Anda di halaman 1dari 18

Pengerindaan, Pengamplasan dan Pemolesan

Pada proses ini dilakukan penggunaan partikel abrasif tertentu yang berperan sebagai alat pengiris
secara berulang-ulang. Partikel-partikel abrasif tersebut disatukan dalam lembar kertas yang kita kenal
sebagai kertas ampelas.
Pengamplasan adalah proses untuk mereduksi permukaan spesimen dengan pergerakan permukaan
abrasif yang bergerak kontinyu sehingga mengikis permukaan spesimen.
Dari proses pengamplasan yang didapat adalah permukaan yang relatif lebih halus atau goresan yang
seragam pada permukaan spesimen. Pengamplasan juga menghasilkan deformasi plastis lapisan
permukaan spesimen yang cukup dalam.

Proses pemolesan menggunakan lembar kain wool untuk menciptakan permukaan yang sangat halus
seperti kaca sehingga dapat memantulkan cahaya dengan baik. Pada pemolesan biasanya digunakan
pasta gigi, karena pasta gigi mengandung Zn dan Ca yang akan dapat mengasilkan permukaan yang
sangat halus. Proses untuk pemolesan hampir sama dengan pengamplasan, tetapi pada proses
pemolesan hanya menggunakan lembar abrasif yang relatif lebih halus dari pada kertas ampelas.









Jenis-jenis mikroskop
1. Mikroskop cahaya
Mikroskop cahaya atau dikenal juga dengan nama "Compound light microscope" adalah
sebuah mikroskop yang menggunakan cahaya lampu sebagai pengganti cahaya matahari
sebagaimana yang digunakan pada mikroskop konvensional. Pada mikroskop konvensional,
sumber cahaya masih berasal dari sinar matahari yang dipantulkan dengan suatu cermin datar
ataupun cekung yang terdapat dibawah kondensor. Cermin ini akan mengarahkan cahaya dari
luar kedalam kondensor.
Gambar 2.1 mikroskop cahaya


Pada mikroskop ini, kita dapat melihat bayangan benda dalam tiga dimensi lensa, yaitu lensa
obyektif, lensa okuler dan lensa kondensor.
Lensa obyektif berfungsi guna pembentukan bayangan pertama dan menentukan struktur
serta bagian renik yang akan terlihat pada bayangan akhir serta berkemampuan untuk
memperbesar bayangan obyek sehingga dapat memiliki nilai "apertura" yaitu suatu
ukuran daya pisah suatu lensa obyektif yang akan menentukan daya pisah spesimen,
sehingga mampu menunjukkan struktur renik yang berdekatan sebagai dua benda yang
terpisah.
Lensa okuler, adalah lensa mikroskop yang terdapat di bagian ujung atas tabung
berdekatan dengan mata pengamat, dan berfungsi untuk memperbesar bayangan yang
dihasilkan oleh lensa obyektif berkisar antara 4 hingga 25 kali.
gambar 2.2 lensa obtyektif dan lensa okuler

Lensa kondensor, adalah lensa yang berfungsi guna mendukung terciptanya
pencahayaan pada obyek yang akan dilihat sehingga dengan pengaturan yang tepat maka
akan diperoleh daya pisah maksimal.
Jika daya pisah kurang maksimal maka dua benda akan terlihat menjadi satu dan
pembesarannyapun akan kurang optimal.
gambar 2.3 lensa kondensor
2. Mikroskop elektron
Mikroskop elektron adalah sebuah mikroskop yang mampu untuk melakukan pembesaran objek
sampai 2 juta kali, yang menggunakan elektro statik dan elektro magnetik untuk mengontrol
pencahayaan dan tampilan gambar serta memiliki kemampuan pembesaran objek serta resolusi
yang jauh lebih bagus daripada mikroskop cahaya. Mikroskop elektron ini menggunakan jauh
lebih banyak energi dan radiasi elektromagnetik yang lebih pendek dibandingkan mikroskop
cahaya.
gambar 2.4 mikroskop electron
Jenis-jenis mikroskop elektron
1. Mikroskop transmisi elektron (TEM)
Mikroskop transmisi elektron (Transmission electron microscope-TEM)adalah sebuah
mikroskop elektron yang cara kerjanya mirip dengan cara kerja proyektor slide, di mana elektron
ditembuskan ke dalam obyek pengamatan dan pengamat mengamati hasil tembusannya pada
layar.








