou dos equipamentos
como um todo. A sinergia entre slidos suspensos, carreados junto com os hidrocarbonetos
obtidos, sais dissolvidos e, principalmente, gases corrosivos resulta na deteriorao desses
materiais metlicos.

A reposio de metais e ligas faz com que a crescente extrao das reservas naturais de
minrios tendam ao esgotamento e, alm disso, h uma agresso ao meio ambiente, pois reas
de minrios antes montanhosas ficam reduzidas a vales com acentuadas profundidades.
Portanto, alm da perda de reservas naturais, tem-se grande influncia no meio ambiente,
causa de grandes debates entre mineradoras e ambientalistas.

Dentre os mtodos utilizados para a proteo contra a corroso podem-se citar os
revestimentos nos quais o princpio bsico da proteo impedir o contato do meio corrosivo
com o material que se deseja proteger. Os mecanismos de proteo que o revestimento impe
ao sistema podem ser resumidos como: por proteo catdica, andica ou por barreira. A
tcnica de utilizao de revestimentos sobre componentes ou sobre produtos metlicos,
tambm conhecida como engenharia do revestimento, est crescendo acentuadamente devido
aos altos custos dos materiais estruturais avanados e aos crescentes requisitos de ciclo de
vida dos sistemas de alto desempenho. Levando em considerao a variedade de
revestimentos e a complexidade dos fatores ambientais, pode ser usado um material estrutural
de custo mais baixo como substrato e sobre este aplicar um revestimento para proteg-lo do
ambiente no qual se empregar. Essa lgica tem levado ao rpido desenvolvimento da
tecnologia de revestimentos para uso como parte integrante do projeto, em diversas aplicaes
de engenharia.

3
Os materiais quasicristalinos AlCuFe apresentam excelentes propriedades mecnicas e
superficiais, tais como: elevada dureza, baixo coeficiente de atrito, boa resistncia oxidao
e corroso, elevada resistncia ao desgaste e, ainda, baixas condutividades eltrica e trmica.
Os materiais quasicristalinos AlCuFe so bastante quebradios, sendo por isto,
frequentemente, utilizados em forma de p como reforos em materiais compsitos ou para
aplicao em revestimentos.

Dentre todas as ligas quasicristalinas, a liga AlCuFe uma das que tem sido bastante
estudada devido sua particular facilidade de construo e aplicao como revestimento
atravs da asperso trmica, alm de resistncia corroso em diversos meios corrosivos. No
entanto, uma melhor caracterizao se faz necessria para se entender qualitativamente sua
resistncia corroso quanto aos ambientes corrosivos mais comuns do setor de explorao e
produo de petrleo.



1.2 OBJETIVOS DO TRABALHO


1.2.1 Objetivo Geral

O objetivo deste trabalho a caracterizao de algumas propriedades mecnicas e
avaliao da resistncia corroso da liga quasicristalina AlCuFe em ambientes corrosivos
que simulem as condies mais graves do campo de explorao e produo de petrleo e gs
natural da Bacia Sergipe-Alagoas, Brasil.

1.2.2 Objetivos Especficos

Avaliao da resistncia corroso em ambientes corrosivos que simulem as
condies mais graves dos fluidos de servio do campo.

A determinao de algumas propriedades mecnicas da liga (dureza, microdureza e
mdulo de elasticidade).

Avaliao da degradao da liga quanto microdureza.

4

1.3 ORGANIZAO DO TRABALHO

Esta dissertao est estruturada da seguinte forma:
O captulo I uma introduo onde se pretende ressaltar a importncia do trabalho e de
seus objetivos.
No captulo II, realizada uma abordagem dos equipamentos utilizados para o
armazenamento e produo na indstria do petrleo, uma breve reviso de engenharia dos
materiais e de corroso, dando enfoque apresentao dos quasicristais, e uma reviso da
literatura acerca das tcnicas de caracterizao fsico-qumica e de resistncia corroso.
No captulo III, so descritos os materiais e mtodos utilizados na caracterizao
mecnica e fsica da liga, ensaios de corroso no laboratrio e, tambm, o emprego do
planejamento experimental.
O captulo IV apresenta os resultados obtidos dos ensaios de caracterizao mecnica e
de corroso, alm da anlise dos mesmos, tendo em vista valores das grandezas de ligas
similares disponveis na literatura cientfica.
No captulo V so apresentadas as concluses quanto possibilidade de emprego na
indstria do petrleo.
O captulo VI apresenta as referncias bibliogrficas.
5
CAPTULO II




REVISO BIBLIOGRFICA



2.1 ARMAZENAMENTO E TRANSPORTE DE PETRLEO

2.1.1 Tanques de Armazenamento

Tanques de armazenamento so equipamentos de caldeiraria pesada, sujeitos presso
aproximadamente atmosfrica e destinados, principalmente, ao armazenamento de petrleo e
seus derivados. Quanto geometria so normalmente cilndricos, dispostos verticalmente, no
enterrados, de fabricao soldada e construdos com chapas de ao carbono. So
equipamentos tipicamente encontrados em refinarias, terminais, oleodutos, bases de
distribuio, parques industriais etc (BARROS, 2003; PETROBRAS N-0270, 2008).

Atualmente, os tanques de armazenamento convencional, ver Figura 1, projeto
convencional e material de fabricao nacional, so construdos numa ampla faixa de
capacidades, desde 100 barris (16m
3
) at aproximadamente 550.000barris (87.500m
3
). Como
o custo do barril armazenado decresce com o aumento da capacidade do tanque, haver,
normalmente, o interesse na construo de tanques de armazenamento com capacidade cada
vez maior. Desta forma, construes especiais permitem a construo de tanques de
armazenamento com capacidade superior a 1.000.000barris (BARROS, 2003).

A construo de um tanque de armazenamento merece a mais cuidadosa ateno
possvel, principalmente devido aos seguintes motivos: elevado investimento de capital
envolvido e por serem equipamentos imprescindveis ao funcionamento de uma unidade
operacional.



6

Figura 1 Tanque de armazenamento de petrleo da Unidade de Negcio Sergipe e Alagoas da
Petrobras.



2.1.2 Equipamentos de Processo

Denominam-se equipamentos de processo os equipamentos em indstrias de processo,
que so as indstrias nas quais materiais slidos ou fluidos sofrem transformaes fsico-
qumicas, ou as que se dedicam armazenagem, manuseio ou distribuio de fluidos. Os
equipamentos de processo esto sempre submetidos simultaneamente presso interna e
externa, mesmo para aqueles submetidos ao vcuo, pois no existe o vcuo absoluto
(TELLES, 2001; PETROBRAS N-0253, 2006).

Os equipamentos de processo so geralmente cilindros metlicos, ver Figura 2, feitos
de chapas soldadas, com as extremidades fechadas por calotas semi-elpticas, torisfricas ou
semi-esfrica. Constituem no s os equipamentos mais importantes da maioria das indstrias
de processo, como tambm, so geralmente os itens de maior tamanho, peso e custo unitrio
nessas indstrias, representando em mdia 60% do custo total dos materiais e equipamentos
de uma unidade de processo (TELLES, 2001).


Os equipamentos de processo, sujeitos ou no chama, so, como o prprio nome
indica, os equipamentos onde h ou no a presena de fogo, embora os no sujeitos a chamas
7
possam, em muitos casos, trabalhar em elevadas temperaturas. De uma forma genrica, os
equipamentos de processo no sujeitos chama so empregados em trs casos gerais de uso:
armazenagem de gases sob presso, processamento de gases e lquidos e acumulao
intermediria de gases e lquidos em processos industriais (PETROBRAS N-0268, 2006).

A faixa de variao de presses e de temperaturas de trabalho dos equipamentos de
processo muito extensa. Existem equipamentos de processo trabalhando desde presses
muito baixas at cerca de 4.000kgf/cm
2
(=400MPa), e desde temperaturas muito baixas at
temperaturas da ordem de 1.500C. Os equipamentos de processo podem ter grandes
dimenses e pesos, havendo alguns com mais de 60m de comprimento, e outros com mais de
200 toneladas (TELLES, 2001; PETROBRAS N-0253, 2006).




Figura 2 Equipamento de processo da Unidade de Processamento de Gs Natural da UN-SEAL da
Petrobras.


Os processos corrosivos em equipamentos de processo dependem das condies de
operao e geometria peculiares de cada tipo. Podem ser observados, por exemplo, os
seguintes tipos:

- Corroso atmosfrica;
- Corroso interna por compostos de enxofre H
2
S;
8
- Corroso sob tenso devido a compostos de enxofre na parte interna;
- Corroso qumica (oxidao a altas temperaturas) de tubos e suportes;
- Corroso galvnica;
- Corroso bacteriana;
- Corroso-eroso devido passagem de lquidos contendo slidos em suspenso
(DUTRA & NUNES, 2006; NUNES, 2007).


2.1.3 Tubulaes Industriais

Tubulao um conduto forado constitudo de diversos acessrios destinado ao
transporte de fluidos. As tubulaes so utilizadas para o transporte de todos os fluidos, ver
Figura 3, materiais fluidos com slidos em suspenso e slidos fluidizados. A necessidade da
existncia das tubulaes decorre principalmente do fato do ponto de gerao ou de
armazenamento dos fluidos est, em geral, distante do seu ponto de utilizao (TELLES,
2004; DUTRA & NUNES, 2006; PETROBRAS N-0057, 2006).

As reas de processo normalmente se caracterizam em serem reas relativamente
pequenas e com uma grande densidade de equipamentos e tubulaes. Em algumas reas de
utilidades, que constituem apoio rea de processo, como, por exemplo, as centrais de
gerao de vapor e centrais de ar comprimido, h tambm um grande congestionamento de
equipamentos e de tubulaes em reas relativamente pequenas, seguindo-se assim nessas
reas, os mesmos critrios de arranjo e detalhamento de tubulaes das reas de processo
(ASME B31.3, 2006; TELLES, 2004).

Nas indstrias de processo, quer sejam qumicas, petroqumicas ou do petrleo o valor
das tubulaes representa, em mdia, 20 a 25% do custo total da instalao industrial, a
montagem das tubulaes atinge, em mdia, 45 a 50% do custo total da montagem de todos os
equipamentos, e o projeto das tubulaes vale, em mdia, 20% do custo total do projeto da
indstria. A importncia da rede de tubulaes muito grande nessas indstrias, pois so os
elementos fsicos de ligao entre os equipamentos (vasos de presso, reatores, tanques,
permutadores etc.) (TELLES, 2004).

9

Figura 3 Sistema de tubulaes industriais da Unidade de Negcio Sergipe e Alagoas da Petrobras.



As tubulaes industriais podem ser areas ou enterradas. As tubulaes areas so
utilizadas em unidades de processo e nos parques de armazenamento. Estas tubulaes
transportam petrleo, derivados, gua, dentre outros. (PETROBRAS N-0057, 2006).

Os principais processos corrosivos observados so:

- Corroso atmosfrica;
- Corroso pela gua doce ou salgada, de refrigerao, gua de incndio, gua de
lastro, etc.;
- Corroso bacteriana (DUTRA & NUNES, 2006; NUNES, 2007).

As tubulaes enterradas so usadas em vrias unidades e, principalmente, em parques
de armazenamento de petrleo e derivados, e os principais processos corrosivos so:

- Corroso pelo solo na parte externa;
- Corroso pela gua (doce e do mar) em tubulaes de guas oleosas, guas de
lastros, gua de incndio etc (DUTRA & NUNES, 2006; NUNES, 2007).


10
2.2 PRINCPIOS DE CINCIA E ENGENHARIA DOS MATERIAIS

2.2.1 A Estrutura Cristalina

Os metais, ao se solidificarem, cristalizam, ou seja, os seus tomos que, no estado
lquido, estavam se movimentando e distribudos a esmo, localizam-se em posies
relativamente definidas e ordenadas, que se repetem em trs dimenses, formando uma figura
geomtrica regular que o cristal (CALLISTER, 2002; MEYERS & CHAWLA, 1995).

Existem sete sistemas cristalinos: triclnico, monoclnico, ortorrmbico, hexagonal,
rombodrico, tetragonal e cbico. De acordo com a disposio dos tomos, originam-se desses
sistemas 14 possveis distribuies, formando os chamados reticulados, designados com o
nome de reticulados de Bravais (CHIAVERINI, 1986; MEYERS & CHAWLA, 1995; VAN
VLACK, 1970). Esses 14 reticulados de Bravais so referidos a sistemas de eixos que nem
sempre so distintos. Assim, h apenas sete sistemas de eixos que representam os 14
reticulados. A Tabela 1 mostra os sistemas cristalinos e os reticulados existentes.


Tabela 1 Sistemas cristalinos e reticulados de Bravais
Sistema Eixos e ngulos Reticulado de Bravais
Triclnico
90
a b c
Simples
Monoclnico
= = 90
a b c
Simples
Base centrada
Ortorrmbico
= = = 90
a b c
Simples
Base centrada
Corpo centrado
Face centrada
Tetragonal
= = = 90
a = b c
Simples
Corpo centrado
Cbico
= = = 90
a = b = c
Simples
Corpo centrado
Face centrada
Trigonal/Hexagonal
= = 90 , = 120
a = b c
Simples
Rombodrico
= = 90
a = b = c
Simples


A Figura 4 mostra a representao espacial utilizada para identificar os sistemas
cristalinos. Cada cristal constitudo por apenas um determinado grupo de tomos chamado
de clula unitria ou clula cristalina unitria. Um conjunto de clulas unitrias forma o
cristal com contornos geomtricos, o qual, ao adquirir os contornos irregulares pelo seu
11
crescimento e devido aos pontos de contato de cada conjunto, passa a chamar-se de gro. Em
resumo, cada gro constitudo por milhares de clulas unitrias, as quais consistem em
grupos de tomos que se dispuseram em posies fixas, formando figuras geomtricas tpicas.
Essas disposies fixas do origem aos reticulados (CALLISTER, 2002; VAN VLACK, 1970;
CHIAVERINI, 1986).


Figura 4 Representao espacial dos sistemas cristalinos


Um cristal contm planos de tomos e estes planos influenciam as propriedades
mecnicas do cristal, tais como: a resistncia elstica, a ductilidade, a deformao plstica e
outras. , portanto, vantajoso identificar os vrios planos atmicos que existem em um cristal
(TILLEY, 2006). A especificao de direes e planos em reticulados cristalinos requer um
sistema de notao adequado, sendo de aceitao universal o sistema de ndices de Miller
(MEYERS & CHAWLA, 1995).

A identificao dos planos desses reticulados realizada admitindo-se arbitrariamente,
na clula unitria, trs eixos perpendiculares entre si de modo que a orientao desses planos
possa ser designada por um conjunto de trs nmeros, chamados ndices de Miller,
representados por (hkl). Em outras palavras, os ndices de Miller especificam os planos
cristalogrficos em termos de comprimento de suas interseces com os trs eixos, a partir da
12
origem (TILLEY, 2006). A Figura 5 mostra um reticulado geral, com os ngulos interaxiais
(, , ) e distncias (a, b e c). Os pontos do reticulado correspondem a tomos.

A posio e orientao do plano de um cristal so determinadas por trs pontos (do
eixo cristalino) no colineares. Os ndices de Miller no so exatamente o valor da interseco
dos planos com o eixo. Quando temos um plano que intercepta 3 eixos, nos pontos (x,0,0),
(0,y,0) e (0,0,z), representamos essas interseces por x, y, z. O ndice de Miller com 4
nmeros (hklm) usado nos sistemas cristalogrficos hexagonal e rombodrico.



Figura 5 Reticulado geral de referncia.


Os cristais no so necessariamente perfeitos, ou seja, existem imperfeies de modo
que os tomos nem sempre se dispem regularmente para formar uma clula unitria ou
conjunto de clulas. Muitas propriedades mecnicas esto associadas ao desvio da referncia
de estudo de um cristal perfeito.

Essas imperfeies cristalinas so, em princpio, de dois tipos: imperfeies de ponto e
imperfeies de linha. As imperfeies de ponto correspondem falta de um ou mais tomos,
presena de tomos extras ou ao deslocamento de tomos. As imperfeies de linha
correspondem ausncia de tomos em linha de um plano de tomos. A mais importante a
discordncia porque se atribui a esse defeito a principal responsabilidade pelo fenmeno da
deformao plstica dos metais (TILLEY, 2006; MEYERS & CHAWLA, 1995;
CHIAVERINI, 1986).

Alm das imperfeies supracitadas, existem outras imperfeies relacionadas com as
superfcies externas dos cristais ou com os cristais adjacentes, ou seja, com os contornos dos
gros. Os tomos da superfcie no se encontram totalmente cercados por outros tomos,
13
como acontece no interior do reticulado, e por isso apresentam uma maior energia que os
tomos interiores. O contorno de gro caracterizado por ser uma zona de transio na qual os
tomos no pertencem claramente a gro algum, ao contrrio do que ocorre no interior do
gro, e por isso possuem um nvel energtico maior de forma a serem mais sujeitos ao de
reagentes qumicos (TILLEY, 2006; CALLISTER, 2002).

2.2.2 Os Quasicristais

Os quasicristais so materiais incomuns devido a diversos fatores, principalmente
devido peculiaridade da sua estrutura. Eles se constituem em uma classe intermediria entre
os materiais amorfos e os cristalinos, quanto ao grau e caracterstica de ordenamento. Um
quasicristal pode ser relacionado como constitudo de aglomerados icosadricos de tomos
metlicos, todos orientados da mesma forma, e separados por quantidades variveis de
materiais desordenados. As caractersticas dos quasicristais so bem distintas em relao s
caractersticas dos metais convencionais. Eles tambm se caracterizam por uma baixa
condutividade trmica e alta resistividade (TILLEY, 2006; SHAITURA & ENALEEVA,
2007).

Os materiais quasicristalinos so atomicamente bem ordenados, porm, no se repetem
a intervalos regulares, ou melhor, no apresentam periodicidade. Os quasicristais apresentam
um ordenamento rotacional, mas no translacional como estabelecido pela cristalografia
clssica para a identificao de um material cristalino. A descoberta dos quasicristais se deu
por Schechtman em 1984, com a liga AlMn (TILLEY, 2006; SHECHTMAN et al., 1984;
DUBOIS, 2000).

As ordens de simetria rotacional de um material quasicristalino podem ser 5, 8, 10 e
12, e em todas elas, os quasicristais resultantes iro apresentar modelos de difrao bem
definidos. Essas ordens de simetria podem ser denominadas como falsas simetrias, pois no
resultaro em corpos simtricos, pois as operaes de translao num espao tridimensional
no so aplicadas aos materiais quasicristalinos. Os quasicristais so compostos por unidades
estruturais icosaedrais, octogonais, decagonais ou dodecaedrais, ao invs de clulas unitrias
comuns aos cristais (SAARIVIRTA, 2004).

Quasicristais estveis termodinamicamente existem, na maioria, na forma de ligas
ternrias (AlPdMn, AlCuFe, AlCuRu, etc.) e binrias (ZrPd, ZrPt, ZrBe, etc.). Os quasicristais
14
podem ser utilizados como aditivos e em revestimentos devido s suas propriedades de
resistncia e tribolgicas, os quais no mudam a composio do objeto, mas
significativamente aumentam a resistncia ao desgaste, durabilidade quanto corroso, e a
resistncia mecnica de sua superfcie. A maioria destas ligas forma quasicristais que
irreversivelmente se transformam em cristais regulares quando do aquecimento a altas
temperaturas (JENKS & THIEL, 1998; DUBOIS, 2000; MENUSHENKOV et al., 2007).

Vrios pesquisadores, no mundo, se voltaram para o estudo desses novos materiais e,
j em 1986, ligas quasicristalinas, termodinamicamente estveis, foram obtidas. At a presente
data, mais do que cem diferentes ligas quasicristalinas baseadas, por exemplo, em alumnio,
magnsio, zinco, zircnio, cdmio e titnio tm sido obtidas e investigadas. Os quasicristais
possuem propriedades que so de grande interesse para aplicaes industriais, comerciais etc.
Estas propriedades incluem um baixo coeficiente de atrito, alta dureza, resistncia ao desgaste
e oxidao, baixa condutividade trmica e eltrica (SHAITURA & ENALEEVA, 2007). A
aplicao de quasicristais limitada pela sua alta fragilidade e baixa deformao a
temperatura ambiente. Estes empecilhos podem ser sobrepujados atravs do uso de
quasicristais na forma de multifases e de materiais compostos ou como revestimentos. As
ligas icosaedrais AlCuFe so de grande interesse comercial por apresentarem baixo
coeficiente de atrito, elevada dureza e boa resistncia a temperatura ambiente. Essas ligas
apresentam, ainda, baixo coeficiente de expanso trmica e elasticidade, caracterizada pelo
Mdulo de Young, prxima dos metais comuns, como pode ser visto na Tabela 2 (PRINCIPI
et al. , 2005; JENKS & THIEL, 1998). Os componentes que entram na composio desta liga
no so txicos, uma caracterstica que expande a sua aplicao (DUBOIS, 2000; ISAEV &
VEKILOV, 2007)

Os materiais quasicristalinos apresentam excelentes propriedades mecnicas e
superficiais. O interesse pelos quasicristais advm, principalmente, dessas suas propriedades
fsico-qumicas paradoxais, para sistemas metlicos, e de suas propriedades eletrnicas, alm,
evidentemente, de suas caractersticas microestruturais mpares. Realmente, as ligas
quasicristalinas mostram comportamentos fundamentalmente diferentes comparados s ligas
metlicas cristalinas, com composies muito prximas, como reportado por quasicristais
ricos em alumnio, por exemplo, tem condutividade eltrica muito baixa, quando comparada
com ligas de base alumnio cristalinas ou amorfas a baixas temperaturas. Alm do mais, essa
condutividade diminui com o aumento da temperatura, contrariando o comportamento dos
metais comuns. Em baixas temperaturas, as ligas quasicristalinas i-AlCuFe e i-AlPdMn tm
15
propriedade trmica semelhante a de alguns xidos, tais como os de zircnia, que so
considerados excelentes isolantes. Possuem boa resistncia corroso e oxidao (JENKS &
THIEL, 1998; RUDIGER & KOSTER, 1999).