gambar 2.5 mikroskop transmisi elektron


Cara kerja
Mikroskop transmisi eletron saat ini telah mengalami peningkatan kinerja hingga mampu menghasilkan
resolusi hingga 0,1 nm (atau 1 angstrom) atau sama dengan pembesaran sampai satu juta kali. Meskipun
banyak bidang-bidang ilmu pengetahuan yang berkembang pesat dengan bantuan mikroskop transmisi
elektron ini.
Adanya persyaratan bahwa "obyek pengamatan harus setipis mungkin" ini kembali membuat sebagian
peneliti tidak terpuaskan, terutama yang memiliki obyek yang tidak dapat dengan serta merta dipertipis.
Karena itu pengembangan metode baru mikroskop elektron terus dilakukan.
2. Mikroskop pemindai transmisi elektron (STEM)
Mikroskop pemindai transmisi elektron (STEM)adalah merupakan salah satu tipe yang merupakan hasil
pengembangan dari mikroskop transmisi elektron (TEM).

Gambar 2.6 mikroskop pemindai transmisi electron

Pada sistem STEM ini, electron menembus spesimen namun sebagaimana halnya dengan cara kerja SEM,
optik elektron terfokus langsung pada sudut yang sempit dengan memindai obyek menggunakan pola
pemindaian dimana obyek tersebut dipindai dari satu sisi ke sisi lainnya (raster) yang menghasilkan lajur-
lajur titik (dots)yang membentuk gambar seperti yang dihasilkan oleh CRT pada televisi / monitor.
3. Mikroskop pemindai elektron (SEM)
Mikroskop pemindai elektron (SEM) yang digunakan untuk studi detil arsitektur permukaan sel
(atau struktur jasad renik lainnya), dan obyek diamati secara tiga dimensi.
.
gambar 2.7 mikroskop pemindai elektron


Cara kerja
Cara terbentuknya gambar pada SEM berbeda dengan apa yang terjadi pada mikroskop optic dan
TEM. Pada SEM, gambar dibuat berdasarkan deteksi elektron baru (elektron sekunder) atau
elektron pantul yang muncul dari permukaan sampel ketika permukaan sampel tersebut dipindai
dengan sinar elektron. Elektron sekunder atau elektron pantul yang terdeteksi selanjutnya
diperkuat sinyalnya, kemudian besar amplitudonya ditampilkan dalam gradasi gelap-terang pada
layar monitor CRT (cathode ray tube). Di layar CRT inilah gambar struktur obyek yang sudah
diperbesar bisa dilihat. Pada proses operasinya, SEM tidak memerlukan sampel yang ditipiskan,
sehingga bisa digunakan untuk melihat obyek dari sudut pandang 3 dimensi.

4. Mikroskop pemindai lingkungan elektron (ESEM)
Mikroskop ini adalah merupakan pengembangan dari SEM, yang dalam bahasa Inggrisnya disebut
Environmental SEM (ESEM) yang dikembangkan guna mengatasi obyek pengamatan yang tidak
memenuhi syarat sebagai obyek TEM maupun SEM.
Obyek yang tidak memenuhi syarat seperti ini biasanya adalah bahan alami yang ingin diamati secara
detil tanpa merusak atau menambah perlakuan yang tidak perlu terhadap obyek yang apabila
menggunakat alat SEM konvensional perlu ditambahkan beberapa trik yang memungkinkan hal tersebut
bisa terlaksana.
gambar 2.8 mikroskop pemindai lingkungan elektron



Cara kerja
Mikroskop ini adalah merupakan pengembangan dari SEM, yang dalam bahasa Inggrisnya disebut
Environmental SEM (ESEM) yang dikembangkan guna mengatasi obyek pengamatan yang tidak
memenuhi syarat sebagai obyek TEM maupun SEM.
Obyek yang tidak memenuhi syarat seperti ini biasanya adalah bahan alami yang ingin diamati secara
detil tanpa merusak atau menambah perlakuan yang tidak perlu terhadap obyek yang apabila
menggunakat alat SEM konvensional perlu ditambahkan beberapa trik yang memungkinkan hal tersebut
bisa terlaksana.
Pertama-tama dilakukan suatu upaya untuk menghilangkan penumpukan elektron (charging) di
permukaan obyek, dengan membuat suasana dalam ruang sample tidak vakum tetapi diisi dengan sedikit
gas yang akan mengantarkan muatan positif ke permukaan obyek, sehingga penumpukan elektron dapat
dihindari.
Hal ini menimbulkan masalah karena kolom tempat elektron dipercepat dan ruang filamen di mana
elektron yang dihasilkan memerlukan tingkat vakum yang tinggi. Permasalahan ini dapat diselesaikan
dengan memisahkan sistem pompa vakum ruang obyek dan ruang kolom serta filamen, dengan
menggunakan sistem pompa untuk masing-masing ruang. Di antaranya kemudian dipasang satu atau lebih
piringan logam platina yang biasa disebut (aperture) berlubang dengan diameter antara 200 hingga 500
mikrometer yang digunakan hanya untuk melewatkan elektron , sementara tingkat kevakuman yang
berbeda dari tiap ruangan tetap terjaga.
5. Mikroskop refleksi elektron (REM)
Yang dalam bahasa Inggrisnya disebut Reflection electron microscope (REM), adalah mikroskop elektron
yang memiliki cara kerja yang serupa sebagaimana halnya dengan cara kerja TEM namun sistem ini
menggunakan deteksi pantulan elektron pada permukaan objek. Tehnik ini secara khusus digunakan
dengan menggabungkannya dengan tehnik Refleksi difraksi elektron energi tinggi (Reflection High
Energy Electron Diffraction) dan tehnik Refleksi pelepasan spektrum energi tinggi (reflection high-
energy loss spectrum - RHELS).
gambar 2.9 mikroskop refleksi electron



















Langkah-langkah pemeriksaan metalografi (Pemotongan,Pengamplasan,Penggerindaan,Pemolesan,
Pengetsaan dan Pemeriksaan Mikroskop
1. Pemotongan
Pemilihan sampel yang tepat dari suatu benda uji studi mikroskop optik merupakan hal
yang sangat penting. Pemilihan sampel tersebut didasarkan pada tujuan pengamatan yang hendak
dilakukan. Pada umumnya bahan komersial tidak homogen sehingga satu sampel yang diambil
dari suatu volume besar tidak dapat dianggap representatif.Pengambilan sampel harus
direncanakan sedemikian sehingga menghasilkan sampel yang sesuai dengan kondisi rata-rata
bahan/kondisi ditempat-tempat tertentu(kritis) dengan memperhatikan kemudahan pemotongan
pula. Secara garis besar, pengambilan sampel dilakukan pada daerah yang akan diamati
mikrostruktur maupun makrostrukturnya. Sebagai contoh untuk pengamatan mikrostruktur
material yang mengalami kegagalan, maka sampel diambil sedekat mungkin pada daerah
kegagalan (pada daerah kritis dengan kondisi terparah), untuk kemudian dibandingkan dengan
sampel yang diambil dari daerah yang jauh dari daerah gagal. Perlu diperhatikan juga bahwa
dalam proses memotong, harus dicegah kemungkinan deformasi dan panas yang berlebihan.
Oleh karena itu, setiap proses pemotongan harus diberi pendinginan yang memadai.
Pada saat pemotongan jangan sampai merusak struktur bahan akibat gesekan alat potong
dengan benda uji. Untuk menghindari pemanasan setempat atau berlebihan dapat digunakan air
sebagai pendingin. Berdasarkan tingkat deformasi yang dihasilkan, teknik pemotongan terbagi
menjadi dua yaitu : teknik pemotongan dengan deformasi yang besar menggunakan gerinda,
sedangkan teknik pemotongan dengan deformasi yang kecil menggunakan low speed diamond
saw.
Teknik pemotongan sampel dapat dilakukan dengan :
a. pematahan : untuk bahan getas dank eras
b. pengguntingan : untuk baja karbon rendah yang tipis dan lunak
c. penggergajian : untuk bahan yang lebih lunak dari 350 HB
d. pemotongan abrasi
e. electric discharge machining : untuk bahan dengan konduktivitas baik di mana sampel direndam
dalam fluida dielektrik lebih dahulu sebelum dipotong dengan memasang catu listrik antara
elektroda dan sampel.
2. Penggerindaan Kasar, yaitu meratakan permukaan sampel dengan cara menggosokkan sampel
pada baru gerinda. Bertujuan untuk menghilangkan deformasi pada permukaan akibat
pemotongan dan Pemanasan yang berlebih harus dihindari. Sampel yang baru saja dipotong atau
sampel yang telah terkorosi memiliki permukaan yang kasar. Permukaan yang kasar tersebut
harus diratakan agar pengamatan struktur mudah dilakukan.