Tabela 2 - Propriedades fsicas e mecnicas de ligas quasicristalinas comparadas com outros materiais (JENKS
&THIEL, 1998).
PROPRIEDADES VALORES MATERIAL
Dureza (HV)
6000 10000
750 1200
800 1000
700 800
70 200
40 105
25 45
Diamante
Silica
Al-Cu-Fe (q)
Al-Pd-Mn (q)
Ao de baixo carbono
Cobre
Alumnio
Coeficiente de atrito (no
lubrificado, atrito com
diamante)
0,42
0,37
0,32
0,05 0,2
Cobre
Ligas de alumnio
Ao de baixo carbono
Al-Cu-Fe (q)
Tenacidade na fratura(MPa
m
1/2
)
4
1,5
1
0,3
Alumina
Slica
Al-Cu-Fe (q)
Al-Pd-Mn (q)
Mdulo de Young (10
6

psi)
31
29
19
10
9
Ao inox
Al-Pd-Mn (q)
Cobre
Alumnio
Al-Cu-Fe (q)
Condutividade Trmica (Wm
-1
K
-1
)
390
170
50
2
Cobre
Alumnio
Ao de baixo carbono
Al-Cu-Fe (q)
Energia superficial (mJ/m
2
)
2480
1830
50
24 25
17 18
Ferro
Cobre
Alumina
Al-Pd-Mn (q)
Teflon


A condutividade trmica dos quasicristais menor do que a do cobre por um fator de
200, a qual vrias vezes menor do que a do ao inoxidvel, e comparvel com a
condutividade trmica da slica fundida. Os modos vibracionais com energias excedendo a
100K esto fortemente acoplados nos quasicristais. Este efeito conduz a uma condutividade
trmica muito baixa: cerca de 1 W/mK, que depende fracamente em temperaturas acima de
100K. Tais valores de condutividade trmica so comparveis com as dos dieltricos (Tabela
3). A condutividade trmica muito baixa pode ser uma propriedade de valor, especialmente
em combinao com um coeficiente de frico baixo e plasticidade a altas temperaturas
(SHAITURA & ENALEEVA, 2007).
16
Tabela 3 Condutividade trmica, W m
-1
K
-1
(SHAITURA & ENALEEVA, 2007).

Cobre 400
Ligas de alumnio 92-220
Ao inoxidvel 14-88
i-Al
65
Cu
20
Fe
15
2
i-Al-Mn-Pd 1,6
i-Al-Pd-Re 0,8
Slica fundida 1,36

A Tabela 4 demonstra que a microdureza dos revestimentos quasicristalinos das ligas
Al
65
Cu
20
Fe
15
, Al
64
Cu
18
Fe
8
Cr
8
e Al
65
Cu
20
Fe
15
Cr
10,5
Si
3
muito prxima da microdureza dos
materiais brutos de suas ligas. A investigao em amostras e revestimentos baseados em ligas
quasicristalinas de diferentes composies mostrou que eles possuem uma boa combinao de
microdureza, coeficiente de frico e resistncia ao desgaste. A depender do penetrador
utilizado, o coeficiente de frico pode variar, mas a mdia do coeficiente de frico do
quasicristal bruto um valor que menor do que o coeficiente de frico da liga de alumnio.
O coeficiente de frico dos revestimentos quasicristalinos pode ser menor ou maior em
comparao com os quasicristais brutos, mas no maior do que o coeficiente de frico do ao
e sempre menor do que o da liga de alumnio (GELLMAN et al., 2005; SHAITURA &
ENALEEVA, 2007).

Investigaes a respeito da frico dos quasicristais em alto vcuo mostraram que uma
superfcie limpa de quasicristais tem um coeficiente de frico mais alto em comparao com
a superfcie oxidada. No entanto, os quasicristais possuem um coeficiente de frico mais
baixo do que os seus anlogos cristalinos (ZABINSKI & PHILLIPS, 2004; SHAITURA &
ENALEEVA, 2007).



17
Tabela 4 Microdureza e coeficiente de frico (SHAITURA & ENALEEVA, 2007).
Material
Microdureza
(HV, GPa)
Coeficiente de frico
No Ao No Diamante
Ligas de alumnio
0,87 0,55 0,23-0,37
Ao 1,2 0,22 0,11-0,32
Cobre 0,48 0,24 0,12-0,42
Al
65
Cu
20
Fe
15
,
quasicristal
5,2 0,14 0,15-0,19
Al
64
Cu
18
Fe
8
Cr
8
,
quasicristal
5,5 0,17 0,1-0,17
Al
65
Cu
20
Fe
15
Cr
10,5
Si
3
,
quasicristal
7 0,13 0,09-0,17
Al
65
Cu
20
Fe
15
,
revestimento
quasicristalino
5,4 0,19 0,08-0,2
Al
64
Cu
18
Fe
8
Cr
8
,
revestimento
quasicristalino
5,5 0,22 0,07-0,22
Al
65
Cu
20
Fe
15
Cr
10,5
Si
3
,
revestimento
quasicristalino
5,8 0,19 0,07-0,23



2.2.3 A Liga Quasicristalina de AlCuFe

Nos dias atuais, uma centena de ligas quasicristalinas conhecida, sendo a maioria de
base alumnio. Entre essas, as mais estudadas so as de AlCuFe. O sucesso destas ligas pode
ser justificado pelo seu baixo custo, baixa condutividade trmica, alta dureza, baixo
coeficiente de frico, estabilidade qumica, pela facilidade de obteno e pela ausncia de
toxicidade. A Figura 6 apresenta um exemplo de uma liga icosaedral quasicristalina AlCuFe
(CALVAYRAC et al., 1998; YAKOVLEV et al., 2006; DUBOIS, 2000; SHAITURA &
ENALEEVA, 2007).

18

Figura 6 Liga icosaedral quasicristalina de Al
62.2
Cu
25.5
Fe
12.3
(PASSOS, 2006).

A liga quasicristalina do Al
65
Cu
22
Fe
13
se forma atravs do seguinte mecanismo de
ordenamento, obtido por anlise de espectroscopia: durante a transio de um cristal para um
quasicristal, a distncia suavemente aumenta entre o tomo de cobre central e os tomos de
cobre localizados na posio 3. Contudo, muito maior o aumento na distncia para os
tomos de cobre nas posies 6. Com a conservao da simetria dos tomos de cobre ao redor
da estrutura local, a mudana descrita nas distncias pode ser causada pela rotao dos
quadrados compostos de tomos de cobre em direo aos tomos de alumnio mais vizinhos.
Desde que a distncia do Cu-Al quase no muda durante a transio para a fase
quasicristalina, os tomos de alumnio ao redor do cobre deslocam-se, seguindo os tomos de
cobre, em relao ao ferro para formar um agrupamento icosadrico de simetria pentagonal
com um tomo de ferro no centro (Figura 7) (MENUSHENKOV et al., 2007).


Figura 7 - Diagrama esquemtico do rearranjo da estrutura local atravs da formao de um quasicristal
(MENUSHENKOV et al., 2007).

19
A dureza de materiais quasicristalinos de AlCuFe cerca de 10% do mdulo de
elasticidade, enquanto que a resistividade em torno de 3-10 m.cm a temperatura de 4,2 K.
(PRINCIPI et al, 2005; YAKOVLEV et al., 2006). O comportamento da resistncia quanto
temperatura do tipo no metlica, ou seja, a resistncia diminui com um aumento na
temperatura. A resistncia eltrica dos quasicristais menor do que a de materiais isolantes e
de semicondutores, porm maior do que a dos metais e dos cristais com a mesma composio
de um quasicristal correspondente. Com um aumento na qualidade da estrutura, a resistncia
das ligas quasicristalinas baseadas em alumnio aumenta. A liga quasicristalina do AlCuFe
estvel at a sua temperatura de fuso, ou seja, 862C. A qualidade estrutural de quasicristais
estveis termodinamicamente com a estrutura icosadrica de face centrada, a qual foi revelada
em experimentos de difrao de nutrons e de raio-X, a mesma encontrada em cristais
convencionais de alta qualidade. A Figura 8 mostra o modelo de difrao de um quasicristal
de Al
66
Cu
22
Fe
12
(ISAEV & VEKILOV, 2007; SHAITURA & ENALEEVA, 2007).



Figura 8 Modelo de difrao eletrnica de um gro de um revestimento de quasicristal de AlCuFe de
300 nm de espessura (SHAITURA & ENALEEVA, 2007).

2.2.4 Processamento da Liga Quasicristalina de AlCuFe

Fases estveis de materiais quasicristalinos, ou seja, fases que obedecem a condies
de formao reversveis e a um equilbrio termodinmico, usualmente possuem uma faixa de
composio no maior do que de 2 a 3 tomos percentuais de cada componente, implicando
na necessidade da preciso nas condies tcnicas do processo de produo e o uso restrito
das tcnicas metalrgicas clssicas, o que tambm se caracterizaria em tcnicas de baixo custo
(PRINCIPI, 2005, et al; YAKOVLEV et al., 2006).
20

A rota mais comum para a preparao de amostras em laboratrio a obteno de
lingotes a partir da fundio de constituintes puros sob condies de vcuo e atmosfera inerte
e subseqente solidificao rpida ou lenta. Outras tcnicas tambm conhecidas so a
mecanossntese e a deposio eletroqumica, dentre outras. Os materiais quasicristalinos so
bastante quebradios, sendo por isto, freqentemente, utilizados em forma de p como
reforos em materiais compsitos ou para aplicao em camadas superficiais. Para as
aplicaes superficiais, a tcnica de asperso trmica a plasma j vem sendo empregada com
sucesso (KANG et al., 2005) .

Um outro mtodo de processamento de amostras de quasicristais atravs da
metalurgia do p usando duas tcnicas. No primeiro caso, depois da mistura dos ps de metais
eletroliticamente puros, a amostra secada no ar e, ento, cilindros so formados atravs de
prensagem a frio. Posteriormente, esses cilindros so expostos a um processo de recozimento
a vcuo e temperatura de 800C, durante duas horas. No segundo caso, um cristal pr-fase
preparado no primeiro estgio atravs de recozimento a vcuo e temperatura de 500C,
durante 20 minutos. No segundo estgio, uma amostra quasicristalina obtida como resultado
do recozimento a vcuo e temperatura de 700C, durante 20 minutos (MENUSHENKOV &
RAKSHUN, 2007). Para fabricar revestimentos a partir do p, os mtodos eletroqumicos e
gs-temperatura so os mais utilizados. Vrios mtodos fsicos de deposio de vapor qumico
so utilizados para se obter filmes como cobertura (SHAITURA & ENALEEVA, 2007).

O mtodo de gs-atomizao largamente utilizado na indstria. Uma liga metlica
com uma razo de elementos necessrios fundida em uma fornalha para formar uma fase
lquida homognea. O material fundido pulverizado a uma taxa constante de fluxo de gs
inerte. Pequenas gotas so resfriadas e solidificadas. A formao da fase quasicristalina
depende da taxa de resfriamento. Quanto maior a presso de gs, menor o tamanho da
partcula. Para se obter pequenas partculas (< 1m) de formato esfrico necessrio uma
centrfuga (SHAITURA & ENALEEVA, 2007).

2.3 Corroso

A corroso um fenmeno que se manifesta atravs de reaes qumicas irreversveis
acompanhadas da dissoluo de um elemento qumico do material para o meio corrosivo ou
da dissoluo de uma espcie qumica do meio no material (GEMELLI, 2001).
21
caracterizada pela deteriorao de um material, geralmente metlico, por ao qumica ou
eletroqumica do meio ambiente, associada ou no a uma ao fsica (GENTIL, 2003;
NUNES, 2007).

Sendo a corroso um processo espontneo, ela est constantemente transformando os
materiais metlicos de modo a modificar a durabilidade e o desempenho dos mesmos. Pode-se
admitir a corroso como o inverso do processo metalrgico, cujo objetivo principal a
extrao do metal a partir de seus compostos, ao passo que a corroso tende a oxidar o metal
devolvendo-o a sua forma original de composto (DUTRA & NUNES, 2006; GENTIL, 2003).

O conceito de resistncia corroso est intimamente relacionado ao de integridade,
que por sua vez tem uma importante vinculao com os aspectos de confiabilidade
operacional. Ao se considerar o emprego de materiais na construo de equipamento ou
instalaes necessrio que resistam ao do meio, alm de apresentar propriedades
mecnicas e caractersticas de fabricao adequada.


2.3.1 Corroso Eletroqumica

A corroso eletroqumica constitui-se no processo de corroso mais freqente na
natureza. Estes processos eletroqumicos realizam-se na presena da gua lquida e devido
formao de pilhas ou clulas de corroso e em temperatura abaixo do ponto de orvalho
(NUNES, 2007). A reao considerada eletroqumica se ela estiver associada a uma
passagem de corrente eltrica atravs de uma distncia finita, maior do que a distncia
interatmica. Na maioria das reaes eletroqumicas, os ons se movimentam atravs de
eletrlito lquido ou eletrlito slido, como no caso da pelcula de xido metlico que se
forma na superfcie do metal na reao de oxidao (GENTIL, 2003; WOLYNEC, 2003).

Quando um metal mergulhado numa soluo aquosa, imediatamente se inicia a
formao de ons dentro da soluo e com a permanncia dos eltrons dentro do metal, pois h
uma tendncia natural da maioria dos metais a entrar em soluo num eletrlito. Estes eltrons
carregam eletricamente o metal e criam um campo eltrico dentro da soluo, que faz com que
ons, que so carregados positivamente, tendam a ficar retidos na vizinhana da interface
metal-soluo. Aps um tempo relativamente curto, estabelece-se uma situao de equilbrio,
caracterizada pela formao da chamada dupla camada. Um metal que forma uma dupla
22
camada eltrica chamado de eletrodo. O exame de uma dupla camada eltrica mostra que h
uma distribuio de cargas eltricas tal que uma diferena de potencial se estabelece entre o
metal e a soluo, o que permite a definio do potencial de eletrodo (WOLYNEC, 2003;
NUNES, 2007; GEMELLI, 2001).

Na corroso eletroqumica, os eltrons so cedidos em determinada regio e recebidos
em outra, dando origem a uma pilha de corroso. Esse processo eletroqumico de corroso
pode ser decomposto em trs etapas principais:

- regio andica - passagem dos ons para a soluo (eletrlito);
- deslocamento dos eltrons e ons - observa-se a transferncia dos eltrons das
regies andicas para as catdicas pelo circuito metlico e uma difuso de nions e
ctions na soluo (eletrlito);
- regio catdica - recepo de eltrons, na rea catdica, pelos ons ou molculas
existentes na soluo (eletrlito).

Portanto, a corroso eletroqumica caracterizada pela presena de duas reaes
eletroqumicas, ou seja, na regio andica, temos uma reao de oxidao, visto que eltrons
so produtos na reao, enquanto que, na regio catdica, temos uma reao de reduo, onde
esta reao ocorre graas aos eltrons que so gerados na regio andica.

A quantidade mxima de energia que se pode obter de uma reao qumica, sob forma
de energia eltrica, igual variao de energia livre qumica. Sabe-se que, do ponto de vista
termodinmico, a ocorrncia de uma reao qumica est associada variao da energia livre
qumica, G.

Para uma reao do tipo: aA + bB + ... mM + nN + ... Eq. 1

a variao de energia livre qumica dada por:

G = (mG
m
+ nG
n
+ ...) (aG
a
+ bG
b
+ ...) Eq. 2

onde G
a
, G
b
, , G
m
, G
n
, so as energias livres qumicas dos reagentes A, B, ... e dos
produtos M, N, ..., respectivamente.

23
No caso de uma reao eletroqumica do tipo:

aA + bB + ... + ze
-1
mM + nN + ... Eq. 3

onde z o nmero de eltrons transferidos.

A energia livre qumica de uma dada entidade qumica tambm possuir uma energia
eltrica, q, se ela estiver carregada eletricamente, onde q a carga eltrica e o potencial
eltrico no ponto em que esta carga se encontra. Assim, a energia total de uma entidade
qumica carregada eletricamente ser:

G
el
= G + q Eq. 4

onde G
el
a energia livre eletroqumica.

A variao da energia livre qumica est relacionada com o potencial de eletrodo, E
e
,
atravs da seguinte relao (NATALIE, 1987; GEMELLI, 2001; WOLYNEC, 2003):

G = -zFE
e
Eq. 5

onde F a constante de Faraday.

Dessa forma, uma reao eletroqumica ser dependente da variao de energia livre
eletroqumica, de modo que:

Se G
el
< 0, a reao ser espontnea.
Se G
el
> 0, a reao ser espontnea no sentido oposto.
Se G
el
= 0, a reao estar em equilbrio.

O estado de equilbrio de uma reao eletroqumica caracterizado pela equao de
Nernst que relaciona o potencial de eletrodo com as concentraes inicas, das espcies
presentes (NATALIE, 1987; GEMELLI, 2001; WOLYNEC, 2003). Todo metal imerso em
uma soluo contendo seus prprios ons, na ausncia de reaes que interfiram, possui um
potencial de eletrodo dado pela equao de Nernst (GENTIL, 2003).

24
E
e
= E
o
+ (RT/zF) ln [Ox/Red] Eq. 6

onde E
o
o potencial de eletrodo padro, R a constante universal dos gases, T a
temperatura na qual ocorre a reao, [Ox]=a
a
A
. a
b
B
.... e [Red]=a
m
M
. a
n
N
...

Deve-se levar em considerao, porm, que um valor negativo de G mede somente a
espontaneidade de uma reao e no a velocidade dessa reao. Assim, um valor de G muito
negativo pode ou no ser acompanhado de uma velocidade elevada de reao, podendo esta
ser rpida ou lenta.

A velocidade de corroso pode se classificar em velocidade mdia e instantnea de
corroso. Com base na velocidade mdia pode-se estimar o tempo de vida til de uma
determinada estrutura, a qual pode ser obtida pela medida da diferena de peso apresentada
pelo material metlico durante intervalo de tempo de exposio ao meio corrosivo. Com base
na velocidade instantnea pode-se verificar a necessidade de aumentar ou diminuir a
concentrao de um inibidor (DUTRA & NUNES, 2006; GENTIL, 2003).


2.3.1.1 Polarizao

Na anlise da cintica de processos eletroqumicos necessrio saber as caractersticas
de polarizao do sistema (DUTRA & NUNES, 2006; GENTIL, 2003). A polarizao a
modificao do potencial de um eletrodo devido a variaes de concentrao, ativao,
cristalizao e resistncia hmica (GENTIL, 2003; NUNES, 2007; WOLYNEC, 2003). A
extenso da polarizao, medida com relao ao potencial de equilbrio, E
eq
, chamada de
sobretenso, (WOLYNEC, 2003), ou seja:

= E - E
eq
Eq. 7

Se for positivo tem-se uma polarizao andica e, se for negativo, uma polarizao
catdica, sendo as correspondentes sobretenses designadas por sobretenso andica (
a
) e
sobretenso catdica (
c
), respectivamente.

As causas da polarizao so as mais diversas. Alm de contatos galvnicos, na
prtica, a polarizao espontaneamente pode ocorrer:
25

- pela presena de meio oxidante;
- pela diferena de concentrao inica;
- pela diferena de temperatura;
- pela diferena de aerao;

Por uma fonte externa a polarizao de um metal pode ser: polarizao por
concentrao, por ativao, hmica (GENTIL, 2003; NUNES, 2007; WOLYNEC, 2003) e por
cristalizao (WOLYNEC, 2003).

Na polarizao por concentrao, as reaes de eletrodo so retardadas por razes
ligadas concentrao das espcies reagentes. Ocorre frequentemente em eletrlitos parados
ou com pouco movimento. O efeito de polarizao resulta do aumento de concentrao de
ons de metal em torno da rea andica (baixando o seu potencial) e da rarefao de ons H
+

no entorno da rea catdica. A polarizao por concentrao decresce com a agitao do
eletrlito. , portanto, um mtodo eficiente para identificar a influncia do fenmeno em um
processo eletroqumico (NUNES, 2007; GENTIL, 2003).

A polarizao por ativao se caracteriza pelo retardamento das reaes ou de fases
das reaes na superfcie de um eletrodo. Ocorre devido sobrevoltagem de gases no entorno
dos eletrodos. Os casos mais importantes no estudo da corroso so aqueles em que h
liberao de H
2
no entorno do catodo ou de O
2
no entorno do anodo. decorrente de uma
barreira energtica transferncia de eltrons, a energia de ativao (NUNES, 2007; GENTIL,
2003).

A sobrevoltagem de um metal em corroso, , e a densidade de corrente, i,
correspondente, independente do tipo de polarizao andica ou catdica correlacionada na
equao geral da cintica de eletrodo, conhecida tambm como equao de Butler-Volmer
(WOLYNEC, 2003).