3. Mounting
Proses mounting atau pembingkaian benda uji dilakukan pada benda uji dengan ukuran yang
kecil dan tipis, hal ini bertujuan untuk mempermudah pemegangan benda uji ketika dilakukan
tahap preparasi selanjutnya seperti pengampelasan dan polishing. Benda uji ini di-mounting
dengan alat
mounting press dengan penambahan bakelit yang akan menggumpal dan
membingkai benda uji. Selain bakelit juga masih banyak bahan yang dapat
digunakan untuk mounting.
Cetakannya :
1.Berbentuk bulat
2. Ukuran 1 inchi 1 inchi
Macam-macamnya :
1.Cairanbasa( degesing) untuk menghilangkan garis.
2.Panas(Lemakdengan menggunakan uap gas )
3. Dengan menggunakan asam lemah.
4. Alkohol yang tidak bereaksi dengan udara.
5. Aseton.

Metode - metode pembingkaian( Mounting )
a. Adhesive mounting
Adalah mounting yang menggunakan gaya adhesive material


Gambar 2.10 adhesive mounting
b. Clamp
Sampelnya misalnya berupa lembaran-lembaran tipis dengan ketebalan 1 mm, terdapat 10
sampel dibariskan sejajar dan di sisi muka dan belakang diberi logam lain yang berbeda
(ukurannya harus lebih besar dari sampel) kemudian dibuat dua buah lubang yang tembus hingga
ke belakang. Dan dipermukaannya masing-masing diberi identitas. Kelebihan dari jenis bahan
mounting ini yaitu prosesnya sangat cepat, ukuran fleksibel dan dapat dipakai ulang clampnya.

Gambar 2.11 gambar clamp mounting

c . plastic mounting



Adapun jenis-jenis bahan untuk mounting
1. Castable mounting, jenis bahan mounting dimana bahan serbuk diberi pelarut dan serbuk itu
diletakkan dalam satu tempat dengan dengan spesimen, kemudian dibalik dan bagian permukaan
atasnya datar. Contoh serbuknya adalah polister, epoxies (transparan) atau acrylics.
Kelebihannya adalah spesimen dengan ukuran besar / kecil dapat dimounting, cetakannya bias
digunakan berulang-ulang.
2. Compression mold dimana ukuran diameter tetap, jika berubah maka mesin harus diganti. Jenis
material yang digunakan thermosetting dan thermoplastic.
3.
4. Penggerindaaan halus( Pengamplasan)
Untuk meratakan permukaan spesimen hasil dari penggerindaan kasar sebelum spesimen
dipoles, dilakukan penggerindaan halus atau juga disebut pengamplasan.. Seperti pada
penggerindaan kasar, juga harus selalu dialiri air pendingin, agar specimen tidak rusak atau
terganggu oleh pemanasan yang terjadi.
Pengamplasan adalah proses untuk mereduksi suatu permukaan dengan pergerakan permukaan
abrasif yang bergerak relatif lambat sehingga panas yang dihasilkan tidak terlalu signifikan.
Pengamplasan bertujuan untuk meratakan dan menghaluskan permukaan sampel yang akan diamati.
Pengamplasan ini dilakukan secara berurutan yaitu dengan memakai amplas kasar hingga amplas halus.
Pengamplasan kasar adalah pengamplasan yang dilakukan dengan menggunakan amplas dengan nomor di
bawah 180 #, dan masih menyisahkan permukaan benda kerja yg belum halus.
Pengamplasan halus adalah pengamplasan yang dilakukan dengan menggunakan amplas dengan nomor
lebih tinggi dari 180 #, dam menghasilkan permukaan yang halus.
Pengamplasan dimulai dengan meletakkan sampel pada kertas amplas dengan permukaan yang
akan diamati bersentuhan langsung dengan bagian kertas amplas yang kasar, kemudian sampel
ditekan dengan gerakan searah.Selama pengamplasan terjadi gesekan antara permukaan sampel
dan kertas amplas yang memungkinkan terjadinya kenaikan suhu yang dapat mempengaruhi
mikrostruktur sampel sehingga diperlukan pendinginan dengan cara mengaliri air.Apabila ingin
mengganti arah pengamplasan, sampel diusahakan berada pada kedudukan tegak lurus terhadap
arah mula-mula.Pengamplasan selesai apabila tidak teramati lagi adanya goresan-goresan pada
permukaan sampel, selanjutnya sampel siap dipoles.


5. Pemolesan

Pemolesan adalah proses yang dilakukan untuk menghilangkan bagian-bagian yang
terdeformasi karena perlakuan sebelumnya dan Pemolesan bertujuan untuk lebih menghaluskan
dan melicinkan permukaan sampel yang akan diamati setelah pengamplasan.
pemolesan dibagi dua yaitu pemolesan kasar dan halus. Pemolesan kasar menggunakan abrasive
dalam range sekitar 30 - 3m, sedangkan pemolesan halus menggunakan abrasive sekitar 1m
atau di bawahnya.

Pemolesan terbagi dalam tiga cara, yaitu:
1. Mechanical polishing
Proses polishing biasanya multistage karena pada tahapan awal dimulai dengan penggosokan
kasar (rough abrasive) dan tahapan berikutnya menggunakan penggosokan halus (finer abrasive)
sampai hasil akhir yang diinginkan. Mesin poles metalografi terdiri dari piringan berputar dan
diatasnya diberi kain poles terbaik yaitu kain selvyt (sejenis kain beludru). Cara pemolesannya
yaitu benda uji diletakkan diatas piringan yang berputar dan kain poles diberi air serta
ditambahkan sedikit pasta poles. Pasta poles yang biasa dipakai adalah jenis alumina (Al
2
O
3
) dan
pasta intan (diamond).

2. Chemical-mecanical polishing
Merupakan kombinasi antara etsa kimia dan pemolesan mekanis yang dilakukan serentak di
atas piringan halus. Partikel pemoles abrasif dicampur dengan larutan pengetsa yang umum
digunakan untuk melihat struktur spesimen yang dipreparasi. Metode ini akan memberikan hasil
yang baik jika larutan etsa yang diberikan sedikit tetapi pada dasarnya bebas dari logam pengotor
akibat dari abrasif.


3. Electropolishing
Electropolishing disebut juga electrolytic polishing yang banyak digunakan oleh stainless steel,
tembaga paduan, zirconium, dan logam lainnya yang sulit untuk dipoles dengan metode
mechanical. Metode electropolishing dapat menghilangkan bekas cutting, grinding dan proses
mechanical polishing yang digunakan dalam preparasi spesimen. Ketika electropolishing
digunakan dalam metalografi, biasanya diawali dengan mechanical polishing dan diikuti oleh
etching. Mekanismenya yaitu menggunakan sistem elektrolisis yang terdiri dari anoda (+) dan
katoda (-). Spesimen yang dimasukan ke dalam larutan elektrolit asam berada di anoda
sedangkan yang berada di katoda adalah logam yang harus lebih mulia dari spesimenya dan
harus tahan terhadap larutan elektrolitnya serta tidak boleh larut. Ketika proses, spesimen yang di
anoda akan larut karena teroksidasi. Dalam proses ini diberi pengaduk agar logam yang terkikis
meyebar merata.










Tentang Grinding dan Polishing

Preparasi mekanikal
Preparasi mekanikal adalah metode umum untuk preparasi sample
materialografi untuk pengujian dibawah mikroskop. Partikel abrasive digunakan
untuk tahap yang lebih hasil untuk menghilangkan material dari permukaan
sehingga mendapatkan hasil yang diharapkan.

Sebagaimana dijelaskan dalam Filosofi Preparasi Struers, samples dapat
dipersiapkan menjadi perfect finish, true structure, atau preparasi dapat
dihentikan bila permukaan telah mencapai hasil yang dapat diterima untuk
pengujian tertentu.

Merupakan analisa atau pengujian khusus yang membutuhkan kondisi khusus
dari permukaan yang dipreparasi. Tidak peduli apa yang ingin kita capai,
preparasi harus dilakukan secara sistematis dan dengan cara yang dapat diulangi
lagi untuk mendapatkan hasil yang optimal dengan biaya yang terendah.




Definisi Proses
Preparasi mekanikal terbagi dalam dua operasi: grinding dan polishing. Untuk detilnya tentang
penjelasan teoritis mengenai kedua proses tersebut, lihat di Metalog Master.

Sejumlah mesin untuk grinding dan polishing tersedia, memenuhi semua kebutuhan kapasitas, kualitas
preparasi dan reproduktifitas.

Metode dalam Metalog Guide telah dikembangkan sehubungan dengan peralatan otomatis karena
pengalaman menunjukkan bahwa reproduktifitas dan kualitas preparasi bisa didapatkan dengan
otomatisati. Sebagai tambahan, otomatisasi adalah penghemat uang karena pengontrolan pemakaian
konnsumabel. Kombinasi peralatan dan konsumable Struers untuk preparasi mekanikal merupakan
jaminan terbaik untuk mendapatkan sample kualitas tingggi dengan biaya terendah per sample.