= i
o
i
( )
(

RT
zF
RT
zF
c a
q o q o 1
exp exp Eq. 8


26
Como a equao de Butler-Volmer muito complexa, no permite que seja expresso
em funo de i, utilizada bastante a equao de Tafel, que um caso particular da equao
de Butler-Volmer para valores de sobretenso, em valor absoluto, superiores a 0,03 volts
(WOLYNEC, 2003).

= a + b.log i Eq. 9

onde:
- para a polarizao andica:
= a
a
+ b
a
.log i
a
Eq.10
a
a
= (-2,3 RT/nF).log i
corr
b
a
= 2,3 RT/nF


- para a polarizao catdica:
= a
c
- b
c
.log i
c
Eq.11
a
c
= (2,3 RT/(1-)nF).log i
corr
b
c
= 2,3 RT/(1-)nF

Sendo:
R: a constante dos gases;
T: temperatura;
: coeficiente de transferncia;
n: nmero de oxidao da espcie;
F: constante de Faraday.

A polarizao hmica conseqncia da resistncia eltrica oferecida pela presena de
uma pelcula de produtos sobre a superfcie do eletrodo. Ocorre devido precipitao de
compostos que se tornam insolveis com a elevao do pH no entorno das reas catdicas.
Resulta de uma queda de i x R, onde i a densidade de corrente que circula em uma clula
eletroqumica e R representa qualquer resistncia existente entre o eletrodo de referncia e o
eletrodo de trabalho, metal sob polarizao.

A polarizao por cristalizao ocorre devido ao processo de eletrodeposio, onde um
on pode ser depositado em um stio estvel ou em um ativo. Quando a cintica do processo de
27
deposio no muito grande, essa migrao ou difuso superficial do on pode passar a
controlar o processo de deposio (WOLYNEC, 2003).


2.3.1.2 Passivao

Alguns metais, quando observados experimentalmente, podem apresentar
comportamento diferente do que seria previsto pelas suas posies na tabela de potenciais. A
modificao do potencial de um eletrodo no sentido de melhorar a atividade (mais catdico ou
mais nobre) devido formao de uma pelcula de produto de corroso denominada de
passivao (NUNES, 2007; GENTIL, 2003). Alguns materiais metlicos, como alumnio,
podem se tornar passivos em determinados meios (GENTIL, 2003).

A passivao melhora a resistncia corroso e conseguida por oxidao usando-se
substncias convenientes ou por polarizao andica. Em alguns casos, o filme de xido
formado pode ser facilmente destrudo por um leve impacto.

A passividade de um metal pode ser destruda por substncias redutoras, polarizao
catdica e ons halognios. Admite-se que a passivao seja causada por um filme muito fino
de xido na superfcie metlica ou por um estado oxidado da superfcie, que impede o contato
entre o metal e o meio corrosivo. As curvas de polarizao andicas so importantes auxiliares
para o estudo e identificao de sistemas metal/meio passivveis.


2.3.1.3 Tipos de Corroso Eletroqumica

As formas segundo as quais a corroso pode manifestar-se so definidas
principalmente pela morfologia da superfcie corroda, sendo as principais (GENTIL, 2003;
DUTRA & NUNES, 2006):

Corroso uniforme: quando a corroso se processa de modo aproximadamente
uniforme em toda a superfcie atacada. Esta forma comum em metais que no formam
pelcula protetora como resultados do ataque.

28
Exfoliao: a corroso se processa de forma paralela superfcie metlica. Ocorre em
chapas ou componentes extrudados que tiveram seus gros alongados e achatados.

Corroso por placas: quando os produtos de corroso formam-se em placas que se
desprendem progressivamente. comum em metais que formam pelculas inicialmente
protetoras, mas que, ao se tornarem espessas, fraturam e perdem a aderncia, expondo o metal
a novo ataque.

Corroso alveolar: quando o desgaste provocado pela corroso se d sob forma
localizada, com o aspecto de crateras. freqente em metais formadores de pelculas
semiprotetoras ou quando se tem corroso sob depsito, como no caso da corroso por aerao
diferencial.

Corroso puntiforme ou por pite: quando o desgaste se d de forma muito localizada
e de alta intensidade, geralmente com profundidade maior que o dimetro e bordos angulosos.
A corroso por pite freqente em metais formadores de pelculas protetoras e em geral
passivadas, que, sob ao de certos agentes agressivos, so destrudas em pontos localizados,
os quais se tornam ativos, possibilitando corroso muito intensa.

Corroso intergranular: quando o ataque se manifesta no contorno dos gros, a
corroso se processa entre os gros da rede cristalina do material metlico, o qual perde suas
propriedades mecnicas e pode fraturar quando solicitado por esforos mecnicos.

Corroso transgranular: quando o fenmeno se manifesta sob a forma de trincas que
se propagam pelo interior dos gros do metal, como no caso da corroso sob tenso, a
corroso se processa nos gros da rede cristalina do material metlico, o qual perdendo suas
propriedades mecnicas poder fraturar menor solicitao mecnica, tendo-se tambm a
corroso sob tenso.

Corroso filiforme: a corroso se processa sob a forma de finos filamentos, mas no
profundos, que se propagam em diferentes direes. Ocorre geralmente em superfcies
metlicas revestidas com tintas ou com metais, ocasionando o deslocamento do revestimento
e, principalmente, quando a umidade relativa do ar maior que 85%.


29
2.3.2 Meios Corrosivos da gua Produzida de Carmpolis

A corroso tambm pode ser apresentada segundo o meio corrosivo, dos quais
destacamos os seguintes:

2.3.2.1 Corroso por CO
2


Em temperaturas normalmente encontradas em atmosferas ambientais, eles no
costumam ser corrosivos para os materiais metlicos, embora o gs carbnico forme com gua
o cido carbnico, H
2
CO
3,
que um cido fraco. Ela s ocorre na presena de uma fase aquosa
em contato com a superfcie do metal. As reaes bsicas da corroso por CO
2
tm sido bem
entendidas atravs de trabalhos e estudos realizados dcadas atrs. A principal reao inclui a
dissoluo do CO
2
e hidratao para formar o cido carbnico (GENTIL, 2003; LEE, 2004):

CO
2
(g) CO
2
(aq) Eq. 12
CO
2
(aq) + H
2
O H
2
CO
3
Eq. 13

O qual dissociado em bicarbonato e ons de carbonato em dois passos:

H
2
CO
3
H
+
+ HCO
3
-
Eq. 14
HCO
3
-
H
+
+ CO
3
-
Eq. 15

A corroso por CO
2
uma reao eletroqumica que ocorre geralmente com a reao:

Fe + CO
2
+ H
2
O FeCO
3
+ H
2
Eq. 16

Vrios fatores afetam a taxa de corroso uniforme causada pelo CO
2
no ao como a
soluo qumica, a velocidade do fluxo, temperatura, presso, pH e etc.

Dessa forma, a corroso por CO
2
leva a formao de um produto de corroso, FeCO
3
,
que quando precipitado, pode formar uma pelcula protetora ou no-protetora dependendo das
condies do meio ambiente (LEE, 2004). A camada de produto de corroso tem papel
fundamental no mecanismo, na cintica e no tipo de corroso por CO
2
. A formao irregular
da camada de corroso e a sua destruio localizada so os principais fatores que contribuem
para a corroso localizada por CO
2
(ABRANTES & PONTE, 2007).
30
2.3.2.2 Corroso por H
2
S

Os compostos de enxofre presentes nos combustveis (petrleo, carvo e derivados) e
em vrios meios ocasionam processos corrosivos que, pela importncia, merecem destaque
especial. Tais processos so especialmente aqueles devido formao de condensados cidos
em condutos de gases e em unidades de processo pela ao do H
2
S e cidos naftnicos
(GENTIL, 2003; NUNES, 2007).

A ao do H
2
S bastante intensa na faixa de temperatura em que h umidade. O caso
mais freqente de corroso por H
2
S ocorre nas partes frias dos equipamentos em espao de
vapor devido condensao de superfcie metlica de vapor de gua e H
2
S. Um processo
clssico de corroso pelo H
2
S o que ocorre nas colunas de destilao atmosfrica. Este
processo ocorre devido presena de HCl em temperaturas em que h condensao de
umidade. Cloretos esto sempre presentes no petrleo, apesar da dessalinizao (NUNES,
2007).

Quando o petrleo contm enxofre, o H
2
S age no sentido de regenerar o HCl segundo
as reaes, deixando-o disponvel para nova ao corrosiva:


Fe + 2HCl FeCl
2
+ H
2
Eq. 17

FeCl
2
+ H
2
S FeS + 2HCl Eq. 18


cidos naftnicos so o nome genrico dado mistura de cidos orgnicos existentes
no petrleo, so cidos carboxlicos ciclosparafnicos. A ao destes cidos d-se na mesma
faixa de temperatura do H
2
S (220 a 440C), sendo comum atribuir-se somente ao H
2
S a ao
corrosiva. O enxofre e gases contendo enxofre formam sulfetos do metal, que so no-
protetores e agravam o processo corrosivo por formarem eutticos de baixo ponto de fuso
com os xidos de alguns metais (NUNES, 2007).

A presena de microorganismos (bactrias) pode influenciar bastante nas taxas de
corroso. Para que isso ocorra o meio ambiente deve ser propcio ao seu crescimento e
multiplicao. Bactrias redutoras de sulfato (BRS) podem causar corroso por H
2
S mesmo
em ausncia de oxignio (condio anaerbica). Esses organismos utilizam o hidrognio
31
formado pela corroso eletroqumica durante o seu crescimento e reduzem sulfato (SO
4
) para
H
2
S. Tanto a utilizao do hidrognio, quanto a formao de H
2
S aumentam as taxas de
corroso (SUDBURY, 1958).


2.3.2.3 Corroso pela gua

Designa-se corroso pela gua os processos corrosivos observados em estruturas
submersas e sistemas que trabalham com gua no seu interior. A presena de cidos
normalmente acelera o processo corrosivo, exceo para os metais anfteros como o Zn e o Al
(NUNES, 2007).

Quanto resistividade, as guas podem ser consideradas muito corrosivas, para valores
at 3000ohm.cm, onde inclui-se a gua do mar com resistividade mdia de 30 ohm.cm,
corrosivas, para valores de 3000ohm.cm a 15000ohm.cm, e moderadamente corrosivas, para
valores acima de 15000ohm.cm (GENTIL, 2003; NUNES, 2007).

As bactrias podem ser aerbicas, geradoras de cidos por fermentao de matrias
orgnicas, ou anaerbicas, que promovem despolarizao catdica, como as redutoras de
sulfato. Quanto presena de bactrias, as guas podem ser consideradas muito corrosivas,
para solos com forte ao de bactrias, corrosivas, para guas com mdia ao, e pouco
corrosivas, para guas com fraca ao. As bactrias podem acelerar os processos corrosivos
(GENTIL, 2003; NUNES, 2007).

Os produtos qumicos tm ao diretamente ligada ao processo de hidrlise com
gerao de cido. Quanto presena de produtos qumicos, as guas podem ser consideradas
muito corrosivas, quando da hidrlise resultar um cido forte, corrosivas, quando da hidrlise
resultar um cido moderado, e pouco corrosivas, quando da hidrlise resultar um cido fraco.



32
2.3.2.4 Corroso Quanto Temperatura e ao pH

As temperaturas tm uma ao direta sobre a corrosividade, pois aceleram as reaes
de corroso e causam despolarizao; assim sendo, quanto temperatura, as guas podem ser
consideradas muito corrosivas, para temperaturas baixas devido a maior dissoluo de
oxignio, e corrosivas, para a temperatura ambiente (NUNES, 2007).

Quanto ao pH, as guas so consideradas muito corrosivas, para pH abaixo de quatro,
corrosivas, para pH de quatro a sete, e pouco corrosivas, acima de sete. Acima de pH sete, as
guas podem ser consideradas corrosivas para os metais anfteros (Al, Zn, Pb, Sn e Sb)
(NUNES, 2007).


2.3.2.5 Corroso pelo Oxignio

Tanto para estruturas imersas em gua doce como salgada as taxas de corroso podero
ser diminudas ou aumentadas de acordo com o teor de oxignio dissolvido. Mesmo na
presena de gua salgada, uma estrutura de ao ter taxas de corroso desprezveis se o teor de
oxignio dissolvido for praticamente nulo (GENTIL, 2003).

Quanto ao grau de aerao, as guas podem ser consideradas muito corrosivas, quando
muito aeradas, corrosivas, para condies de mdia aerao, e pouco corrosivas, quando
desaeradas; neste particular, a movimentao fundamental, pois favorece a dissoluo de
oxignio (GENTIL, 2003).

Apesar de no estar normalmente presente a profundidades maiores que 100m abaixo
da superfcie do solo, o oxignio , no obstante, responsvel por grande parte do processo
corrosivo encontrado na produo de leo e gs. Entretanto, problemas de corroso interna
causada pelo oxignio so maiores na produo de leo, onde a maior parte do processo
ocorre a presses prximas da atmosfrica, permitindo a contaminao com oxignio atravs
de selagem de bombas com vazamento e suspiros de processo. Diversas caractersticas do
oxignio contribuem para que o mesmo seja nico como um agente corrosivo. O oxignio
um forte oxidante, sendo prejudicial mesmo em baixssimas concentraes. Alm disso, a
cintica da reduo do oxignio na superfcie de um metal ou xido condutor relativamente
rpida. Tudo isso, aliado baixa solubilidade do oxignio em gua ou salmoura, tende a gerar
33
condies nas quais o transporte de massa de oxignio se torne o processo limitante na
corroso de ligas metlicas, como o ao carbono, em meios no-cidos (DUNLOP, 1987).

2.3.2.6 Corroso pelo NaCl

A presena de sais acelera os processos, excetuando os que funcionam como inibidores
e os de base forte e cido fraco que hidrolisam, dando carter bsico soluo (NUNES,
2007).

As estruturas submersas em gua salgada esto sempre sujeitas a grande taxa de
corroso, particularmente em meios aerados, que podero ser ainda aumentados pela presena
de poluentes (DUTRA & NUNES, 2006).

2.3.3 Corroso em Ligas Quasicristalinas de AlCuFe

A oxidao em ligas quasicristalinas de alumnio conduz predominantemente
formao de xido de alumnio. Investigaes da oxidao de quasicristais, utilizando-se do
eletrodo de referncia Ag/AgCl no meio cido e Hg/HgO em meio bsico e de um capilar de
Luggin, mostraram que este processo significativamente bloqueado em comparao ao caso
das fases cristalinas. O xido de alumnio que aparece nos quasicristais mais resistente do
que aquele obtido nas fases cristalinas anlogas, embora o filme de xido formado seja mais
fino do que o convencional (GELLMAN et al, 2005; RUDIGER & KOSTER, 1999).

As ligaes interatmicas dos materiais quasicristalinos so altamente saturadas,
mesmo na superfcie, indicando um material com caractersticas de inerte e com baixa energia
de superfcie, o que resulta numa resistncia corroso elevada. No obstante, a resistncia
oxidao menos influenciada pela energia de superfcie do que pela natureza qumica.
(PRINCIPI et al, 2005; SHAITURA & ENALEEVA, 2007).

Uma camada passivadora de xido de alumnio puro produzida devido oxidao da
superfcie quasicristalina, em oxignio puro ou em ar seco temperatura ambiente, que
contribui para a resistncia oxidao do material observada pela espectroscopia de raio X. A
gua ou a umidade aprofunda a camada de xido e ataca os outros metais da liga. Se houver a
presso de oxignio necessria, a oxidao a elevadas temperaturas aparenta ter um efeito
semelhante e o oxignio no migrar para o interior do material at que ele possa nuclear na
34
superfcie. A passivao da superfcie por uma camada de xido de alumnio pura
aparentemente ocorre para outras ligas ricas em alumnio, tais como as de NiAl (GELLMAN
et al, 2005; JENKS & THIEL, 1997).

Utilizando-se da configurao de trs eletrodos, com o eletrodo de platina como
contra-eletrodo e o eletrodo padro de calomelano como referncia, foi verificado que ligas
quasicristalinas baseadas no alumnio possuem uma boa resistncia oxidao a temperaturas
abaixo de 500C. Acima dessa temperatura, o alumnio tem alcanado mobilidade e forma
uma camada na superfcie muito parecida com a camada passivadora dos metais puros. Os
outros elementos da liga no participam da formao da camada oxidada devido atuao do
alumnio que no permite que o oxignio se mova para dentro do material antes que haja uma
nucleao na superfcie. (BALBYSHEV et al., 2003; RHEE et al., 2001).

Estudos comparativos com difrao de raios X indicam que os quasicristais se oxidam
mais lentamente que os seus anlogos cristalinos. Os quasicristais aparentam formar camadas
de xido de alumnio que so mais espessas e puras do que aquelas formadas pelos seus
anlogos cristalinos (ZABINSKI & PHILLIPS, 2004; JENKS & THIEL, 1997). Micrografias
de tunelamento do material quasicristalino icosadrico AlCuFe indicam que o xido formado
temperatura ambiente consiste de pequenos ndulos, da ordem de 10 de largura e 5 de
altura, organizadas em uma simetria que pode estar relacionada natureza icosaedral do
substrato o que demonstra a forte influncia das ligaes interatmicas dos tomos da
superfcie, apesar da baixa energia de superfcie (ROUXEL & PIGEAT, 2006; JENKS &
THIEL, 1997).


2.4 CARACTERIZAO DA LIGA

2.4.1 Tcnicas para Caracterizao Fsico-Qumica da Liga

A simetria dos aglomerados (em particular, o pentagonal) significativamente difere
daquela estrutura inicial de cristal, um fato indicativo da formao de uma nova ordem de
pequena escala (DUBOIS, 2000). O processo de ordenamento local dos tomos atravs da
transio do estado cristalino para quasicristalino deve ser analisado quanto aos
deslocamentos locais dos tomos formadores da estrutura. Esse processo pode ser estudado
atravs de um mtodo bsico envolvendo a espectroscopia de estrutura fina por absoro de
35
raios X estendida com o uso da radiao sncroton para anlise de sistemas quasicristalinos
baseados na liga ternria de AlCuFe. Os mtodos de difrao de raios X e disperso de
nutrons so pouco sensveis para caracterizar a estrutura local. Esse mtodo torna possvel
no apenas determinar os nmeros de coordenao, distncia, e tipo dos tomos na
coordenao mais prxima do cobre e do ferro nos quasicristais, mas tambm permite um
refinamento da caracterstica, simetria, de seu arranjo mtuo (MENUSHENKOV &
RAKSHUN, 2007).

Quanto estrutura das amostras obtidas, anlises de raios X desenvolvidas com
radiao sncroton mostraram que no menos de 95% do volume da amostra cristalina, antes
do recozimento, ocupado com a fase tetragonal, ao passo que no caso das amostras
quasicristalinas obtidas pelo processo de recozimento de dois estgios, no menos de 90% do
volume ocupado por uma fase com uma estrutura icosadrica (MENUSHENKOV &
RAKSHUN, 2007).

2.4.1.1 Propriedades Fsicas

A seguir, so apresentadas algumas tcnicas para caracterizar as propriedades fsicas
de materiais quasicristalinos.

2.4.1.2 Difrao de Raios X

Os planos cristalogrficos mais fceis de identificar so os que constituem a clula
unitria. Os raios X so uma forma de radiao eletromagntica que possuem elevadas
energias e curtos comprimentos de onda. Quando um feixe de raios X incide sobre um
material slido, uma frao deste feixe se dispersa, ou se espalha, em todas as direes pelos
eltrons associados a cada tomo ou on que se encontra na trajetria do feixe.

As estruturas do reticulado so determinadas experimentalmente atravs de difrao de
raios X, que tambm revelam a estrutura cristalina. Quando um feixe de raios X dirigido
atravs de um material cristalino, esses raios so difratados pelos planos dos tomos ou ons
dentro do cristal. O ngulo de difrao depende do comprimento de onda dos raios X e das
distncias entre planos adjacentes (VAN VLACK, 1970)

36
A Figura 9 ilustra o arranjo atmico em um material cristalino. As esferas vermelhas
representam os tomos. O material ilustrado apresenta uma estrutura cbica de face centrada
(CHIAVERINI, 1986). Um quasicristal, assim como um cristal, contm planos de tomos que
constituem os planos cristalogrficos e que exercem uma grande influncia nas propriedades
dos metais.


Figura 9 Modelo de arranjo atmico de um cristal

Nessa estrutura, os tomos funcionam como obstculos, ou centros de espalhamento
dos raios X. Os cristais so formados quando bilhes e bilhes de estruturas idnticas so
colocadas lado a lado. Desse modo, formam-se famlias de planos atmicos, separadas por
distncias inferiores a 1nm (CALLISTER, 2002). A Figura 10 ilustra o arranjo experimental.

Figura 10 Raios X incidentes em um plano cristalino

Um feixe de raios X incide sobre um conjunto de planos cristalinos, cuja distncia
interplanar d. O ngulo de incidncia . Os feixes refletidos por dois planos subseqentes
apresentaro o fenmeno da difrao. Desde que a diferena entre seus caminhos ticos for
um nmero inteiro de comprimentos de onda, para que haja superposio construtiva (um
feixe de raios X ser observado). Caso contrrio, haver superposio destrutiva, isto , no se
observar qualquer sinal de raios X. A condio para o mximo na intensidade de difrao
sugere a equao:


37
n. = 2.d.sen Eq. 19

onde o ngulo definido no ensaio, o comprimento de onda do raio X
monocromtico, d o espaamento entre dois planos do cristal e n a ordem dos mximos
de intensidade da figura de difrao (CALLISTER, 2002).


A expresso acima conhecida como lei de Bragg e desempenha papel fundamental no
uso da difrao de raios X para estudos cristalogrficos. Quando a diferena de caminho tico
entre dois feixes igual a um nmero inteiro de comprimentos de onda, isto significa que as
ondas esto em fase, ou dito de outra forma, os mximos e mnimos de uma onda coincidem
com os mximos e mnimos da outra. Quando a lei de Bragg no satisfeita, isto , quando a
diferena de caminho tico no um nmero inteiro de comprimentos de onda, as ondas esto
fora de fase (SILVA & MEI, 2006).

Os raios X apresentam carter ondulatrio e produzem interferncia construtiva e
destrutiva. Para aparecerem mximos de intensidade em uma figura de difrao, dois feixes
luminosos devem estar defasados em um nmero inteiro do comprimento de onda. Mas, em
um cristal, s poderemos obter tal efeito se os raios X forem espalhados por pontos fixos no
cristal, que sero tomos, ons ou molculas.

O fator que primeiro deve ser controlado a temperatura, pois esta alterar o
movimento vibracional dos tomos nos cristais ou molculas, alterando o valor dos
parmetros geomtricos de equilbrio. Outro aspecto desfavorvel do mtodo de raios X que,
uma vez que esta tcnica depende das camadas eletrnicas, tomos que possuem muitos
eltrons dificultaro a deteco daqueles que apresentam menor nmero dos mesmos. Para
cristais simples o mtodo oferece distncia intereletrnicas extremamente precisas. Para
alguns materiais, entretanto, no tem sido possvel estabelecer qualquer estrutura, uma vez que
as aproximaes utilizadas, principalmente no que diz respeito ao ngulo de fase, no
convergem para a soluo exata (SILVA & MEI, 2006).

O difratmetro , portanto, um aparelho usado para determinar os ngulos nos quais
ocorre a difrao em amostras pulverizadas.


38
2.4.1.3 Microscopia tica

A microestrutura dos materiais pode ser analisada, dentre outros mtodos, atravs da
microscopia, das quais destacamos a microscopia tica. Normalmente, preparos de superfcie
cuidadosos e meticulosos so necessrios para revelar os detalhes importantes da
microestrutura.

Atravs do microscpio, a microscopia tica utilizada para estudar a microestrutura
dos materiais. Sistemas pticos e de iluminao so os elementos bsicos do equipamento.
Para os metais, que so materiais opacos luz visvel, apenas a superfcie do material est
sujeita observao, e o microscpio tico deve ser usado em uma modalidade de reflexo.
Os contrastes na imagem produzida resultam das diferenas na refletividade das vrias regies
da microestrutura. Essas anlises so chamadas de metalogrficas, pois os metais foram os
primeiros materiais a serem examinados utilizando-se essa tcnica.

2.4.2 Tcnicas para Caracterizao das Propriedades Mecnicas

Muitos materiais, quando em servio, esto sujeitos a foras ou cargas. Em tais
situaes, torna-se necessrio conhecer as caractersticas do material e selecionar o material
adequado de forma que qualquer deformao resultante no seja excessiva e no ocorra a
fratura.

2.4.2.1 Mdulo de Elasticidade

O grau ao qual uma estrutura se deforma ou se esfora depende da magnitude da
tenso imposta. (CALLISTER, 2002) Para a maioria dos metais que so submetidos a uma
tenso de trao em nveis relativamente baixos, a tenso e a deformao so proporcionais
entre si, de acordo com a relao:

= E Eq. 20

Onde:
= tenso (fora por unidade de rea)
= deformao (percentual do comprimento original que foi deformado)

39
Essa relao conhecida como a Lei de Hooke, e a constante de proporcionalidade E
(em GPa ou psi) o mdulo de elasticidade, ou mdulo de Young. Para a maioria dos metais
tpicos, a magnitude desse mdulo varia entre 45GPa, para o magnsio, e 407 GPa, para o
tungstnio. O valor do mdulo de elasticidade primordialmente determinado pela
composio do material e apenas indiretamente relacionado com as demais propriedades
mecnicas (VAN VLACK, 1970).

O processo de deformao no qual a tenso e a deformao so proporcionais
chamado de deformao elstica; um grfico da tenso (ordenada) em funo da deformao
(abscissa) resulta em uma relao linear. A inclinao (coeficiente angular) deste segmento
linear corresponde ao modulo de elasticidade, E. Esse mdulo pode ser considerado como
sendo uma rigidez, ou uma resistncia do material a deformao elstica.

Em uma escala atmica, a deformao elstica macroscpica manifestada como
pequenas alteraes no espaamento interatmico e na extenso de ligaes interatmicas.
Como conseqncia, a magnitude do mdulo de elasticidade representa uma medida da
resistncia separao de tomos adjacentes, isto e, as forcas de ligao interatmicas.


2.4.2.2 Microdureza e Dureza

O conceito da propriedade mecnica denominada dureza depende da rea de interesse.
Para um metalurgista, significa a resistncia deformao plstica permanente. Para um
tcnico em usinagem de metais uma medida de resistncia ao corte do metal. No entanto,
para um engenheiro mecnico a resistncia penetrao de um material duro num outro
(SOUZA, 1982). Os primeiros ensaios de dureza eram baseados em minerais naturais, com
uma escala construda unicamente em funo da habilidade de um material em riscar um outro
mais macio. Foi desenvolvido um sistema, um tanto qualitativo e um tanto arbitrrio, de
indexao da dureza conhecido por escala de Mohs, que varia entre 1 para o talco, isto , pode
ser riscado por todos os outros seguintes, at 10, para o diamante. Para os metais, essa escala
no conveniente porque os seus intervalos no so propriamente espaados para eles.

Tcnicas quantitativas para determinao da dureza foram desenvolvidas ao longo dos
anos, nas quais um pequeno penetrador forado contra a superfcie de um material a ser
testado, sob condies controladas de carga e taxa de aplicao. Faz-se a medida da
40
profundidade ou do tamanho da impresso resultante, a qual por sua vez relacionada a um
nmero ndice de dureza; quanto mais macio o material, maior e mais profunda a impresso
e menor o nmero ndice de dureza. As durezas medidas so apenas relativas, e deve-se
tomar cuidado ao se comparar valores determinados segundo tcnicas diferentes.

Os diversos ensaios de dureza existentes possibilitam uma excelente cobertura de todas
as escalas usuais de durezas e dimenses encontradas nos aos. Alm disso, uma excelente
ferramenta para o controle indireto das propriedades mecnicas (SILVA & MEI, 2006). Os
ensaios mecnicos de dureza so realizados com mais freqncia do que qualquer outro ensaio
mecnico por: serem simples e baratos, os equipamentos de ensaio so relativamente baratos e
normalmente nenhum corpo de prova especial precisa ser preparado, por no destruir o corpo
de prova, a depender do controle de qualidade da superfcie, alm de que outras propriedades
mecnicas podem ser estimadas a partir de dados obtidos por ensaios de dureza, tais como
limite de resistncia trao e mdulo de elasticidade.


2.4.2.2.1 Ensaio de Dureza Vickers

A determinao de dureza de constituintes individuais de uma microestrutura, de
materais frgeis, como o caso do material quasicristalino AlCuFe, geralmente solucionada
pelo uso da microdureza. Os ensaios mecnicos de dureza Vickers so conhecidos como
mtodos de ensaio de microdureza com base na carga e no tamanho do penetrador (ASTM
E92, 2003; ASTM E384, 2006). Nesses ensaios um penetrador de diamante, muito pequeno,
com geometria piramidal, forado contra a superfcie do corpo de prova. As cargas aplicadas
so muito menores que as aplicadas nos ensaios Rockwell e Brinell, variando entre 1 e 1000g.
A impresso resultante observada sob um microscpio e medida; essa medio ento
convertida em um nmero de ndice de dureza. Os nmeros de dureza Vickers so designados
por HV (SOUZA, 1982).

A converso de uma dureza medida em uma escala para um outro mtodo de ensaio de
dureza bastante interessante para fins de comparao. Contudo, como a dureza no uma
propriedade bem definida dos materiais, e devido s diferenas experimentais entre as vrias
tcnicas, no foi desenvolvido um sistema abrangente de converso. Os dados de converso
foram obtidos experimentalmente e em sua maioria para as ligas de ao, sendo disponveis no
41
ASTM E 140 Standard Hardness Conversion Tables tabelas e frmulas de converso
detalhadas, no caso da liga de alumnio, apenas para o forjado.


2.5 CARACTERIZAO DA CORROSO ELETROQUMICA

Atravs do uso de mtodos eletroqumicos pode-se verificar a termodinmica e a
cintica do processo de corroso, inclusive obter-se informao a respeito da taxa de corroso.
Esses mtodos tm-se revelado de grande utilidade para se predizer o desempenho dos
materiais e a estratgia de mitigao da corroso, na compreenso dos efeitos das mudanas
no processo e das condies ambientais, e na avaliao da preciso das tcnicas de
acompanhamento da corroso. Mtodos eletroqumicos para corroso, quando utilizados
adequadamente, possuem muitas vantagens, dentre as quais: a velocidade, por serem ensaios
no destrutivos e de boa preciso (BARGMANN et al., 2007; KELLY et al., 2002).

A corroso de metais manifesta-se em diferentes tipos de meios, porm o meio em que
ela ocorre com maior freqncia o aquoso. Nesse meio o mecanismo da corroso
essencialmente eletroqumico. Assim, tcnicas eletroqumicas podem ser utilizadas na
avaliao, no controle e na investigao da corroso de metais sofrendo diferentes tipos de
ataque corrosivo.
Para a avaliao da corroso do revestimento quasicristalino de AlCuFe em fluido
produzido em campo terrestre de petrleo so utilizados ensaios eletroqumicos e de imerso,
em laboratrio.

2.5.1 Ensaios Eletroqumicos

A corroso eletroqumica requer a existncia de anodos e catodos em contato eltrico e
um caminho condutor de ons atravs de um eletrlito. O processo eletroqumico inclui o
fluxo de eltrons entre as reas andicas e catdicas: a taxa deste fluxo corresponde s taxas
das reaes de oxidao e reduo que ocorrem nas superfcies. O monitoramento deste fluxo
de eltrons permite estudar a cintica do processo corrosivo, no apenas as tendncias
termodinmicas para o processo ocorrer espontaneamente, to pouco simplesmente registrar a
perda de massa acumulada ao final do teste (WANG & BRADFORD, 1992; WOLYNEC,
2003).

42
As tcnicas eletroqumicas tornaram-se atrativas pela possibilidade de emprego como
ferramenta no-destrutiva para a avaliao do fenmeno corrosivo e das taxas de reao
atravs de investigao em laboratrio ou de campo (KUMAR et al., 1992). Logo, as tcnicas
eletroqumicas podem ser usadas para avaliar taxas de corroso sem a remoo de corpos de
prova do meio ou alterao da amostra. Esta capacidade oferece vantagens distintas sobre os
ensaios de perda de massa e de inspeo visual por permitir o estudo quantitativo da cintica
do processo corrosivo e, tambm, pela facilidade e convenincia do ensaio. A maioria, seno
todas, das formas tpicas de corroso, incluindo corroso uniforme, corroso localizada,
corroso galvnica, corroso seletiva, corroso sob tenso e dano induzido pelo hidrognio,
podem ser investigadas pelas tcnicas eletroqumicas, as quais tambm possibilitam o estudo
dos fenmenos de passivao, anodizao, proteo catdica e andica e revestimento de
proteo de sacrifcio ou por barreira de substratos metlicos (MARTINEZ et al., 2007).

Dentre os mtodos eletroqumicos adequados ao estudo de algumas das formas de
corroso apresentadas destacam-se:

- Mtodos da extrapolao de Tafel e da resistncia de polarizao, para estudo
da corroso uniforme (SCULLY & TAYLOR,1987; WOLYNEC, 2003);

- Mtodo da polarizao potenciodinmica cclica, mtodo potenciosttico ou
galvanosttico (SCULLY & TAYLOR, 1987; WOLYNEC, 2003) e rudo
eletroqumico (ROTHWELL & EDEN, 1992), para a corroso localizada.

Nas tcnicas eletroqumicas, a polarizao do metal efetuada por uma fonte de
corrente, ou seja, um potenciostato. Assim, a corrente fornecida ao eletrodo de trabalho e o
potencial entre este e um eletrodo de referncia monitorado ou fixado em um valor
constante, conforme o teste.

Os mtodos de polarizao so convenientemente utilizados para medida de taxa de
corroso porque fornecem resultados de forma bastante rpida. Geralmente, so requeridos
apenas alguns minutos para se determinar a taxa de corroso por resistncia polarizao,
enquanto so necessrios vrios dias para realizar uma medida por perda de massa
(MARSHALL & SPEIRS, 1992; KAEFER, 2004).

43
A tcnica de resistncia de polarizao linear uma tcnica em tempo real e o seu
princpio a variao do potencial em torno do potencial de circuito aberto regularizado pela
norma ASTM G59. A corrente necessria para manter um deslocamento especfico do
potencial de repouso est diretamente relacionada corroso na superfcie do eletrodo. A
tcnica de resistncia de polarizao linear particularmente til em sistemas aquosos. O
mtodo de resistncia polarizao linear aplicvel para obteno da resistncia de
polarizao e determinar o potencial e a densidade de corrente de corroso (WANG &
BRADFORD, 1992).

A tcnica de resistncia de polarizao linear envolve a obteno de dados de corrente
medida que o potencial varia (polarizao) em torno do potencial de corroso. Normalmente,
variaes de 10 mV (SCULLY & TAYLOR, 1987) a 20 mV (KAEFER, 2004) em relao
ao potencial de corroso so realizadas.

A resistncia de polarizao (Rp) obtida, ento, da tangente curva de polarizao
(potencial versus corrente) no potencial de corroso. Conhecendo-se os valores de Rp e das
constantes de Tafel possvel calcular a corrente de corroso pela relao (KAEFER, 2004;
SCULLY & TAYLOR,1987; WOLYNEC, 2003):



( )
c a p
c a
corr
R
i
| |
| |
+
=
303 , 2
10
6
Eq. 21



A taxa de corroso (TC) pode ser obtida a partir da densidade de corrente de corroso
i
corr
pela equao:

EW
i
TC
corr

3
10 27 , 3

= Eq. 22

Onde TC dada em mm.ano
-1
, em g.cm
-3
, 3,27x10
-3
um fator para converso de
unidades e a massa equivalente (EW) dado em g. A massa equivalente do elemento a
massa molar dividida pelo nmero de oxidao, que o nmero de eltrons envolvidos na
reao eletroqumica (KAEFER, 2004). No caso da liga quasicristalina de AlCuFe, seria
determinado atravs da equao:
44


(

|
|
.
|

\
|
+
|
|
.
|

\
|
+
|
|
.
|

\
|
=
Fe
Fe
Cu
Cu
Al
Al
xNox
MA
Fe
xNox
MA
Cu
xNox
MA
Al
x EW
% % %
100 Eq. 23


onde % Al percentual de alumnio na liga, MA
Al
a massa atmica do
alumnio, Nox
Al
o nmero de oxidao do alumnio, %Cu percentual de cobre na
liga, MA
Cu
a massa atmica do cobre, Nox
Cu
o nmero de oxidao do cobre, % Fe
percentual de ferro na liga, MA
Fe
a massa atmica do ferro e Nox
Fe
o nmero de
oxidao do ferro.


2.5.2 Caracterizao da gua Produzida de Carmpolis

Para a caracterizao da gua produzida do campo de produo de petrleo de
Carmpolis so adotadas a norma API RP 45 Recommended Practice for Analysis of
Oilfield Water e a norma Petrobras N-1467 Determinao de dixido de carbono livre em
gua.
A produo de petrleo est inevitavelmente associada presena de gua com
volumes crescentes medida que os reservatrios vo sendo depletados. Os problemas
associados produo de gua esto relacionados s exigncias ambientais cada vez mais
restritivas para seu descarte tornando os custos de tratamento altamente elevados. Neste
cenrio, a soluo para o problema a reinjeo da gua no campo produtor. A principal
desvantagem desta gua sua caracterstica corrosiva e incrustante. bastante comum a
produo de gua em reservatrio de petrleo junto a hidrocarbonetos. A gua produzida pode
ter origem em acumulaes de gua chamadas aqferos, que podem estar adjacentes s
formaes portadoras de hidrocarbonetos, ou pode ser devida gua injetada para aumento da
recuperao de leo. A quantidade de gua produzida vai depender das condies em que ela
se apresenta no meio poroso do reservatrio (DREA et al., 2007; THOMAS, 2001). Ainda
que a composio dessas guas subterrneas varie de uma locao a outra, a concentrao de
espcies dissolvidas geralmente aumenta com a profundidade. Sua composio complexa,
sendo freqentemente uma mistura dos ons sdio (Na
+
), clcio (Ca
+2
), magnsio (Mg
+2
),
45
cloreto (Cl
-
), sulfato (SO
4
-2
) e bicarbonato (HCO
3
-
), bem como traos de outros ons (POLAN,
1987).

A principal finalidade das anlises de gua produzida em campo de petrleo tem sido o
estudo da corroso e incrustao, incluindo a monitorao e a predio deste fenmeno. O
conhecimento dos teores de oxignio dissolvido, dixido de carbono, ferro, mangans, sulfeto,
sulfato, bicarbonato, cloretos e pH da gua tem sido importante ferramenta de monitorao e
preveno.

Os sistemas a serem amostrados devem estar operando em condies normais, a no
ser que se deseje analisar o sistema em condies anormais de operao. A anlise imediata
das amostras ideal; a estocagem a baixas temperaturas (em torno de 4C) por menos de 24
horas prxima do ideal, mas nem sempre possvel. Portanto, freqentemente necessria
alguma medida de preservao das amostras, caso a anlise tenha que ser feita em local
distante da coleta. Porm, mesmo as melhores tcnicas de preservao podem somente
retardar alteraes qumicas ou biolgicas que acontecem aps a coleta da amostra. Alm
disso, quase todos os agentes preservativos interferem em alguns testes, logo, uma nica
amostra, normalmente, no pode ser utilizada para todas as anlises requeridas. Algumas
propriedades e componentes da gua produzida em campos de petrleo mudam rapidamente e,
portanto, devem ser determinadas o mais rpido possvel no campo. Tais propriedades e
componentes so: pH, temperatura, alcalinidade, oxignio dissolvido, CO
2
, H
2
S, ferro total e
solvel e total de slidos suspensos (API RP 45, 1998).


2.5.3 Planejamento de Experimentos

Toda observao experimental uma resposta obtida de uma das possveis
combinaes dos nveis de seus fatores experimentais, onde a depender do nmero de fatores
e correspondentes nveis podemos ter um grande nmero de combinaes e, por conseguinte,
a necessidade de aplicao de grandes recursos. O planejamento de experimentos uma
tcnica aplicada s mais variadas atividades cientficas e industriais devido reduo de
recursos, tais como os custos e os trabalhos exploratrios. Atravs dessa tcnica, podem-se
determinar as variveis que exercem maior influncia de um determinado processo ou
produto, assim como os limites inferior e superior dessas variveis, tendo como resultado:
46
reduo do tempo do processo, reduo dos custos envolvidos, melhor concordncia entre os
valores nominais obtidos e os valores pretendidos (CALADO & MONTGOMERY, 2003).

Na experimentao que parte do processo cientfico, geralmente se toma dados
atravs de experimentos planejados. O experimento delineado ou planejado um teste ou uma
srie de testes em que mudanas propositais so feitas nas variveis de entrada, independentes
ou de classificao, de um processo ou sistema de modo que se possa observar e identificar as
razes para variaes de sada, varivel resposta ou dependente.

Os princpios bsicos de um planejamento de experimentos so replicao,
aleatoriedade e blocagem. O uso da tcnica de rplicas permite obter o erro experimental e
uma estimativa mais precisa de um determinado fator no experimento. Os experimentos
devem ser realizados de forma aleatria de modo a garantir a distribuio equnime de todos
os fatores no considerados. A blocagem permite aumentar a preciso de um experimento
atravs do controle e avaliao da variabilidade resultante da presena de fatores que
perturbam o sistema, mas que ainda assim no de interesse o seu estudo (CALADO &
MONTGOMERY, 2003).

O uso de fatores codificados, ao invs dos fatores naturais, facilita a construo dos
planejamentos experimentais. A codificao remove as unidades de medida dos fatores do
experimento e as distncias ao longo dos eixos. Os fatores codificados no espao k-
dimensional so padronizados ou definidos na mesma mtrica. A resposta estudada uma
quantidade mensurvel, cujo valor afetado por mudanas nos nveis dos fatores. Os nveis
dos fatores so os valores que devem ser otimizados (BARROS NETTO et al., 1995).

Na maioria das vezes, torna-se interessante aperfeioar as respostas quando as
variveis de resposta so influenciadas por muitas variveis independentes, ou seja, obter a
regio formada pelos fatores em que o modelo, para a resposta estudada, dever ser ajustado e
no relacionamento existente entre os fatores e a resposta (CALADO & MONTGOMERY,
2003; BARROS NETO et al., 1995).
47
CAPTULO III




MATERIAL E MTODOS



3.1 ABORDAGEM GERAL

Neste captulo so descritos os equipamentos e os ensaios utilizados para a
caracterizao mecnica e de resistncia corroso da liga quasicristalina AlCuFe. Tambm
so descritos os mtodos empregados para a caracterizao dos fluidos produzidos do campo
de produo de petrleo e gs natural da Bacia Sergipe-Alagoas, Brasil, e o planejamento dos
ensaios de corroso efetuados em laboratrio.