Grinding

Tahap pertama dalam removal material mekanikal disebut grinding. Grinding yang benar
menghilangkan kerusakan atau permukaan material yang ada deformasi, dan
menghasilkan sedikit deformasi baru. Sasarannya adalah plane surface dengan kerusakan
minimal yang dapat dihilangkan dengan mudah selama polishing dalam waktu yang
sesingkat-singkatnya. Grinding dapat dibagi menjadi dua proses individual.
1. Plane Grinding, PG
2. Fine Grinding, FG

MD-System grinding discs baru dari Struers membuat kemungkinan untuk mengurangi
proses grinding tertentu yang menggunakan SiC-Paper menjadi hanya dua tahap,
mengurangi waktu preparasi keseluruhan. Juga, kualitas preparasi sangat meningkat
dibandingkan dengan SiC-Paper. Oleh karena itu, grinding discs baru dalam MD-System
adalah superior dibandingkan dengan baik harga maupun hasil.



Tahap grinding pertama biasaya disebut sebagai Plane Grinding, PG.Plane grinding
menjamin bahwa permukaan semua specimens adalah mirip, walauplun kondisi inisial
mereka dan treatment sebelumnya. Sebagai tambahan, ketika beberapa specimens pada
suatu holder diproses mereka semua harus pada level yang sama, atau rata, untuk
preparasi berikutnya.

Untuk tahap grinding pertama ini, MD-Piano atau MD-Primo digunakan.. MD-Piano
merupakan diamond disc, dirancang dan dikembangkan untuk material plane grinding
dalam kekerasan HV 150-2000. Diamond digunakan sebagai abrasive dengan MD-Piano,
dimana menjamin high removal rate dan waktu grinding yang pendek. MD-Primo adalah
SiC disc yang dikembangkan untuk plane grinding untuk material lunak dengan kekerasan
HV 40-150. Untuk MD-Piano, suatu material removal tinggi dan konstan didapatkan dalam
waktu yang pendek. Discs yang bersangkutan memberikan aksi pemotongan baik untuk
material keras dan lunak atau fasa. Oleh karena itu, spesimen yang rata tanpa adanya relief
diantara fasa yang berbeda akan didapat. Edge rounding pada interface antara resin dan
sample dapat dihilangkan.



Fine grinding menghasilkan suatu permukaan dengan deformasi yang sedikit yang dapat
dihilangkan selama proses polishing. Karena kekurangan pada grinding papers, dan untuk
peningkatan, serta fasilitasi fine grinding, Struers mengembangakn alternative permukaan
fine grinding.

MD-Largo dan MD-Allegro merupakan dua jenis disc komposit untuk fine grinding.
Diamond suspension atau spray diberikan dalam interval regular selama preparasi.
Konsekwensinya, suatu material removal rate konstan akan didapat.

Dengan MD-Piano dan MD-Primo, area aplikasi tergantung pada kekerasan material yang
akan dipreparasi. MD-Largo dirancang untuk material lunak dengan kekerasan HV 40-150,
atau untuk komposit dengan matrix lunak. MD-Allegro digunakan untuk material dengan
kekerasan yang lebih besar daripada HV 150.

Biasanya fine grinding dilakukan dalam tahap yang lebih halus pada SiC-Paper. Dengan
MD-Largo atau MD-Allegro tahap ini dikombinasikan dalam tahap tunggal. Diamond grain
sizes tertentu dari 15-6 microns digunakan. Hasil akhirnya adalah sempurna untuk tahap
berturut-turut baik 6 atau 3 microns.

Pemakaian abrasive diamond pada fine grinding discs menjamin removal yang seragam
dari baik fasa keras maupun lunak. Tidak ada pengerutan fasa lunak atau chipping pada
fasa rapuh, dan spesimen akan dalam keadaan rata sempurna. Tahap polishing berikut ini
dapat dilakukan dalam waktu yang sesingkat mungkin.


Polishing

Seperti grinding, polishing harus menghilangkan kerusakan ditimbulkan dari tahap
sebelumnya. Hal ini dicapai dengan tahap partikel abrasif yang lebih halus berikutnya.
Polishing dapat dibagi menjadi dua proses yang berbeda yaitu:
1. Diamond Polishing, DP
2. Oxide Polishing, OP



Diamond digunakan sebagai abrasive untuk penyempurnaan removal material tercepat
dan kerataan terbaik yang dimungkinkann. Tidak ada abrasive lainnya yang tersedia yang
dapat menghasilkan hasil yang sama. Karena kekerasannya, diamond memotong dengan
baik pada semua jenis material dan fasa.