3.2 A FABRICAO DAS AMOSTRAS

Com o objetivo de analisar o comportamento de resistncia corroso e realizar a
caracterizao mecnica da estrutura quasicristalina de AlCuFe, foram confeccionados dois
conjuntos de amostras da liga AlCuFe. O primeiro conjunto constituiu-se de amostras
cristalinas da liga AlCuFe, enquanto que, o segundo conjunto constituiu-se em amostras
quasicristalinas.

A fabricao das amostras foi realizada no laboratrio de Materiais do Departamento de
Engenharia Mecnica da Universidade Federal da Paraba (UFPB). Foram utilizados elementos
de liga com 99,9% de pureza e utilizada a balana SHIMADZU Modelo Ay 220, com preciso
da ordem 10
-4
g, para garantir a proporo desejada de constituintes da composio nominal da
liga. A fundio das ligas foi realizada num forno de induo de soleira fria equipado de um
cadinho de cobre e um gerador de alta freqncia de 40kVA. Realizou-se a inertizao do
ambiente com a introduo do gs argnio 5.0 at uma presso de 10
-3
torr, com o objetivo de
minimizar o oxignio no forno. Foram realizadas 3 fundies para assegurar a completa
dissoluo dos componentes e a melhor homogeneizao da fase quasicristalina (CAVALCANTE,
2007).
48


Figura 11 Forno de induo de alta freqncia da DEM/UFPB (MELO et al., 2006).

Durante o processo de solidificao no forno, ocorreu o surgimento de uma liga
heterognea constituda de uma fase quasicristalina com outra cristalina. A depender da estrutura
desejada, quasicristalina ou cristalina, do conjunto de amostras, foram feitos tratamentos trmicos
para aumentar a proporo da fase quasicristalina na liga. Nos tratamentos trmicos foi utilizado
um forno de resistncia da marca Nabertherm, onde se manteve cada amostra por 24h
temperatura de 750C (CAVALCANTE, 2007). Os procedimentos de elaborao da liga e
tratamento trmico foram realizados de acordo com os procedimentos seguidos por PASSOS
(2006).


3.3 A CARACTERIZAO FSICO-QUMICA DA LIGA

3.3.1 Difrao de Raios X e MEV

Durante a moagem, foi realizada a difratometria de raios X para acompanhar a evoluo
das fases quasicristalinas e cristalinas. Neste ensaio, utilizou-se o difratmetro de raios X da
SIEMMENS D5000, sendo empregada a radiao CuK, cujo comprimento de onda =
1,5406. Os ensaios foram realizados temperatura de 298K, com tenso de 40kV, corrente de
30mA, passo de 0.01, tempo por passo de 3s e o ngulo 2 variando de 20 a 120 graus
(CAVALCANTE, 2007).

49
Foi utilizado o microscpio eletrnico de varredura LEO, modelo 1430, acoplado a uma
sonda OXFORD para EDS modelos 7353, do Laboratrio de Solidificao Rpida da
Universidade Federal da Paraba, a fim de se realizar a anlise da morfologia do p. Inicialmente,
os ps modos foram postos em disperso em soluo de lcool isoproplico e, posteriormente, a
soluo foi colocada em um aparelho de ultrassom, DABI ATLANTE cabo ultrassnico 3L, a
fim de permitir a desaglomerao dos ps (CAVALCANTE, 2007).


3.3.2 Caracterizao das Propriedades Mecnicas

Foram realizados ensaios de Microdureza e Mdulo de Elasticidade para a
caracterizao das propriedades mecnicas da liga quasicristalina AlCuFe.

As amostras sofreram lixamento, como tratamento de superfcie, utilizando-se de lixa
de desbaste 120 e de acabamento 600, seguido de um polimento com lixas com pasta de
diamante de 6m, 3m e 1m. Posteriormente, foram limpas utilizando-se lcool isoproplico
a 99,5% e o ultrassom Spencer do Laboratrio de Energia e Materiais do Instituto de
Tecnologia e Pesquisa da Universidade Tiradentes (LEM-ITP/UNIT) com tempo de
residncia de 30 minutos.

Com o objetivo de evitar defeitos de superfcie que pudessem interferir nos valores
obtidos dos ensaios, a qualidade do tratamento da superfcie e da limpeza das amostras era
sempre confirmada no microscpio tico Opton modelo TNMO7Y PL do LEM-ITP/UNIT,
antes de serem submetidas aos ensaios de microdureza.


50

Figura 12 Microscpio tico Opton do LEM-ITP/UNIT.

3.3.2.1 Microdureza

Para a caracterizao da microdureza e da dureza das amostras das ligas
quasicristalinas e cristalinas AlCuFe foram utilizadas amostras das ligas embutidas em um
cilindro de resina, utilizado como suporte, havendo a preocupao que a resina no revestisse
por completo a parte inferior da amostra a fim de que a deformao da resina no interferisse
nos resultados dos ensaios.

Foram realizados ensaios Vickers, com um diamante piramidal de base quadrada
utilizado como penetrador, com cargas de 10g, 25g, 50g, 100g e 200g, no microdurmetro de
marca Shimadzu, modelo HMV-2 instalado no LEM-ITP/UNIT.


Figura 13 Microdurmetro Shimadzu HMV-2 do LEM-ITP/UNIT.
51
A dureza Vickers foi calculada a partir da fora de teste e da rea de superfcie
penetrada obtida a partir dos comprimentos das diagonais do quadriltero formado. A frmula
de clculo utilizada foi:

HV = 189,10 x P/L
2
Eq. 24

onde:
HV : dureza Vickers
P : fora de teste (mN)
L : valor mdio do comprimento das diagonais obtidas (m), ou seja, L=(L
1
+L
2
)/2


Figura 14 Quadriltero obtido na superfcie da amostra aps a penetrao do indentador de base piramidal.

3.3.2.2 Mdulo de Elasticidade

O Mdulo de Elasticidade da liga quasicristalina AlCuFe foi medido utilizando um
ultramicrodurmetro da marca Shimadzu, modelo DUH-W201S, instalado no LEM-
ITP/UNIT.

52

Figura 15 Ultramicrodurmetro Shimadzu DUH-W201S do LEM-ITP/UNIT.

No ensaio com o ultramicrodurmetro, foram utilizadas amostras embutidas em um
cilindro de resina, utilizado como suporte, havendo a preocupao que a resina no revestisse
por completo a parte inferior da amostra a fim de que a deformao da resina no interferisse
os resultados dos ensaios. O mdulo de elasticidade da liga quasicristalina e cristalina AlCuFe
calculado aps um teste de carregamento e descarregamento, representado na Figura 16, no
qual uma determinada fora aplicada na amostra durante um intervalo de tempo, sendo
retirada aps esse tempo. Esse teste permite calcular a deformao elstica e plstica da
amostra, como pode ser observado na Figura 17.

Nos ensaios para a obteno do mdulo de elasticidade foram utilizados os seguintes
parmetros:

Fora de teste = 100 mN;
Velocidade de carregamento = 13,238978 mN/s
Tempo de manuteno do carregamento = 5s
Penetrador = Vickers (piramidal)
Lente objetiva = 50
Cargas = 10g, 25g e 50g
53

Figura 16 Fora x Tempo no teste de carga-descarga.


Figura 17 Exemplo de resultado do teste de carga-descarga.


3.3.3 Caracterizao da Resistncia Corroso

No estudo de caracterizao da resistncia corroso da liga quasicristalina AlCuFe,
amostras de quasicristal e de cristal de AlCuFe foram expostas diretamente a uma soluo
sinttica que simulava as condies mais graves da gua produzida do campo de explorao e
produo da Bacia Sergipe-Alagoas. Utilizando essa gua produzida sinttica como eletrlito,
foram realizados ensaios de corroso em laboratrio.
Fora
Elstica
Plstica
Profundidade
P
2
P
1
P
3
Fora
mxima
Fora
Tempo
Tempo de manuteno
Final do teste
54

O registro fotogrfico das amostras e eletrodos fabricados para os ensaios de corroso
foi realizado com uma mquina fotogrfica digital Sony, modelo Cybershot 5.1 megapixels e
com o microscpio tico do LEM-ITP/UNIT.


3.3.3.1 Caracterizao da gua Produzida

A caracterizao da gua produzida dos poos selecionados, a saber, CP 0453, CP
0635, CP 0647 e CP 0763, foi realizada nos laboratrios de anlise de gua da Petrobras
instalados nas bases de Carmpolis e de Aracaju, Sergipe, Brasil. Todos os ensaios seguiram a
metodologia da norma API RP 45 Recommended Practice for Analysis of Oilfield Water, a
norma Petrobras N-1467 Determinao de dixido de carbono livre em gua e Eaton et al.
(2005).



Figura 18 Amostras de gua produzida analisadas no laboratrio de anlise de gua de Carmpolis.

Para a caracterizao da gua produzida coletada dos poos de produo de petrleo
utilizados como referncia nos ensaios de corroso em laboratrio foram utilizados os
seguintes equipamentos:

- Um analisador de pH porttil, marca Ultrabasic, modelo UP-10, da Denver
Instruments;
- Um analisador de pH de bancada, marca Metrohm, modelo 827 pH lab;
55
- Um analisador de alcalinidade, marca Metrohm, modelo 775 Dosimat;
- Um analisador de salinidade total, marca Hirschmann;
- Um analisador de cloretos, marca Brand, modelo Dispensette;
- Uma bureta digital, marca Brand, modelo Easy Calibration;
- Um agitador magntico, marca Ika Works, modelo Ceramag Midi;
- Um sistema de filtrao a vcuo, marca Milipore, com bomba de vcuo marca Buchi
e balana analtica de quatro casas decimais marca Metler-Toledo, para determinao do teor
de slidos suspensos;


Tabela 5 Sumrio de constituintes e mtodo analtico adotados na anlise da gua produzida.
Constituinte Mtodo Adotado
Dixido de carbono Titrimtrico e potenciomtrico
pH Medidor de pH convencional
Sulfeto Iodomtrico
Sulfato Cromatografia
Bicarbonato Indicador
NaCl Cromatografia
Oxignio Titrimtrico e medidor de O
2
dissolvido
Alcalinidade Indicador
TSS Procedimento especfico


A presena do gs carbnico na gua influencia na alcalinidade e na tendncia
incrustao e da corroso (API RP 45, 1998; EATON et al., 2005). Para a determinao do
teor de gs carbnico livre, dois mtodos so bastante utilizados: o mtodo titrimtrico e o
potenciomtrico.

O mtodo titrimtrico recomendado pela norma API RP 45 (1998) para a
determinao do teor de gs carbnico, que consiste na reao do gs carbnico livre com
hidrxido de sdio para formar bicarbonato de sdio. Atravs do indicador de fenolftalena,
que desenvolve uma colorao rsea caracterstica quando o pH atinge o valor de 8,3, o final
da reao pode ser identificado visualmente. Deve-se observar a limitao quanto aplicao
do mtodo no que se refere ao teor de ferro total na amostra que no pode ultrapassar o valor
de 1 mg.L
-1
(API RP 45, 1998; EATON et al., 2005; PETROBRAS N-1467, 2005). O mtodo
titrimtrico o mtodo utilizado atualmente nos laboratrios de anlise de gua da Petrobras
56
instalados nas bases de Carmpolis e de Aracaju e, portanto, este foi o mtodo utilizado neste
trabalho. Todavia, o valor obtido do teor de gs carbnico livre foi comprometido pela
presena do teor de ferro total que foi superior ao limite recomendado.

Santos et al. (2006), em estudo comparando os mtodos potenciomtrico e o mtodo
titrimtrico, por indicao visual com fenolftalena, concluiu que o ensaio mais adequado para
gua produzida em campo terrestre de petrleo realmente o de indicao visual com
fenolftalena, por causa das dificuldades de preservao da amostra. No entanto, a norma
PETROBRAS N-1467 (2005) recomenda, alm do mtodo de titulao com o indicador visual
de fenolftalena, a utilizao tambm do mtodo de titulao potenciomtrico. Neste mtodo,
o gs carbnico livre reage com carbonato ou hidrxido de sdio para formar bicarbonato de
sdio. O final da reao indicado, potenciometricamente, pela inflexo da curva num pH
igual a 8,3.

Figura 19 Medidor de pH e agitador magntico do laboratrio de anlise de gua de Carmpolis.

A determinao exata de pequenas pores de sulfeto difcil, no tendo sido
publicado, at o momento, nenhum mtodo inteiramente aplicvel a todos os tipos de gua. O
sulfeto encontrado em guas subterrneas e ocorre freqentemente em guas residurias, e
oriundo de despejos industriais, da decomposio de matria orgnica ou da reduo de
sulfatos. Mesmo em concentraes muito baixas j causa odores na gua e no ar. muito
txico, ataca metais diretamente, alm de corroer tubulaes porque oxidado a cido
sulfrico nas paredes das tubulaes (CHERNICHARO et al., 2006).

O gs sulfdrico e outros sulfetos esto presentes em algumas guas produzidas e se
formam onde compostos sulfurosos se decompuseram sob condies anaerbicas. A
57
dificuldade desta determinao se deve ao fato dos sulfetos oxidarem-se para formar enxofre
quando na presena de ar (ou oxignio).

No mtodo iodomtrico, que foi utilizado neste trabalho, o sulfeto oxidado
quantitativamente pelo iodo a enxofre elementar. O excesso de iodo titulado com uma
soluo padronizada de tiosulfato usando um indicador de fim de reao. Este mtodo pode
indicar uma quantidade a mais de sulfeto se outros materiais oxidveis por iodo estiverem
presentes na gua (API RP 45, 1998; EATON et al., 2005).



Figura 20 Bureta digital do laboratrio de anlise de gua de Carmpolis.


A alcalinidade pode ser definida como uma medida da capacidade dos componentes de
uma amostra de reagirem com ons hidrognio oriundos de um cido adicionado (API RP 45,
1998). A alcalinidade de guas produzidas em campos de petrleo causada pela presena de
diferentes ons, mas geralmente atribuda presena de ons bicarbonato (HCO
3
-1
),
carbonato (CO
3
-2
) e hidroxila (OH
-1
). possvel determinar a alcalinidade pelo mtodo
eletromtrico, onde um eletrotitulador ou medidor de pH usado para determinar a quantidade
de cido necessria para se atingir um pH igual a 8,1 e 4,5. Estes valores de pH aproximam os
pontos onde os ons hidroxila e bicarbonato so neutralizados, respectivamente (API RP 45,
1998; EATON et al., 2005).

O peso total de componentes minerais dissolvidos na gua por unidade de volume ou
de peso da amostra de gua denominado como o Total de Slidos Suspensos (TSS). Estes
58
slidos podem afetar de vrias maneiras a qualidade da gua e, consequentemente, o
desempenho de equipamentos de explorao e transporte de petrleo. Em relao a processos
corrosivos, os slidos em suspenso podem atuar como agente abrasivo (BARGMANN et al.,
2007). A tcnica relativamente demorada e como todas as tcnicas de slidos, a cpsula no
deve ser tocada de maneira alguma. Uma poro homognea de amostra de volume adequado
transferida quantitativamente para uma cpsula de evaporao tarada, evaporada em banho-
maria e seca em estufa temperatura de 103 a 105 C. O aumento de peso em relao ao peso
da cpsula vazia corresponde a slidos totais. O aumento no peso do filtro representa o total
de slidos suspensos.


Slidos Totais (mg/l) =
( )
) (
6
1
10
ml amostra
V
x P P
Eq. 28

Onde:
P = Peso, em gramas, da cpsula vazia
P
1
= Peso, em gramas, da cpsula com resduo.



Figura 21 Vidraria e filtro de membrana utilizados para a obteno do TSS das amostras de gua
produzida.



59
3.3.3.2 Ensaios de Corroso em Laboratrio

Os ensaios de corroso em laboratrio objetivaram estudar o comportamento
corroso da liga quasicristalina AlCuFe em um fluido que simulou a gua produzida dos
poos do campo de produo de petrleo e gs natural da Bacia Sergipe-Alagoas, Brasil. Os
ensaios em laboratrio consistiram em ensaios de imerso e eletroqumicos.

Os ensaios foram realizados em dois tipos de amostras:

Amostra 1: Cristal de AlCuFe
Amostra 2: Quasicristal de AlCuFe


3.3.3.2.1 Ensaios de Acompanhamento do Potencial de Circuito Aberto (PCA)

Os ensaios de acompanhamento do potencial de circuito aberto tiveram por objetivo a
obteno da variao do potencial de corroso da liga quasicristalina e cristalina AlCuFe.
Foram realizados em pares de amostras cristalinas e quasicristalinas imersos em um eletrlito
de gua produzida sinttica em laboratrio.

Foram confeccionados eletrodos das amostras quasicristalinas e cristalinas atravs do
embutimento das amostras das ligas em resina e verificao da manuteno do contato eltrico
com um fio de cobre atravs do uso do multmetro modelo UT30B da CE. Antes da realizao
dos ensaios, as amostras sofreram lixamento de modo a se utilizar amostras sem incrustaes.
Foram utilizadas lixas abrasivas de granulometria de 220m e 1500m e direes de
lixamento diferentes do lixamento anterior e, posteriormente, foram limpas utilizando-se
lcool isoproplico a 99,5% e o ultrassom Spencer do LEM-ITP, ver Figura 22, com tempo de
residncia de 30 minutos. A eficcia da limpeza foi verificada no microscpio tico do LEM-
ITP/UNIT.

60

Figura 22 Ultrassom SPENCER para limpeza das amostras e dos eletrodos.


Com o objetivo de simular o escoamento caracterstico da gua produzida nas linhas de
produo do campo de explorao, foram realizados ensaios de rotao no JAR-TEST do
LEM-ITP/UNIT, modificado para este objetivo, e operando com a rotao de 90rpm. Todos
os eletrodos foram confeccionados de modo a terem a parte exposta da amostra em direo
paralela ao fundo do bquer a fim de simular um escoamento do eletrlito.

A caracterizao do processo corrosivo do ensaio de acompanhamento do potencial de
circuito aberto foi realizado atravs do registro dirio do potencial de circuito aberto dos
eletrodos das ligas quasicristalinas e cristalinas AlCuFe, durante o intervalo de 45 dias, atravs
do multmetro.


Figura 23 JAR-TEST modificado utilizado no ensaio de variao do potencial de circuito aberto do
LEM-ITP/UNIT.


61
No entanto, devido instabilidade dos eletrodos no JAR-TEST, ver Figura 23, quando
em altas rotaes, optou-se em limitar a rotao no valor de 90rpm de modo a no permitir
danos estrutura do eletrodo e a descontinuidade inesperada dos ensaios. Foram utilizados
quatro bqueres contendo 200ml de eletrlito para imerso de dois eletrodos de quasicristal e
de dois eletrodos de cristal AlCuFe em uma soluo que representou uma condio bastante
corrosiva da gua produzida.

Quando do processo de corte das ligas cristalinas e quasicristalinas AlCuFe para a
confeco dos eletrodos, as amostras obtidas do Laboratrio de Materiais da UFPB
apresentaram-se extremamente frgeis de modo que os cortes foram realizados na serra da
cortadora metalogrfica CM70 da Teclago com extremo cuidado a fim de no esfacelar as
amostras. Todavia, no foi possvel realizar cortes de modo a se obter geometrias bem
definidas para o dimensionamento das reas expostas dos eletrodos atravs dos mtodos
tradicionais de medio.


3.3.3.2.2 Ensaios Eletroqumicos

Os ensaios eletroqumicos foram realizados no Laboratrio de Energia e Materais
(LEM), no Instituto de Tecnologia de Processso (ITP) de Aracaju, Sergipe, utilizando-se do
potenciostato da GAMRY Instruments, modelo G300.

Foi realizado o ensaio de Potencial de Circuito Aberto, utilizando-se a norma ASTM
G5(2004) como referncia, com o objetivo de medir o potencial de corroso. Para tal, utilizou-
se de uma clula eletroqumica contendo um eletrodo de platina como referncia. Esses
ensaios foram realizados em todas as amostras, as mesmas amostras que, posteriormente,
foram utilizadas para os ensaios de resistncia de polarizao linear e potenciodinmicos.

Para os ensaios eletroqumicos de corroso em laboratrio foram utilizados:

Um potenciostato marca Gamry, modelo G300;
Uma clula eletroqumica convencional de trs eletrodos, constituda de um
corpo de borossilicato, com capacidade de 200 mL e uma tampa confeccionada
em teflon, montada numa capela com exausto.
Um eletrodo de trabalho construdo com uma liga quasicristalina AlCuFe;
62
Um eletrodo de referncia na forma espiral e um contraeletrodo de placa 2cm x
2 cm, ambos de platina.
Amostras de gua produzida sinttica em laboratrio, utilizada como eletrlito.


Figura 24 Clula eletroqumica utilizada com o potenciostato da Gamry nos ensaios eletroqumicos.


Os eletrodos das amostras da liga quasicristalina AlCuFe foram confeccionados
atravs do embutimento das amostras em resina e com a preocupao da manuteno do
contato eltrico com um fio de cobre. Posteriormente, atravs da utilizao do aplicativo
Image Tool for Windows v.2.0 da UTHSCSA foi medida a rea da superfcie exposta do
eletrodo. Medies foram realizadas antes e aps os ensaios para cada eletrodo devido
variao das superfcies dos eletrodos provocada pelos lixamentos entre os ensaios realizados.


Figura 25 Clculo de rea atravs do Image Tool.
63
Antes da realizao dos ensaios, as amostras sofreram lixamento de modo a se utilizar
de amostras sem incrustaes. Foram utilizadas lixas abrasivas de granulometria de 220m e
1200m e direes de lixamento diferente do lixamento anterior. Aps o lixamento, as
amostras foram limpas utilizando-se lcool isoproplico a 99,5% e pela residncia das
amostras no ultrassom Spencer do LEM-ITP durante o tempo mnimo de 30 minutos. Com o
objetivo de confirmar a eficcia da limpeza, a amostra era submetida anlise no microscpio
eletrnico de varredura do LEM-ITP/UNIT.

Foram realizados os ensaios de Resistncia de Polarizao Linear e corrosimetria,
utilizando-se a norma ASTM G59 como referncia, com o objetivo de medir a velocidade de
corroso. Para tal, realizou-se a varredura de potencial em torno do potencial de circuito
aberto.

Foram adotados os seguintes parmetros nos ensaios eletroqumicos:
Potencial de Circuito Aberto:
Tempo de aquisio: 3.300s (55min)

Resistncia de Polarizao Linear:
Potencial Inicial: - 0,02V vs Epca
Potencial Final: 0,02V vs Epca
Taxa de varredura: 0,2 mV/s
rea mdia utilizada dos eletrodos de quasicristal: 0,78 cm
2

Densidade da amostra: 5,4 g/cm
3


Tambm foi realizado o ensaio Potenciodinmico com o objetivo de se obter as curvas
de polarizao andica e catdica, alm dos declives de Tafel a e c. Foi realizado na
amostra aps o ensaio de resistncia de polarizao linear. O eletrlito constituiu-se apenas
pelas variveis mais importantes da anlise do ensaio de resistncia de polarizao linear.


3.3.3.4 Planejamento Experimental

No caso do ensaio de imerso para obteno da taxa de corroso, o eletrlito utilizado
foi obtido atravs da adoo dos compostos e das concentraes mais agressivas da gua
produzida, tendo como referncia os compostos identificados e os valores obtidos dos ensaios
64
da anlise da gua produzida do campo de produo de petrleo e gs natural da Bacia
Sergipe-Alagoas, Brasil, ver Tabela 10. Portanto, foram utilizados os seguintes parmetros:

pH = 7,7
T
amb
= 24C
[NaCl] = 22.800ppm
[NaHCO
3
] = 1200ppm
[Na
2
S] = 30ppm
[MgSO
4
] = 80ppm

Devido fugacidade do sulfeto, a cada 24h, o eletrlito era substitudo por uma nova
soluo com a mesma composio original do incio do ensaio de maneira a permitir a
contribuio constante do sulfeto na taxa de corroso, recomendado pelo ASTM G31(2004).

O fenmeno de produo de um filme protetor, devido passivao, observado em
muitos materiais resistentes corroso e previsto na liga quasicristalina AlCuFe, como
mencionado no captulo anterior. Ademais, testes de curta durao podem indicar
erroneamente altas taxas de corroso. Consequentemente, recomenda-se a adoo de ensaios
longos de forma a permitir a observao da gerao da camada passivadora ASTM
G31(2004). Com o objetivo de permitir uma melhor caracterizao e pela falta de taxas de
corroso que pudessem facilitar a estimativa do tempo necessrio, o ensaio de imerso foi
realizado com a durao mnima de 45 dias ininterruptos.

Os ensaios potenciodinmicos foram realizados adotando-se no planejamento
experimental as seguintes variveis independentes:

NaHCO
3
(para o fornecimento de CO
2
),
Na
2
S(para o fornecimento de H
2
S),
MgSO
4
(para o fornecimento de sulfato).


Em todos os ensaios potenciodinmicos, o pH foi mantido no valor de 7,7 para facilitar
a formao de H
2
S. A temperatura ambiente foi mantida em 24C e para se verificar a
contribuio dos efeitos do cloro, foi utilizado 22.800ppm de NaCl na obteno do eletrlito
dos ensaios.
65

Foram utilizadas as seguintes variveis dependentes:
Coeficientes de Tafel,
Resistncia polarizao, e
Taxa de corroso.




Tabela 6 Valores das variveis independentes do Planejamento experimental 2
3
com ponto central.
Variveis Experimentais Composto Unidade Mnimo Mdio Mximo
X2 Sulfeto Na
2
S mg/L 10 20 30
X3 Sulfato MgSO
4
mg/L 5 42,5 80
X4 Bicarbonato NaHCO
3
mg/L 160 690 1.220



Foi adotado o planejamento com valor central e valores de nvel mnimo e mximo, a
depender dos quatro poos selecionados CP453, CP635, CP647 e CP763, conforme a Tabela
6. Adotou-se o planejamento experimental 2
3
com ponto central e a ordem aleatria da Tabela
7.


Tabela 7 Tabela dos ensaios do Planejamento experimental 2
3
com ponto central.










Ensaio [S
-2
] [SO
4
-2
] [HCO
3
-1
] Ordem
1 10 5 160 3
2 30 5 160 10
3 10 80 160 5
4 30 80 160 9
5 10 5 1220 1
6 30 5 1220 2
7 10 80 1220 8
8 30 80 1220 11
9 20 42,50 690 7
10 20 42,50 690 4
11 20 42,50 690 6
66
CAPTULO IV




RESULTADOS DOS ENSAIOS


Neste captulo so apresentados e comentados os resultados da caracterizao
mecnica e fsica da liga quasicristalina AlCuFe, das anlises realizadas da gua produzida
pelos poos selecionados do campo de produo de petrleo e gs natural da Bacia Sergipe-
Alagoas, utilizadas como parmetros para o estudo da corroso, e os resultados dos ensaios de
corroso realizados em laboratrio.

4.1 CARACTERIZAO FSICO-QUMICA DA LIGA

4.1.1 Difrao de Raios X e MEV

A fabricao e caracterizao fsico-qumica das amostras de cristal e quasicristal
foram realizadas pelo Laboratrio de Materiais do Departamento de Engenharia Mecnica da
UFPB. Foi visto que a sntese dos quasicristais e os mtodos para process-los tm influncia
direta sobre as suas caractersticas estruturais. Um quasicristal pode ser dito estvel se sua
formao, a partir do estado lquido, segue, por um lado, um caminho reversvel de
solidificao e se, por outro lado, suas propriedades no evoluem com o tempo (JANOT,
DUBOIS, 1998).

As curvas dos difratogramas apresentadas na Figura 26 mostram a evoluo de fases
dos ps modos, temperatura ambiente, nos tempos de 0,5h, 2h, 5h e 10h. No caso das
curvas de DRX da Figura 29, no foi detectada nenhuma alterao significativa de fases nos
ps modos at 10h, ou seja, ps modos at 10h no sofreram nenhum tipo de
desestabilizao. O resultado evidenciou o controle da contaminao que representa um papel
fundamental na estabilidade dos materiais quasicristalinos, onde uma pequena quantidade de
impureza, quando penetra na rede quasicristalina, pode conduzir a uma mudana de estrutura
(CAVALCANTE, 2007).

67

Figura 26 Difratometria do efeito do tempo de moagem (CAVALCANTE, 2007).


A oxidao de filmes finos de quasicristal causam a transformao do material,
enquanto que filmes mais espessos, sob as mesmas condies, mantm suas caractersticas
estruturais inalteradas (WEHNER et al., 2000). Por deduo, imagina-se que a cintica de
oxidao depende da rea de contato do material com o oxignio. Desse modo, razovel
inferir que a oxidao depende do tamanho das partculas, sendo mais intensa em partculas
menores. As reaes de oxidao dos metais, de uma maneira geral, so aceleradas em altas
temperaturas devido a um aumento na difuso do oxignio. No caso dos quasicristais, foi
observado que esse comportamento era similar. Levando-se em considerao os conceitos
anteriormente citados, a oxidao acelerada em altas temperaturas, dependendo da atmosfera
e da granulometria do p (CAVALCANTE, 2007).

A liga quasicristalina de composio AlCuFe

e estrutura icosaedral obtida em forno
induo, foi submetida a cominuio, por moagem mecnica, a 240rpm, ambas sob atmosfera de
argnio, durante 0,5h; 2,0h; 5,0h; 10,0h e 20,0h. Os ps obtidos, em cada moagem, foram
analisados quanto a sua estabilidade microestrutural atravs de Difrao de Raios X, com e sem
aquecimento, e Microscopia Eletrnica de Varredura (CAVALCANTE, 2007).

68
Os ps modos por 5h apresentam partculas irregulares de tamanho mdios da ordem
de 18m, Figura 27. O p apresentou fratura frgil, comprovando a fragilidade do material.


Figura 27 Microscopia eletrnica de varredura do p modo por 30min tratados a 298K, 773K e 973K
(CAVALCANTE, 2007).

Quando o p quasicristalino modo por 10h, Figura 28, as intensidades da fase
quasicristalina (IQC) comeam a diminuir, aproximadamente, na mesma razo que a intensidade
do pico da fase cristalina aumenta.


Figura 28 Microscopia eletrnica de varredura do p modo por 10 h tratados a 298K, 773K e 973K
(CAVALCANTE, 2007).

No caso do p modo por 20h, as partculas atingem tamanhos inferiores a
aproximadamente 800nm, como mostrado na Figura 29. Observa-se igualmente nesta foto que
as partculas do p tm larga distribuio de tamanho e apresentam tendncia aglomerao.
69

Figura 29 Microscopia eletrnica de varredura do p modo por 20 h tratados a 298K, 773K e 973K
(CAVALCANTE, 2007).

Neste caso, a transformao da fase quasicristalina (IQC) em fase logo evidenciada,
temperatura ambiente, imediatamente aps a moagem. Na Figura 30 observa-se que, medida que
a temperatura aumenta, a fase IQC vai se decompondo, e a 973K se torna praticamente
inexistente. Estes resultados sugerem que a transformao da fase quasicristalina para uma fase
um fenmeno regido pelo aumento rea especfica da superfcie, que conduz a uma maior razo
de oxidao ou maior introduo de defeitos durante a moagem. Existe um tamanho crtico de
partcula, na qual a camada superficial de xido comea a desempenhar um papel muito
importante na desestabilidade do quasicristal. Neste caso, a desestabilidade do quasicristal ocorre
mesmo temperatura ambiente, como se pode observar nos ps modos por 20h
(CAVALCANTE, 2007).

Figura 30 Difratometria de raios X do p modo por 20 h tratados a 298K, 773K e 973K (CAVALCANTE,
2007).
A platina o material da placa de aquecimento, a qual, ao mesmo tempo, funciona
como porta amostra da cmara de aquecimento do difratmetro.

70
4.1.2 Caracterizao das Propriedades Mecnicas

A seguir so apresentados os resultados da caracterizao de algumas propriedades
mecnicas da liga quasicristalina e cristalina AlCuFe.

4.1.2.1 Mdulo de Elasticidade

As Tabelas de 1.A a 6.A, alm das Figuras de 1.A a 12.A, do anexo 1 apresentam os
resultados dos ensaios do mdulo de elasticidade da liga quasicristalina e cristalina AlCuFe
realizadas com cargas de 10g, 25g e 50g.

De acordo com os resultados obtidos dos ensaios para a obteno dos mdulos de
elasticidade da liga quasicristalina e cristalina AlCuFe, mostrados na Tabela 8 e na Figura 31,
pode-se observar que a liga com maior mdulo de elasticidade foi a liga quasicristalina
AlCuFe. Os valores obtidos foram superiores aos valores das amostras de cristais submetidas
s mesmas cargas. Ainda, independentemente das cargas utilizadas, o mdulo de elasticidade
obtido foi bem superior ao que foi obtido em outras ligas quasicristalinas AlCuFe de
composio de elementos diferentes (PRINCIPI et al. , 2005; JENKS & THIEL, 1998).

Tabela 8 Resultados dos clculos do mdulo de elasticidade.
Material Mdulo de Elasticidade (GPa)
Quasicristal (carga de 10g) 148
Quasicristal (carga de 25g) 133
Quasicristal (carga de 50g) 118
Cristal (carga de 10g) 92,1
Cristal (carga de 25g) 56,8
Cristal (carga de 50g) 40,5
AlCuFe (composio diferente) (JENKS &THIEL,
1998)
61,3
AlPdMn (JENKS &THIEL, 1998)

199

O mdulo de Young ou mdulo de elasticidade um parmetro mecnico que
proporciona uma medida da resistncia de um corpo elstico deflexo ou deformao por
uma fora aplicada. Em geral, os quasicristais possuem alta fragilidade e baixa deformao
temperatura ambiente (DUBOIS, 2000; ISAEV et al., 2007), apesar de normalmente serem
constitudos de elementos de liga de alta elasticidade. Portanto, a expectativa era que fossem
71
obtidos mdulos de elasticidade das amostras de quasicristais inferiores aos dos
correspondentes cristais.

O processo de fabricao dos quasicristais, conduzido pela Universidade Federal da
Paraba (CAVALCANTI, 2007), o qual contemplou a obteno de estruturas mais finas
seguidas por um tratamento trmico especfico destinado a manter a fase quasicristalina e
diminuir os defeitos da estrutura, teve tambm como consequncia a obteno de uma liga
quasicristalina com uma elasticidade superior ao seu anlogo cristalino. Como nos metais,
estruturas de gros pequenos e com poucos defeitos influenciam positivamente na elasticidade
da liga, credita-se ao processo de fabricao especfico das amostras quasicristalinas a
obteno de um mdulo de elasticidade atpico.

0
50
100
150
200
250
QC (10g) QC (25g) QC (50g) Cristal (10g) Cristal (25g) Cristal (50g) AlCuFe(comp.
dif erente)
AlPdMn
M

d
u
l
o

d
e

E
l
a
s
t
i
c
i
d
a
d
e

(
G
P
a
)

Figura 31 Comparao entre os resultados obtidos nos ensaios de mdulo de elasticidade dos quasicristais e
cristais AlCuFe. A figura tambm contempla os mdulos de elasticidade de outras ligas (AlCuFe de composio
diferente e o AlPdMn).

4.1.2.2 Microdureza

As Tabelas de 1.B a 6.B do anexo 2 apresentam os resultados obtidos das medies de
dureza Vickers das amostras das ligas quasicristalina e cristalina AlCuFe obtidos com cargas
de 10g, 25g, 50g, 100g e 200g. Os resultados obtidos para a liga quasicristalina com as cargas
de 100g e 200g foram desconsiderados, pois houve o aparecimento de trinca quando da
penetrao ou falta de penetrao total do penetrador de base piramidal. Assim como, os
resultados obtidos para a liga cristalina com as cargas de 50g, 100g e 200g.

72
A Figura 32 apresenta as marcas da indentaes dos ensaios de microdureza com as
cargas de 10g, 25 e 50g na liga quasicristalina, que serviram de referncia para a obteno da
microdureza da liga.

Figura 32 Superfcie de amostra de quasicristal AlCuFe submetida a cargas de 10g, 25g e 50g,
respectivamente, nos ensaios de microdureza.

A Figura 33 apresenta as marcas de penetrao obtidas no ensaios de microdureza com
as cargas de 100g e 200g na liga quasicristalina onde podem ser vistas as trincas, as quais
desclassificaram os testes realizados.

Figura 33 Superfcie de amostra de quasicristal AlCuFe submetida a cargas de 100g e 200g,
respectivamente.
A Figura 34 apresenta as marcas da indentaes dos ensaios de microdureza com as
cargas de 10g, e 25g na liga cristalina, que serviram de referncia para a obteno da
microdureza da liga.

Figura 34 Superfcie de amostra de cristal AlCuFe submetida a cargas de 10g e 25g, respectivamente,
nos ensaios de microdureza.
73

A Figura 35 apresenta as marcas de penetrao obtidas nos ensaios de microdureza
com as cargas de 50g, 100g e 200g na liga cristalina onde podem ser vistas as trincas e a falta
de penetrao total pela carga de 200g, os quais desclassificaram os testes realizados.


Figura 35 Superfcie de amostra de cristal AlCuFe submetida a cargas de 50g, 100g e 200g,
respectivamente.

Os valores obtidos da microdureza Vickers da liga quasicristalina ficaram dentro da
faixa esperada obtida dos valores apresentados por Jenks et al. (1998). No entanto, a
microdureza da liga quasicristalina no evidenciou um aumento significativo em relao sua
anloga cristalina.

Tabela 9 Resultados dos clculos de microdureza.
Material Microdureza (HV)
Quasicristal (carga de 10g) 796
Quasicristal (carga de 25g) 846
Quasicristal (carga de 50g) 811
Quasicristal (carga de 100g) (DESCLASSIFICADO) 754
Quasicristal (carga de 200g) (DESCLASSIFICADO) 734
Cristal (carga de 10g) 797
Cristal (carga de 25g) 780
Cristal (carga de 50g) (DESCLASSIFICADO) 831
Cristal (carga de 100g) (DESCLASSIFICADO) 761
Cristal (carga de 200g) (DESCLASSIFICADO) 716

74
740
760
780
800
820
840
860
QC (10g) Cristal (10g) QC (25g) Cristal (25g) QC (50g)
M
i
c
r
o
d
u
r
e
z
a

(
H
V
)

Figura 36 Comparao da microdureza do quasicrsital e cristal AlCuFe.



4.1.3 Caracterizao da Resistncia Corroso

4.1.3.1 Caracterizao da gua Produzida

Foram realizadas coletas peridicas de amostras da gua produzida dos poos CP0453,
CP0635, CP0647 e CP0763 para a caracterizao de alguns parmetros fsico-qumicos
considerados importantes para o processo corrosivo. Alguns desses parmetros (bicarbonato,
sulfeto e sulfato) foram utilizados como referncia nos ensaios de corroso em laboratrio.

Os resultados da caracterizao dos poos de petrleo so apresentados na Tabela 10.
Os valores apresentados so a mdia aritmtica e o desvio padro da amostragem obtida no
perodo de junho a novembro de 2008. Todos os parmetros foram avaliados atravs de cinco
coletas de amostra para os poos CP0453, CP0647 e CP0763 e trs coletas para o poo
CP0635, devido indisponibilidade deste ltimo por motivos de descontinuidade operacional.

75
Tabela 10 Resultados dos parmetros levantados da gua produzida.

O poo CP0647 apresentou o maior pH, alm do maior desvio padro, no valor de
6,96%. As densidades obtidas foram bastante prximas de um poo para outro, alm dos
valores obtidos em cada poo, caracterizadas pelo pequeno desvio padro, em torno de 1%. O
teor de slidos suspensos nos poos CP0635 e CP0763 apresentaram valores bem superiores
aos dos outros dois poos. O TSS dos poos CP0635 e CP0763 podem ter sido influenciados
por atividades em reservatrio de poos vizinhos que ocorreram no mesmo perodo das
coletas, visto que os valores apresentados contrastam com o histrico de tais poos. O
parmetro salinidade teve a menor disperso relativa verificada nos poos CP0453 e CP0647.
O teor de cloretos teve a maior disperso relativa verificada no poo CP0453. Os parmetros
de salinidade e de cloretos apresentaram os maiores valores no poo CP0635. Assim como,
para os parmetros de dureza total e clcio.

As mdias dos parmetros de magnsio e bicarbonato do CP0635 apresentaram os
maiores valores, apesar dos desvios padres relativamente melhores do que os dos demais
poos. Outra vez, esses valores so creditados s intervenes em poos vizinhos
intercomunicados. Os teores de sulfeto e de sulfato foram obtidos atravs de trs
levantamentos dos poos CP0453 e CP0647 e cinco dos outros dois, CP0635 e CP0763.

A alcalinidade apresentou uma grande disperso, a qual teve a maior disperso para o
poo CP0435, no valor de 73,98%. A temperatura dos poos foi obtida atravs dos registros
operacionais do perodo da coleta de informaes no sistema de monitorao dos poos de
Carmpolis.

CP- 0453 CP- 0635 CP- 0647 CP- 0763
PARMETROS MDIA Desvio
Padro
MDIA Desvio
Padro
MDIA Desvio
Padro
MDIA Desvio
Padro
pH 7,34 2,76% 6,97 3,13% 7,7 6,96% 6,67 2,76%
Temperatura (C) 38,7 7,46% 42,5 9,63% 132,5 4,61% 74,1 8,50%
Densidade 1,005 1,01% 1,01 1,12% 1 1,27% 1 1,07%
TSS (mg/l) 18,4 5,63% 201,6 6,89% 71,4 3,88% 198,5 9,12%
Cloretos (mg/l) 9.827,14 3,33% 13.809,76 4,17% 4.634,62 8,77% 3.481,85 4,56%
Salinidade (mg NaCl/l) 16.214,79 2,24% 22.786,10 3,40% 7.47,12 2,27% 5.745,05 4,42%
Dureza Total (mg/l) 1.291,45 17,89% 2.854,26 11,43% 566,95 11,90% 399,62 7,09%
Clcio (mg/l) 371,80 9,57% 793,82 4,11% 156,6 2,53% 152,28 7,56%
Magnsio (mg/l) 88,52 7,89% 212,54 4,67% 42,87 8,90% 4,83 11,51%
Sulfeto (mg/l) 10,95 34,56% 16,84 17,43% 13,45 28,97% 29,92 6,06%
Bicarbonato (mg/l) 293,4 19,09% 1220,47 8,67% 282,16 8,90% 155,19 7,81%
Alcalinidade (mg/l) 240,49 73,98% 1000,38 45,29% 231,28 45,88% 127,2 33,17%
Sulfato (mg/l) 66,9 9,40% < 5 8,91% 11 4,44% 79,3 6,15%
76
4.1.3.2 Ensaios de Corroso em Laboratrio

Os ensaios de corroso em laboratrio objetivaram estudar o comportamento
corroso da liga quasicristalina AlCuFe em um fluido que simulou a gua produzida dos
poos do campo de produo de petrleo e gs natural da Bacia Sergipe-Alagoas, Brasil. Os
ensaios foram planejados e executados em laboratrio e consistiram em ensaios de
acompanhamento da variao do Potencial de Circuito Aberto (PCA) e eletroqumicos, tendo
como variveis independentes o sulfeto, sulfato e o bicarbonato.