Material tertentu, khususnya yang lunak dan getas, membutuhkan poles akhir untuk
kualitas optimum. Disini, oxide polishing digunakan. Colloidal silica, dengan grain size kira-
kira 0.04mm dan dengan pH kira-kira 9.8, telah menunjukkan hasil yang memuaskan.
Kombinasi dari aktifitas kimia dan fine abrasive menghasilkan spesimen tanpa adanya
goresan dan deformasi. OP-U adalah all-round polishing suspension yang memberikan hasil
yang sempurna untuk semua jenis material. OP-S digunakan bersamaan dengan reagents
yang meningkatkan reaksi kimia sehingga OP-S cocok untuk material yang sangat getas.
Suatu acidic alumina suspensions, OP-A, digunakan untuk final polishing atas low dan high
alloy steels, nickelbase alloys dan keramik.


Konsumabel
Polishing dilakukan pada kain polishing (lihat Polishing Surfaces Chart untuk gambaran
menyeluruh). Untuk diamond polishing, lubricant harus digunakan. Pilihan kain, diamond
grain size dan lubricant tergantung pada material yang akan dipoles. Tahap pertama
biasanya dilakukan pada kain dengan kekenyalan rendah dan, untuk material lunak,
dengan lubricant viskositas rendah. Untuk final polishing, kain dengan kekenyalan yang
lebih tinggi dan lubricant dengan viskositas tinggi digunakan.Dalam sepuluh metode
preparasi kain yang paling tepat untuk material khusus disarankan.

























Sekilas tentang mikroskop

Berbicara tentang teknologi nano, maka tidak akan bisa lepas dari mikroskop,yaitu alat pembesar untuk
melihat struktur benda kecil tersebut. (Teknologi nano:teknologi yang berbasis pada struktur benda
berukuran nano meter.
Satu nano meter = sepermilyar meter
).Tentu yang dimaksud di sini bukanlah mikroskop biasa, tetapimikroskop yang mempunyai tingkat
ketelitian (resolusi) tinggi untuk melihat struktur berukuran nano meter.Kata mikroskop (microscope)
berasal dari bahasa Yunani, yaitu kata
micron=kecil
dan
scopos=tujuan
, yang maksudnya adalah alat yang digunakan untuk melihat obyek yang terlalu kecil untuk dilihat oleh
mata telanjang. Dalam sejarah,yang dikenal sebagai pembuat mikroskop pertama kali adalah 2 ilmuwan
Jerman,yaitu
Hans Janssen
dan
Zacharias Janssen
(ayah-anak) pada tahun 1590. Temuanmikroskop saat itu mendorong ilmuan lain, seperti
Galileo Galilei
(
I
talia), untuk membuat alat yang sama. Galileo menyelesaikan pembuatan mikroskop pada tahun1609,
dan mikroskop yang dibuatnya dikenal dengan nama mikroskopGalileo.Mikroskop jenis ini
menggunakan lensa optik, sehingga disebut mikroskopoptik. Mikroskop yang dirakit dari lensa optic
memiliki kemampuan terbatas dalammemperbesar ukuran obyek. Hal ini disebabkan oleh limit difraksi
cahaya yangditentukan oleh panjang gelombang cahaya. Secara teoritis, panjang gelombangcahaya ini
hanya sampai sekitar 200 nanometer. Untuk itu, mikroskop berbasis lensaoptik ini tidak bisa mengamati
ukuran di bawah 200 nanometer.Untuk melihat benda berukuran di bawah 200 nanometer,
diperlukanmikroskop dengan panjang gelombang pendek. Dari ide inilah, di tahun 1932 lahir mikroskop
elektron. Sebagaimana namanya, mikroskop elektron menggunakan sinar elektron yang panjang
gelombangnya lebih pendek dari cahaya. Karena itu,mikroskop elektron mempunyai kemampuan
pembesaran obyek (resolusi) yang lebihtinggi dibanding mikroskop optik. Sebenarnya, dalam fungsi
pembesaran obyek,mikroskop elektron juga menggunakan lensa, namun bukan berasal dari jenis
gelassebagaimana pada mikroskop optik, tetapi dari jenis magnet. Sifat medan magnet ini bisa
mengontrol dan mempengaruhi elektron yang melaluinya, sehingga bisaberfungsi menggantikan sifat
lensa pada mikroskop optik. Kekhususan lain darimikroskop elektron ini adalah pengamatan obyek
dalam kondisi hampa udara(vacuum). Hal ini dilakukan karena sinar elektron akan terhambat alirannya
bilamenumbuk molekul-molekul yang ada di udara normal. Dengan membuat ruangpengamatan obyek
berkondisi vacuum, tumbukan elektron-molekul bisa terhindarkan.Ada 2 jenis mikroskop elektron yang
biasa digunakan, yaitu
tunneling electron microscopy
(TEM) dan
scanning electron microscopy
(SEM). TEMdikembangkan pertama kali oleh
Ernst Ruska
dan
Max Knoll
, 2 peneliti dari Jermanpada tahun 1932. Saat itu,
Ernst Ruska
masih sebagai seorang mahasiswa doktor dan
Max Knoll
adalah dosen pembimbingnya. Karena hasil penemuan yang mengejutkandunia tersebut,
Ernst Ruska
mendapat penghargaan Nobel Fisika pada tahun 1986.Sebagaimana namanya, TEM bekerja dengan
prinsip menembakkan elektron kelapisan tipis sampel, yang selanjutnya informasi tentang komposisi
struktur dalamsample tersebut dapat terdeteksi dari analisis sifat tumbukan, pantulan maupun fasesinar
elektron yang menembus lapisan tipis tersebut. Dari sifat pantulan sinar elektrontersebut juga bisa
diketahui struktur kristal maupun arah dari struktur kristal tersebut.Bahkan dari analisa lebih detail, bisa
diketahui deretan struktur atom dan adatidaknya cacat (
defect
) pada struktur tersebut. Hanya perlu diketahui, untuk observasiTEM ini, sample perlu ditipiskan sampai
ketebalan lebih tipis dari 100 nanometer.Dan ini bukanlah pekerjaan yang mudah, perlu keahlian dan
alat secara khusus.Obyek yang tidak bisa ditipiskan sampai order tersebut sulit diproses oleh TEM
ini.Dalam pembuatan divais elektronika, TEM sering digunakan untuk mengamatipenampang/irisan
divais, berikut sifat kristal yang ada pada divais tersebut. Dalamkondisi lain, TEM juga digunakan untuk
mengamati irisan permukaan dari sebuahdivais.Tidak jauh dari lahirnya TEM, SEM dikembangkan
pertama kali tahun 1938oleh
Manfred von Ardenne
(ilmuwan Jerman). Konsep dasar dari SEM ini sebenarnya