A gua produzida utilizada nos ensaios eletroqumicos foi sintetizada em laboratrio
com os parmetros definidos, tendo como referncia a caracterizao dos poos selecionados.
Na Tabela 11, encontram-se os valores adotados para a elaborao da gua produzida
sinttica.

Tabela 11 Parmetros adotados para elaborao da gua produzida sintetizada.
Parmetro Unidade Valor
T C 24
pH adimensional 7,7
NaCl mg/L 22.800
Parmetro Unidade Mnimo Mdio Mximo
Na
2
S
mg/L
10 20 30
MgSO
4

mg/L
5 42,5 80
NaHCO
3

mg/L
160 690 1.220

4.1.3.2.1 Ensaios de Acompanhamento do Potencial de Circuito Aberto

O potencial de circuito aberto, ou potencial de corroso, um parmetro que permite
avaliar, para um determinado meio, quo nobre, ou mais resistente ao incio da corroso, um
material em relao a outro. tambm uma medida qualitativa da energia necessria para
iniciar o processo corrosivo do material.

A caracterizao do processo corrosivo do ensaio para acompanhamento da variao
do potencial de circuito aberto (PCA) foi realizado atravs do registro dirio do PCA dos
eletrodos das ligas quasicristalinas e cristalinas AlCuFe, durante intervalos superiores a 45
dias.

77
-900
-800
-700
-600
-500
-400
-300
-200
-100
0
0 2 3 7 8 9 11 12 14 15 18 19 20 21 29 32 34 35 36 39 40 41 45 46 47 48 49
Tempo (dias)
P
o
t
e
n
c
i
a
l

(
V
)

Figura 37 Variao do PCA da amostra 1 do quasicristal AlCuFe ao longo do tempo.

Atravs da anlise das Figuras 37 e 38, verifica-se que as amostras de quasicristal
apresentaram comportamentos anlogos para a mesma condio de ensaio, adotando-se os
valores mximos das variveis independentes e reposio diria do sulfeto. Durante
determinados intervalos, em ambas as curvas, houve uma aumento do PCA caracterizando a
formao de uma camada passivadora (BALBYSHEV et al., 2003; RHEE et al., 2001).

-800
-700
-600
-500
-400
-300
-200
-100
0
0 3 12 15 18 22 24 36 38 40 52 54 58 60 64 67 71 73 79 81
Tempo (dias)
P
o
t
e
n
c
i
a
l

(
V
)

Figura 38 Variao do PCA da amostra 2 do quasicristal AlCuFe ao longo do tempo.

Atravs da anlise das Figuras 39 e 40, verifica-se que as amostras de cristal no
apresentaram comportamentos anlogos para a mesma condio de ensaio, adotando-se os
valores mximos das variveis independentes e reposio diria do sulfeto. A Figura 39, da
amostra 1 do cristal, apresentou um aumento do PCA que se manteve relativamente estvel at
o final do ensaio.

78
-800
-700
-600
-500
-400
-300
-200
-100
0
0 4 6 8 20 22 26 36 40 42 44 49 51 55 61 63 65
Tempo (dias)
P
o
t
e
n
c
i
a
l

(
V
)

Figura 39 Variao do PCA da amostra 1 do cristal AlCuFe ao longo do tempo.

A Figura 40, da amostra 2 do cristal, apresentou uma grande variao do valor do PCA
ao longo do tempo, porm com intervalos apresentando um aumento significativo do PCA
com a posterior diminuio com a continuidade do ensaio. Foi verificado que tanto nas
amostras de quasicristal quanto nas de cristal, houve a formao da camada passivadora,
evidenciando-se que sua formao est mais relacionada natureza qumica do que energia
de superfcie (PRINCIPI et al, 2005; SHAITURA & ENALEEVA, 2007).

-800
-700
-600
-500
-400
-300
-200
-100
0
0 2 3 15 16 19 20 21 22 23 58 59 60 61 64 66 67 68 71 72 73 78 79 80 81 82
Tempo (dias)
P
o
t
e
n
c
i
a
l

(
V
)

Figura 40 Variao do PCA da amostra 2 do cristal AlCuFe ao longo do tempo.

A Figura 41 apresenta uma das amostras, amostra 1 do quasicristal AlCuFe, utilizadas
no ensaio para acompanhamento da variao do PCA e o ataque corrosivo ocorrido ao longo
do ensaio.

79

Figura 41 Eletrodo de trabalho com a liga quasicristalina AlCuFe utilizado no ensaio de acompanhamento do
potencial de circuito aberto.



4.1.3.2.2 Ensaios Eletroqumicos/Corrosimetria

A resistncia de polarizao linear foi obtida atravs da tangente curva de
polarizao no potencial de corroso, no grfico potencial versus corrente. Inicialmente, para
cada ensaio, foi obtida a curva potencial de circuito aberto versus tempo, adotando-se o tempo
de 55 minutos, de acordo com a norma ASTM G59, para que o sistema ficasse em equilbrio e
a obteno do potencial de corroso estabilizado.

As curvas de polarizao foram obtidas atravs da variao da tenso de 20 mV
(KAEFER, 2004) em relao ao potencial de corroso. Para cada ensaio, foram obtidas 48 ou
52 curvas de polarizao. No entanto, algumas curvas no permitiram uma anlise confivel
para a obteno da resistncia de polarizao, de modo que se optou em no utiliz-las, pois
poderiam incorrer em erros, prejudicando uma anlise mais confivel da resistncia de
polarizao linear das ligas.
0
200
400
600
800
1000
1200
1400
0 110 220 331 441 551 661 772 882 992 1103
T (min)
R
p

(

k
o
h
m
s
)

Figura 42 Variao da resistncia de polarizao linear do quasicristal AlCuFe durante o experimento
1.
80

A Figura 42 apresenta a variao da resistncia de polarizao linear da liga
quasicristalina AlCuFe obtida durante o experimento 1. Neste experimento, foram descartadas
5 das 48 curvas obtidas, pois no permitiram a obteno da tangente da curva de polarizao
no ponto do potencial de corroso versus corrente de corroso nula. O ensaio durou 1296
minutos, alm dos 55 minutos para a obteno do potencial de circuito aberto.

Pode-se observar que houve uma diminuio da resistncia de polarizao ao longo
dos 550 minutos iniciais do ensaio. Representando a fase em que o material sofreu o maior
desgaste corrosivo devido susceptibilidade passiva da liga, evidenciada pela queda
acentuada da resistncia, conforme apresentada na Figura 42. Por volta do minuto 551 at o
final do ensaio, constatou-se que a resistncia de polarizao apresentou uma leve variao,
mantendo-se uma resistncia de polarizao em torno de 200kohms.


Figura 43 Micrografia tica com aumento de 10x da superfcie do eletrodo de quasicristal AlCuFe
aps a realizao do ensaio 1 de resistncia de polarizao linear.

A Figura 43 apresenta a micrografia tica com aumento de 10x, obtida no microscpio
tico do LEM-ITP/UNIT, da superfcie do eletrodo de quasicristal AlCuFe aps a realizao
do ensaio 1. Apesar da estabilizao da resistncia de polarizao da liga em torno do
potencial de 200kohms no minuto 551, no foi identificada a formao da camada passivadora
(GELLMAN et al, 2005; JENKS & THIEL, 1997). Ademais, a micrografia apresentou a
formao de produtos de corroso provavelmente do Fe, como o sulfeto de ferro e o xido
ferroso, por exemplo, e a colorao azul-esverdeada tpica da corroso do cobre, no
evidenciando as concluses de Balbyshev et al (2003) e Rhee et al (2001), onde os outros
elementos da liga no participariam da formao da camada oxidada devido atuao do
alumnio que no permitiria que o oxignio migrasse para dentro do material antes que
houvesse uma nucleao na superfcie.
81


0
10
20
30
40
50
60
70
80
90
100
0 110 220 331 441 551 661 772 882 992 1103 1213 1323
T (min)
R
p

(

k
o
h
m
s
)

Figura 44 Variao da resistncia de polarizao linear do quasicristal AlCuFe durante o experimento
2.

A Figura 44 apresenta a variao da resistncia de polarizao linear da liga
quasicristalina AlCuFe obtida durante o experimento 2. Neste experimento, no foram
descartadas nenhuma das curvas obtidas. O ensaio durou 1406 minutos, alm dos 55 minutos
para a obteno do potencial de circuito aberto.

Pode-se observar que apesar da grande variao da resistncia de polarizao ao longo
dos 1406 minutos do ensaio a resistncia de polarizao no final apresentou um valor muito
prximo do valor no incio do ensaio. Novamente, no se constatou a formao da camada
passivadora do xido de alumnio (GELLMAN et al, 2005; JENKS & THIEL, 1997).



Figura 45 Micrografia tica com aumento de 10x da superfcie do eletrodo de quasicristal AlCuFe
aps a realizao do ensaio 2 de resistncia de polarizao linear.
82
A Figura 45 apresenta a micrografia tica com aumento de 10x, obtida no microscpio
tico do LEM-ITP/UNIT, da superfcie do eletrodo de quasicristal AlCuFe aps a realizao
do ensaio 2. A micrografia apresentou a formao de produtos de corroso provavelmente do
Fe, como o sulfeto de ferro e o xido ferroso, de maneira que a oxidao do alumnio no
impediu a corroso dos outros elementos da liga.

0,00
10,00
20,00
30,00
40,00
50,00
60,00
0 496 606 717 827 965 1185 1296
T (min)
R
p

(

k
o
h
m
s
)

Figura 46 Variao da resistncia de polarizao linear do quasicristal AlCuFe durante o experimento
3.

A Figura 46 apresenta a variao da resistncia de polarizao linear da liga
quasicristalina AlCuFe obtida durante o experimento 3. Neste experimento, foram descartadas
19 das 48 curvas obtidas, pois no permitiram a obteno da tangente da curva de polarizao
no ponto do potencial de corroso versus corrente de corroso nula. O ensaio durou 1296
minutos, alm dos 55 minutos para a obteno do potencial de circuito aberto.

Pode-se observar que houve uma leve variao da resistncia de polarizao ao longo
de boa parte dos 1296 minutos do ensaio. Durante o intervalo do minuto 910 ao minuto 1048,
foi evidenciado um aumento substancial da resistncia de polarizao. Este aumento pode ter
sido devido formao de uma camada passivadora de alumnio que, posteriormente, teria
sido degradada com a continuao do ensaio.
83
a) b)
Figura 47 Fotos do eletrodo de quasicristal AlCuFe antes (a) e depois (b) da realizao do ensaio 3 de
resistncia de polarizao linear.

A Figura 47 apresenta as fotos da superfcie do eletrodo de quasicristal AlCuFe antes e
aps a realizao do ensaio 3. Na regio da superfcie do eletrodo que no se obteve um
acabamento especular aconteceu o maior ataque corrosivo motivado principalmente pela
concentrao de energia caracterstica de superfcies com irregularidades e com mudana de
geometria. Foi observada a formao de produtos de corroso provavelmente do Fe, como o
sulfeto de ferro e o xido ferroso, de maneira que a oxidao do alumnio no impediu a
corroso dos outros elementos da liga.

0
10
20
30
40
50
60
0 551 606 717 772 882 992
T (min)
R
p

(

k
o
h
m
s
)

Figura 48 Variao da resistncia de polarizao linear do quasicristal AlCuFe durante o experimento
4.

A Figura 48 apresenta a variao da resistncia de polarizao linear da liga
quasicristalina AlCuFe obtida durante o experimento 4. Neste experimento, foram descartadas
34 das 48 curvas obtidas, pois no permitiram a obteno da tangente da curva de polarizao
84
no ponto do potencial de corroso versus corrente de corroso nula. O ensaio durou 1296
minutos, alm dos 55 minutos para a obteno do potencial de circuito aberto.

Pode-se observar que houve uma leve variao da resistncia de polarizao ao longo
de boa parte dos 1296 minutos do ensaio. O valor da resistncia de polarizao final foi
inferior ao valor original, mas com uma pequena diferena. Devido leve variao da
resistncia de polarizao ao longo do ensaio, no se constatou a formao de uma camada
passivadora de alumnio.

a) b)
Figura 49 Micrografias ticas com aumento de 10x da superfcie do eletrodo de quasicristal AlCuFe
antes (a) e aps (b) a realizao do ensaio 4 de resistncia de polarizao linear.

A Figura 49 apresenta a micrografia tica com aumento de 10x, obtida no microscpio
tico do LEM-ITP/UNIT, da superfcie do eletrodo de quasicristal AlCuFe antes e aps a
realizao do ensaio 4. As micrografias apresentaram a formao de produto de corroso
provavelmente do Fe, o sulfeto de ferro, e a colorao azul-esverdeada tpica da corroso do
cobre, no evidenciando as concluses de Balbyshev et al (2003) e Rhee et al (2001), de
maneira que a oxidao do alumnio no impediu a corroso dos outros elementos da liga.
0
10
20
30
40
50
60
0 110 220 331 441 551 661 772 882 992 1103 1213
T (min)
R
p

(

k
o
h
m
s
)

Figura 50 Variao da resistncia de polarizao linear do quasicristal AlCuFe durante o experimento
5.
85

A Figura 50 apresenta a variao da resistncia de polarizao linear da liga
quasicristalina AlCuFe obtida durante o experimento 5. Neste experimento, foi descartada
apenas 1 das 48 curvas obtidas, pois no permitiu a obteno da tangente da curva de
polarizao no ponto do potencial de corroso versus corrente de corroso nula. O ensaio
durou 1296 minutos, alm dos 55 minutos para a obteno do potencial de circuito aberto.

Pode-se observar que apesar da grande variao da resistncia de polarizao, ao longo
dos 1296 minutos do ensaio, a resistncia de polarizao no final apresentou um valor muito
prximo do valor no incio do ensaio. Novamente, no se constatou a formao da camada
passivadora do xido de alumnio (GELLMAN et al, 2005; JENKS & THIEL, 1997).


Figura 51 Micrografia tica com aumento de 10x da superfcie do eletrodo de quasicristal AlCuFe
aps a realizao do ensaio 5 de resistncia de polarizao linear.

A Figura 51 apresenta a micrografia tica com a resoluo de 10x, obtida no
microscpio tico do LEM-ITP/UNIT, da superfcie do eletrodo de quasicristal AlCuFe aps a
realizao do ensaio 5. A micrografia apresenta a formao de produto de corroso
provavelmente do Fe, como o sulfeto de ferro, e a colorao azul-esverdeada tpica da
corroso do cobre de maneira que a oxidao do alumnio no impediu a corroso dos outros
elementos da liga.

86
0
10
20
30
40
50
60
0 386 469 552 607 690 717 745 772 800 828 855 883
T (min)
R
p

(

k
o
h
m
s
)

Figura 52 Variao da resistncia de polarizao linear do quasicristal AlCuFe durante o experimento
6.

A Figura 52 apresenta a variao da resistncia de polarizao linear da liga
quasicristalina AlCuFe obtida durante o experimento 6. Neste experimento, foram descartadas
35 das 48 curvas obtidas, pois no permitiram a obteno da tangente da curva de polarizao
no ponto do potencial de corroso versus corrente de corroso nula. O ensaio durou 1296
minutos, alm dos 55 minutos para a obteno do potencial de circuito aberto.

Pode-se observar que houve uma leve variao da resistncia de polarizao ao longo
de boa parte dos 1296 minutos do ensaio. O valor da resistncia de polarizao final foi
prximo ao valor do incio do ensaio. Devido leve variao da resistncia de polarizao ao
longo do ensaio, no se constatou a formao de uma camada passivadora de alumnio.


Figura 53 Foto do eletrodo de quasicristal AlCuFe aps a realizao do ensaio 6 de resistncia de
polarizao linear.

87
A Figura 53 apresenta a foto da superfcie do eletrodo de quasicristal AlCuFe aps a
realizao do ensaio 6. Constatou-se um ataque corrosivo uniforme em toda superfcie, no se
limitando principalmente regio da superfcie do eletrodo que no se obteve um acabamento
especular. Foi observada a formao de produtos de corroso provavelmente do Fe, como o
sulfeto de ferro, de maneira que a oxidao do alumnio no impediu a corroso dos outros
elementos da liga.

0
10
20
30
40
50
60
70
80
90
100
0 496 937 992 1048 1103 1158 1268
T (min)
R
p

(

k
o
h
m
s
)

Figura 54 Variao da resistncia de polarizao linear do quasicristal AlCuFe durante o experimento
7.


A Figura 54 apresenta a variao da resistncia de polarizao linear da liga
quasicristalina AlCuFe obtida durante o experimento 7. Neste experimento, foram descartadas
32 das 48 curvas obtidas, pois no permitiram a obteno da tangente da curva de polarizao
no ponto do potencial de corroso versus corrente de corroso nula. O ensaio durou 1296
minutos, alm dos 55 minutos para a obteno do potencial de circuito aberto.

Pode-se observar que houve uma leve variao da resistncia de polarizao ao longo
de boa parte dos 1296 minutos do ensaio. Durante o intervalo do minuto 248 ao minuto 937,
foi evidenciado um aumento substancial da resistncia de polarizao. Este aumento pode ter
sido devido formao de uma camada passivadora de alumnio que, posteriormente, teria
sido degradada com a continuao do ensaio.

88
a) b)
Figura 55 Fotos do eletrodo de quasicristal AlCuFe antes (a) e depois (b) da realizao do ensaio 7 de
resistncia de polarizao linear.

A Figura 55 apresenta as fotos da superfcie do eletrodo de quasicristal AlCuFe antes e
aps a realizao do ensaio 7. Na regio da superfcie do eletrodo que no se obteve um
acabamento especular aconteceu o maior ataque corrosivo motivado principalmente pela
concentrao de energia caracterstica de superfcies com irregularidades e com mudana de
geometria. Foi observada a formao de produtos de corroso provavelmente do Fe, como o
sulfeto de ferro e o xido ferroso, de maneira que a oxidao do alumnio no impediu a
corroso dos outros elementos da liga.

0
10
20
30
40
50
60
0 110 220 331 441 551 661 772 882 992 1103 1213 1323
T (min)
R
p

(

k
o
h
m
s
)

Figura 56 Variao da resistncia de polarizao linear do quasicristal AlCuFe durante o experimento
8.

A Figura 56 apresenta a variao da resistncia de polarizao linear da liga
quasicristalina AlCuFe obtida durante o experimento 8. Neste experimento, foi descartada
apenas 1 das 48 curvas obtidas, pois no permitiu a obteno da tangente da curva de
polarizao no ponto do potencial de corroso versus corrente de corroso nula. O ensaio
durou 1378 minutos, alm dos 55 minutos para a obteno do potencial de circuito aberto.

89
Pode-se observar que apesar da grande variao da resistncia de polarizao, ao longo
dos 1378 minutos do ensaio, a resistncia de polarizao no final apresentou um valor superior
ao valor no incio do ensaio. Este aumento pode ter sido devido formao de uma camada
passivadora de alumnio que, posteriormente, teria sido degradada com a continuao do
ensaio (GELLMAN et al, 2005; JENKS & THIEL, 1997).


Figura 57 Micrografia tica com aumento de 10x da superfcie do eletrodo de quasicristal AlCuFe
aps a realizao do ensaio 8 de resistncia de polarizao linear.

A Figura 57 apresenta a micrografia tica com a resoluo de 10x, obtida no
microscpio tico do LEM-ITP/UNIT, da superfcie do eletrodo de quasicristal AlCuFe aps a
realizao do ensaio 8. A micrografia apresenta um pequeno ataque corrosivo com a formao
de produto de corroso do Fe, o sulfeto de ferro, e a colorao azul-esverdeada tpica da
corroso do cobre de maneira que a oxidao do alumnio influenciou na corroso dos outros
elementos da liga.

0
10
20
30
40
50
60
0 138 386 496 606 717 854 965 1103 1296
T (min)
R
p

(

k
o
h
m
s
)

Figura 58 Variao da resistncia de polarizao linear do quasicristal AlCuFe durante o experimento
9.
90

A Figura 58 apresenta a variao da resistncia de polarizao linear da liga
quasicristalina AlCuFe obtida durante o experimento 9. Neste experimento, foram descartadas
11 das 48 curvas obtidas, pois no permitiram a obteno da tangente da curva de polarizao
no ponto do potencial de corroso versus corrente de corroso nula. O ensaio durou 1296
minutos, alm dos 55 minutos para a obteno do potencial de circuito aberto.

Pode-se observar que houve uma leve variao da resistncia de polarizao ao longo
de boa parte dos 1296 minutos do ensaio. Durante os intervalos do minuto inicial ao minuto
386 e no intervalo do minuto 992 at o minuto final, com uma rpida queda no minuto 1241,
foi evidenciado um aumento substancial da resistncia de polarizao. Este aumento pode ter
sido devido formao de uma camada passivadora de alumnio que foi degradada e,
posteriormente, voltou a ser formada com a continuao do ensaio.

a) b)
Figura 59 Micrografia tica com aumento de 10x da superfcie do eletrodo de quasicristal AlCuFe
antes (a) e aps (b) a realizao do ensaio 9 de resistncia de polarizao linear.

A Figura 59 apresenta as micrografias ticas com a resoluo de 10x, obtida no
microscpio tico do LEM-ITP/UNIT, da superfcie do eletrodo de quasicristal AlCuFe antes
e aps a realizao do ensaio 9. As micrografias apresentam o que se acredita ser a formao
esparsa do produto de corroso do Fe, o xido ferroso, e uma leve formao do xido de
alumnio na maioria da superfcie.
91
0
10
20
30
40
50
60
70
80
90
100
0 138 193 248 303 358 413 468 524 689 1048
T (min)
R
p

(

k
o
h
m
s
)

Figura 60 Variao da resistncia de polarizao linear do quasicristal AlCuFe durante o experimento
10.
A Figura 60 apresenta a variao da resistncia de polarizao linear da liga
quasicristalina AlCuFe obtida durante o experimento 10. Neste experimento, foram
descartadas 26 das 48 curvas obtidas, pois no permitiram a obteno da tangente da curva de
polarizao no ponto do potencial de corroso versus corrente de corroso nula. O ensaio
durou 1296 minutos, alm dos 55 minutos para a obteno do potencial de circuito aberto.

Pode-se observar que houve uma leve variao da resistncia de polarizao ao longo
de boa parte dos 1048 minutos iniciais do ensaio. Aps o minuto 1048, houve um acrscimo
substancial da resistncia de polarizao creditado formao de uma camada passivadora de
alumnio (GELLMAN et al, 2005; JENKS & THIEL, 1997).

a) b)
Figura 61 Fotos do eletrodo de quasicristal AlCuFe antes (a) e depois (b) da realizao do ensaio 10 de
resistncia de polarizao linear.

A Figura 61 apresenta as fotos da superfcie do eletrodo de quasicristal AlCuFe antes e
aps a realizao do ensaio 10. Na regio da superfcie do eletrodo que no se obteve um
acabamento especular aconteceu o maior ataque corrosivo motivado principalmente pela
concentrao de energia caracterstica de superfcies com irregularidades e com mudana de
92
geometria e foi observada a formao de produtos de corroso provavelmente do Fe, como o
sulfeto de ferro, porm no restante da superfcie houve uma leve formao do xido de
alumnio.

0
10
20
30
40
50
60
0 55 110 165 220 331 496 551 606 717 910 1213
T (min)
R
p

(

k
o
h
m
s
)

Figura 62 Variao da resistncia de polarizao linear do quasicristal AlCuFe durante o experimento
11.

A figura 62 apresenta a variao da resistncia de polarizao linear da liga
quasicristalina AlCuFe obtida durante o experimento 11. Neste experimento, foram
descartadas 24 das 48 curvas obtidas, pois no permitiram a obteno da tangente da curva de
polarizao no ponto do potencial de corroso versus corrente de corroso nula. O ensaio
durou 1296 minutos, alm dos 55 minutos para a obteno do potencial de circuito aberto.

Pode-se observar que houve uma leve variao da resistncia de polarizao ao longo
de boa parte dos 1296 minutos do ensaio. Durante o intervalo do minuto 275 ao minuto 524,
foi evidenciado um aumento substancial da resistncia de polarizao. Este aumento pode ter
sido devido formao de uma camada passivadora de alumnio que, posteriormente, teria
sido degradada com a continuao do ensaio.
a) b)
Figura 63 Fotos do eletrodo de quasicristal AlCuFe antes (a) e depois (b) da realizao do ensaio 11 de
resistncia de polarizao linear.
93

A Figura 63 apresenta as fotos da superfcie do eletrodo de quasicristal AlCuFe antes e
aps a realizao do ensaio 11. Foi observada a formao de produtos de corroso
provavelmente do Fe, como o sulfeto de ferro, na regio da superfcie do eletrodo que no se
obteve um acabamento especular e onde aconteceu o maior ataque corrosivo, porm no
restante da superfcie houve uma leve formao do xido de alumnio.

importante observar que as curvas de variao da resistncia de polarizao dos
ensaios 9, 10 e 11 apresentaram comportamentos semelhantes, ou seja, percebe-se intervalos
com aumento de resistncia, creditado formao de uma pelcula passivadora, e uma
variao bastante suave em torno de um valor prximo a 5kohm, ao longo do intervalo
restante dos ensaios. Tais comportamentos eram esperados pelo fato dos ensaios de 9 a 11
terem sido conduzidos com as variveis utilizando os seus pontos centrais.

4.1.3.2.3 Planejamento Experimental

Foi realizado o planejamento experimental com trs variveis independentes (fatores),
tendo sido adotadas: sulfeto, sulfato e bicarbonato; objetivando identificar as variveis e a
combinao de fatores mais influentes. Para cada varivel foram adotados dois nveis, alm da
utilizao de trs pontos centrais, conforme apresentado na Tabela 12. Todos os experimentos
foram realizados mantendo-se constante a temperatura, T=24C , pH=7,7 e
[NaCl]=22.400ppm.

Tabela 12 Matriz fatores e efeito do planejamento experimental.
Sulfeto Sulfato Bicarbonato Rp
-1 -1 -1 -973,8
1 -1 -1 -11,32
-1 1 -1 1,53
1 1 -1 -8,45
-1 -1 1 -4,75
1 -1 1 -0,12
-1 1 1 7,65
1 1 1 11,83
0 0 0 2,75
0 0 0 3,47
0 0 0 1,51

94
A Tabela 13 apresenta os dados da anlise dos efeitos, erros-padro e do teste t de
Student. Verifica-se que, com um nvel de confiana de 95%, o sulfeto, o sulfato, o
bicarbonato, a interao sulfeto-sulfato e a interao sulfeto-sulfato-bicarbonato apresentaram
influncia significativa no valor da resistncia de polarizao (Rp). O erro padro foi alto,
porm importante ressaltar que no foi possvel garantir a repetibilidade ideal dos ensaios,
devido variao das reas dos eletrodos, variao dos elementos de liga na superfcie
resultantes do lixamento e volatilidade do sulfeto, nmero de curvas realmente aproveitadas
e a premissa em procurar relacionar a variao da resistncia de polarizao entre os ensaios
adotando o intervalo mximo de 882 minutos iniciais de cada ensaio. A escolha do intervalo
mximo de 882 minutos foi baseada no menor intervalo de coleta de curvas de polarizao
realmente aproveitadas entre os ensaios.

Tabela 13 Dados da anlise dos efeitos, erros-padro e do teste t de Student do planejamento
experimental dos ensaios eletroqumicos.
Fatores Efeitos Erro Padro t p
Sulfeto(1) 240,328 75,23252 3,19446 0,049541
Sulfato(2) 250,638 75,23252 3,33150 0,044669
Bicarbonato(3) 251,663 75,23252 3,34513 0,044219
1-2 -243,228 75,23252 -3,23301 0,048106
1-3 -235,923 75,23252 -3,13591 0,051827
2-3 -238,463 75,23252 -3,16967 0,050493
1-2-3 243,003 75,23252 3,23252 0,048215

Atravs da Tabela 13, o efeito que o aumento da resistncia de polarizao foi mais
identificado em cada varivel independente e na interao entre todas elas. Ratificado pelos
valores dos coeficientes de correlao respectivos.

Atravs da anlise da superfcie de resposta das Figuras 69, 70 e 71, verifica-se que as
maiores variaes da resistncia de polarizao ocorreram quando da menor concentrao do
sulfeto, sulfato e bicarbonato.

95

Figura 69 Superfcie de resposta do planejamento experimental da interao sulfato-sulfeto.



Figura 70 Superfcie de resposta do planejamento experimental da interao bicarbonato-sulfeto.

Atravs da anlise das superfcies de resposta no foi possvel relacionar o momento e
a prpria formao da camada passivadora com as variveis independentes. Atribui-se este
fato por ter sido um fenmeno que ocorreu em intervalos diferentes durante os ensaios, que
em alguns ensaios se formou e se degradou, e no necessariamente dentro do intervalo dos
882 minutos adotado como referncia na elaborao da matriz fatores e efeito do
planejamento experimental, conforme apresentada na Tabela 12.

96

Figura 71 Superfcie de resposta do planejamento experimental da interao sulfato-bicarbonato.

Com o objetivo de obter a taxa de corroso da liga quasicristalina AlCuFe, foi
realizado um ensaio nas condies do ensaio 1 do planejamento experimental, durante 28
minutos, visto que foi aquele que apresentou a maior variao da resistncia de polarizao.
Inicialmente, realizou-se o ensaio de potencial de circuito aberto a fim obter o potencial de
corroso em uma condio de equilbrio. Logo em seguida, foram traadas as curvas de
polarizao andica e catdica, conforme mostram as Figuras 72 e 73.

1E-9 1E-8 1E-7 1E-6 1E-5 1E-4 1E-3
0,0
0,1
0,2
0,3
0,4
0,5
V
(
V
)

v
s

P
t
I(A)

Figura 72 Curva de polarizao andica de Tafel para a liga quasicristalina AlCuFe.
V(V)=0,917+0,146.logI(A)
97
1E-9 1E-8 1E-7 1E-6 1E-5 1E-4
-0,6
-0,4
-0,2
0,0
0,2
0,4
V
(
V
)
I(A)

Figura 73 Curva de polarizao catdica de Tafel para a liga quasicristalina AlCuFe.


Atravs da anlise das curvas de Tafel, pudemos determinar os coeficientes catdico
(
c
) e andico (
a
), tendo sido obtidos os seguintes valores:


c
= 0,595V e

a
= 0,146V

A partir da composio da liga e dos dados da Tabela 14, foi obtido o equivalente-
grama (EW) aplicando a equao 23 do captulo 2. O valor do equivalente-grama calculado
foi 8,15g.

Tabela 14 Parmetros para clculo do equivalente-grama da liga quasicrsitalina AlCuFe.
Elemento Composio(%) Massa Atmica Nmero de Oxidao
Al 62,2 27 3
Cu 25,5 63,6 2
Fe 12,3 56 2


A densidade de corrente de corroso foi obtida atravs da equao 21 do captulo 2
para o maior valor e para o valor mdio estvel de Rp, aps 14,7h, do ensaio 1 (Rp= 1,202
kohms e Rp= 202,8kohms), curvas 1 e 32 do ensaio 1, respectivamente.

V(V) = -3,4535-0,595.logI(A)
98
Tabela 15 Parmetros levantados nos ensaios eletroqumicos para determinao da taxa de corroso da liga
quasicristalina AlCuFe.
Parmetro Curva 1 do Ensaio1 Curva 32 do Ensaio 1
Rp (kohm) 1202 202,8
I
corr
(A/cm
2
) 0,0424 0,2509
Taxa de corroso (mm/ano) 2,1 x 10
-4
1,26 x 10
-3


Os valores da taxa de corroso obtidos atravs das curvas do ensaio 1, Tabela 15, esto
no intervalo de trs a dez vezes inferior taxa de corroso de 3 x 10
-3
mm/ano obtida para o
revestimento de alumnio e pelo menos cem vezes inferior taxa de corroso de 7 x 10
-1

mm/ano para o revestimento de ao SAE 4142 D, ambos utilizados em hastes de bombeio
(SANTOS, 2008) nos ensaios de corroso realizados no mesmo campo de produo de gs e
leo dos poos utilizados no captulo 3 para caracterizar a gua produzida tida como
referncia para o levantamento do planejamento experimental dos ensaios de corroso deste
trabalho.


99
CAPTULO V




CONCLUSO


Neste captulo, so apresentadas as concluses obtidas dos ensaios de microdureza,
mdulo de elasticidade e de corroso em conjuntos de amostras de quasicristais e cristais
AlCuFe os quais tiveram por objetivo realizar a caracterizao das propriedades mecnicas e
avaliar a resistncia corroso da liga quasicristalina AlCuFe em ambientes corrosivos que
simulassem as condies mais graves do campo de explorao e produo de petrleo e gs
natural da Bacia Sergipe-Alagoas, Brasil.

Os resultados dos ensaios para a obteno dos mdulos de elasticidade da liga
quasicristalina e cristalina AlCuFe mostraram que a liga com maior mdulo de elasticidade foi
a liga quasicristalina AlCuFe com valores na faixa de 118 a 148 GPa, enquanto o cristal
apresentou a faixa de 40,5 a 92,1 GPa. Ainda, o mdulo de elasticidade obtido foi bem
superior ao que foi obtido em outras ligas quasicristalinas AlCuFe (JENKS & THIEL, 1998).
Ressaltando-se o fato da influncia da composio dos elementos da liga no valor do mdulo
de elasticidade.

Os resultados dos ensaios de microdureza Vickers da liga quasicristalina ficaram
dentro da faixa de 800 a 1000 HV, ratificando os valores apresentados por Jenks et al. (1998).
No entanto, a microdureza da liga quasicristalina no evidenciou um aumento significativo em
relao sua anloga cristalina. Credita-se heterogeneidade da amostra quasicristalina a
influncia nos resultados obtidos de forma que novos ensaios, com amostras quasicristalinas
homogneas, sejam necessrios para a obteno de concluses mais confiveis.

No ensaio de acompanhamento da variao do potencial de circuito aberto concluiu-se
que ambas as ligas de quasicristal e de cristal sofreram, durante determinados intervalos,
passivao, evidenciando-se que a formao da camada passivadora est mais relacionada
com a natureza qumica do que com a disposio dos tomos, que no caso das ligas
quasicristalinas e cristalinas so diferentes. Atravs dos ensaios de resistncia de polarizao
linear e de Tafel, foi possvel calcular a taxa de corroso para a liga quasicristalina AlCuFe,
100
no ensaio que apresentou a maior variao da resistncia de polarizao ao longo do tempo.
Foram obtidas as taxas de corroso de 2,1 x 10
-4
e de 1,26 x 10
-3
mm/ano, respectivamente,
para o maior e para o valor mdio estvel da resistncia de polarizao desse ensaio. As taxas
de corroso esto no intervalo de trs a dez vezes inferior taxa de corroso de 3 x 10
-3

mm/ano obtida para o revestimento de alumnio e pelo menos cem vezes inferior taxa de
corroso de 7 x 10
-1
mm/ano do ao SAE 4142 D em condies prximas de corroso
(SANTOS, 2008).

Atravs do planejamento experimental, verificou-se que o sulfeto, o sulfato, o
bicarbonato, alm das interaes sulfeto-sulfato e sulfeto-sulfato-bicarbonato apresentaram
influncias significativas no valor da resistncia de polarizao linear com a confiabilidade de
95%. Tendo o bicarbonato apresentado a maior influncia.

101
CAPTULO VI




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109
ANEXO I




RESULTADOS DOS ENSAIOS PARA OBTENO DO MDULO DE
ELASTICIDADE


Tabela 1.A Mdulo de elasticidade da liga quasicristalina AlCuFe submetida a uma carga de 10g.




Figura 1.A Fora x Profundidade da liga quasicristalina AlCuFe submetida a uma carga de 10g.


110

Figura 2.A Profundidade x Tempo para a obteno do Mdulo de Elasticidade da liga quasicristalina AlCuFe
submetida a uma carga de 10g.


Tabela 2.A Mdulo de elasticidade da liga quasicristalina AlCuFe submetida a uma carga de 25g.



111

Figura 3.A Fora x Profundidade da liga quasicristalina AlCuFe submetida a uma carga de 25g.




Figura 4.A Profundidade x Tempo para a obteno do Mdulo de Elasticidade da liga quasicristalina AlCuFe
submetida a uma carga de 25g.


112
Tabela 3.A Mdulo de elasticidade da liga quasicristalina AlCuFe submetida a uma carga de 50g.





Figura 5.A Fora x Profundidade da liga quasicristalina AlCuFe submetida a uma carga de 50g.





113

Figura 6.A Profundidade x Tempo para a obteno do Mdulo de Elasticidade da liga quasicristalina AlCuFe
submetida a uma carga de 50g.


Tabela 4.A Mdulo de elasticidade da liga cristalina AlCuFe submetida a uma carga de 10g.



114

Figura 7.A Fora x Profundidade da liga cristalina AlCuFe submetida a uma carga de 10g.





Figura 8.A Profundidade x Tempo para a obteno do Mdulo de Elasticidade da liga cristalina AlCuFe
submetida a uma carga de 10g.




115

Tabela 5.A Mdulo de elasticidade da liga cristalina AlCuFe submetida a uma carga de 25g.





Figura 9.A Fora x Profundidade da liga cristalina AlCuFe submetida a uma carga de 25g.

116

Figura 10.A Profundidade x Tempo para a obteno do Mdulo de Elasticidade da liga cristalina AlCuFe
submetida a uma carga de 25g.



Tabela 6.A Mdulo de elasticidade da liga cristalina AlCuFe submetida a uma carga de 50g.


117

Figura 11.A Fora x Profundidade da liga cristalina AlCuFe submetida a uma carga de 50g.




Figura 12.A Profundidade x Tempo para a obteno do Mdulo de Elasticidade da liga cristalina AlCuFe
submetida a uma carga de 50g.



118
ANEXO II




RESULTADOS DOS ENSAIOS PARA A OBTENO DO MDULO DE
ELASTICIDADE

Tabela 1.B Microdureza Vickers em uma amostra de Quasicristal com a aplicao das cargas de 50,
25 e 10g.
TESTES
CARGAS
50g 25g 10g
1 787 648 768
2 755 796 783
3 897 916 691
4 783 765 684
5 838 799 714
6 841 996 896
7 889 923 823
8 786 772 905
9 774 925 821
10 758 922 871
Mx. 897 996 905
Mn. 755 648 684
Mdia 811 846 796
Des. Padr. 52,08 106,09 81,72
Coef. Var. 6,42 12,54 10,27


Tabela 2.B Microdureza Vickers em uma amostra de Quasicristal com a aplicao da carga de 100g.
TESTES L1 L2 FISSURA HV
1 15,17 15,85 16,39 771
2 15,96 15,74 13,86 738
3 15,12 15,46 5,52 793
4 15,29 17,82 7,02 677
5 15,36 15,98 4,55 755
6 15,05 15,53 5,44 793
7 15,84 16,12 13,96 726
8 15,66 16,10 8,38 735
9 15,47 15,76 5,66 760
10 14,79 15,78 13,51 794
Mximo 794
Mnimo 677
Mdia 754
Desvio Padro 36,96
Coeficiente de Varincia 4,90



119
Tabela 3.B Microdureza Vickers em uma amostra de Cristal com a aplicao da carga de 200g.

TESTES L1 L2 FISSURA HV
1 21,91 22,50 37,73 752
2 21,97 22,70 32,36 743
3 21,24 21,85 25,77 799
4 23,18 22,89 29,90 699
5 22,55 22,56 23,44 729
6 22,51 24,14 26,73 682
7 22,40 23,03 26,26 719
8 21,56 22,69 16,87 758
9 22,34 22,89 18,55 725
10 21,75 23,12 21,90 737
Mximo 799
Mnimo 682
Mdia 734
Desvio Padro 32,44
Coeficiente de Varincia 4,42




Tabela 4.B Microdureza Vickers em uma amostra de Cristal com a aplicao das cargas de 50, 25 e
10g.
TESTES
CARGAS
50g 25g 10g
1 759 862 794
2 769 822 805
3 738 892 757
4 774 748 877
5 848 910 614
6 782 798 753
7 800 807 912
8 816 786 809
9 771 818 727
10 742 869 922
Mx. 848 910 922
Mn. 738 748 614
Mdia 780 831 797
Des. Padr. 33,68 50,77 92,73
Coef. Var. 4,32 6,11 11,64

120

Tabela 5.B Microdureza Vickers em uma amostra de Cristal com a aplicao da carga de 100g.
TESTES
L1
(m)
L2
(m)
FISSURA
(m) HV
1 15,14 17,77 9,3 685
2 14,50 16,37 5,75 778
3 14,73 16,13 3,22 779
4 14,50 16,16 23,02 789
5 14,99 15,98 6,33 773
6 13,51 15,55 1,4 878
7 15,04 16,86 3,01 729
8 14,71 17,04 4,32 736
9 14,15 17,51 2,23 740
10 15,37 16,63 16,79 724
Mximo 878
Mnimo 685
Mdia 761
Desvio Padro 52,14
Coeficiente de Varincia 6,85


Tabela 6.B Microdureza Vickers em uma amostra de Cristal com a aplicao da carga de 200g.
TESTES
L1 (m) L2 (m)
FISSURA
(m) HV
1 20,30 23,36 32,7 778
2 21,08 24,10 24,56 727
3 20,60 24,60 36,44 726
4 20,85 24,67 27,34 716
5 20,97 26,23 14,72 666
6 21,13 24,19 38,44 722
7 21,38 24,71 23,68 698
8 21,16 23,44 25,57 746
9 21,84 25,31 36,38 667
10 20,99 24,50 40,55 717
Mximo 778
Mnimo 666
Mdia 716
Desvio Padro 33,71
Coeficiente de Varincia 4,71