disampaikan oleh
Max Knoll
(penemu TEM) pada tahun 1935. SEM bekerjaberdasarkan prinsip scan sinar elektron pada permukaan
sampel, yang selanjutnyainformasi yang didapatkan diubah menjadi gambar.
I
majinasi mudahnya gambar yangdidapat mirip sebagaimana gambar pada televisi.Cara terbentuknya
gambar pada SEM berbeda dengan apa yang terjadi padamikroskop optic dan TEM. Pada SEM, gambar
dibuat berdasarkan deteksi elektronbaru (elektron sekunder) atau elektron pantul yang muncul dari
permukaan sampelketika permukaan sampel tersebut discan dengan sinar elektron. Elektron sekunder
atau elektron pantul yang terdeteksi selanjutnya diperkuat sinyalnya, kemudian besar amplitudonya
ditampilkan dalam gradasi gelap-terang pada layar monitor CRT(
cathode ray tube
). Di layar CRT inilah gambar struktur obyek yang sudah diperbesar bisa dilihat. Pada proses operasinya,
SEM tidak memerlukan sampel yang ditipiskan,sehingga bisa digunakan untuk melihat obyek dari sudut
pandang 3 dimensi.Demikian, SEM mempunyai resolusi tinggi dan familiar untuk mengamatiobyek
benda berukuran nano meter. Meskipun demikian, resolusi tinggi tersebutdidapatkan untuk scan dalam
arah horizontal, sedangkan scan secara vertikal (tinggirendahnya struktur) resolusinya rendah.
I
ni merupakan kelemahan SEM yang belumdiketahui pemecahannya. Namun demikian, sejak sekitar
tahun 1970-an, telahdikembangkan mikroskop baru yang mempunyai resolusi tinggi baik
secarahorizontal maupun secara vertikal, yang dikenal dengan "
scanning probe microscopy
(SPM)". SPM mempunyai prinsip kerja yang berbeda dari SEM maupun TEM danmerupakan generasi
baru dari tipe mikroskop scan. Mikroskop yang sekarang dikenalmempunyai tipe ini adalah
scanning tunneling microscope
(STM),
atomic forcemicroscope
(AFM) dan
scanning near-field optical microscope
(SNOM). Mikroskoptipe ini banyak digunakan dalam riset teknologi nano.

Anda mungkin juga menyukai