DIRIGIDO A: Licenciados en Qumica o Fsica, Ingenieros en Materiales, Electrnicos o Qumicos, Magisters en Materiales. PROGRAMA: 1- Conceptos fund!ent"es de defectos en se!#conducto$es Introduccin. La semiconduccin y las redes atmicas del silicio y del germanio: algunos elementos de la cristalografa, la red c!"ica diamante # la unin co$alente, la semiconduccin # el modelo de "andas. Los defectos puntuales en el cristal: $acancias e intersticiales. La concentracin de e%uili"rio de defectos &untuales. %& D#s"occ#ones o defectos "#ne"es Tipos de dislocaciones: consideraciones generales so"re el conce&to de dislocacin, el $ector de 'urgu(s, dislocaciones de "orde, mo$imiento de las dislocaciones de "orde, dislocaciones de )(lice, otros ti&os dislocaciones. El movimiento y la generacin la interaccin de dislocaciones , formacin de *+ogs,, fuentes de dislocaciones, dislocaciones &arciales, dislocaciones de )(lice # su formacin. La geometra de las dislocaciones en la estructura de diamante: la estructura de las dislocaciones sim&les, la estructura de otros ti&os de dislocaciones, el arreglo atmico de las dislocaciones &arciales # las fallas de a&ilamiento. '& L detecc#(n de "s d#s"occ#ones La difraccin de rayos X y las imperfecciones cristalinas: introduccin a la teora elemental, el ensanc)amiento de las lneas de ra#os - # la calidad cristalina, la densidad de dislocaciones a &artir de los datos de difraccin de ra#os -, la calidad cristalina a tra$(s de la t(cnica de Laue # de otras t(cnicas de ra#os -. La deteccin de dislocaciones a travs de la microscopa y otras tcnicas: el microsco&io de ra#os -, m(todos de decoracin # microsco&as electrnicas de transmisin # de "arrido, otras t(cnicas &ara o"ser$ar dislocaciones. )& L defo$!c#(n p"*st#c + e" !c"do Deformacin y comportamiento de dislocaciones: o"ser$aciones generales del mecanismo de desli.amiento, la relacin fuer.a/tensin, el do"lado &l0stico # la distri"ucin de dislocaciones, otras formas de deformacin, algunas teoras so"re el com&ortamiento &l0stico de los cristales semiconductores, endurecimiento &or tra"a+ado. Maclado en germanio y silicio: conce&tos "0sicos # o"ser$aciones e1&erimentales, deformacin # maclado mec0nico, inter&retacin de los mecanismos de maclado. ,& E" c$ec#!#ento de !onoc$#st"es 2(cnicas de crecimiento de monocristales # calidad cristalina: el mtodo de !oc"rals#i$ condiciones fsicas y procedimientos de crecimiento$ condiciones de crecimiento "ori!ontal por fusin !onal$ crecimiento vertical por !ona flotante$ la esta%ilidad de la !ona l&uida$ crecimiento epita'ial$ otros mtodos de crecimiento cristalino. La distri"ucin de la tem&eratura como &ar0metro de crecimiento de los monocristales: condiciones trmicas durante el crecimiento cristalino$ la interfa! l&uido(slido$ varia%les e'ternas &ue afectan el crecimiento. La tensin t(rmica en el crecimiento cristalino: distri%ucin de las figuras de corrosin$ tensiones trmicas y la deformacin pl)stica del cristal$ deformaciones trmicas y patrones de figuras de corrosin$ dislocaciones activas$ cristales li%res de dislocaciones. 2eoras del crecimiento cristalino a&licadas a los semiconductores: la superficie de crecimiento con escalones$ terra!as espiraladas$ crecimiento cristalino desde la fusin cristali!acin de la superficie diamante. -& L d#st$#.uc#(n + e" cont$o" de "s #!pu$e/s Enfriamiento # distri"ucin del soluto: algunas consideraciones tericas, so"reenfriamiento constitucional en la fusin, el origen de las im&ure.as en estras. 2(cnicas de .ona l%uida # la distri"ucin de im&ure.as: m(todos de refinacin .onal, distri"ucin de soluto de acuerdo con la teora, la distri"ucin final de soluto, distri"ucin uniforme &or e%uili"rio de .ona, otros m(todos &ara el do&ado uniforme de cristales. 0& Co!po$t!#ento 1u2!#co + f2s#co de "s #!pu$e/s M(todos de determinacin de im&ure.as en semiconductores: el an0lisis es&ectrogr0fico, el es&ectrmetro de masa, an0lisis &or radioacti$acin, determinacin &or ra#os - de los &ar0metros de red # medidas de densidad, mediciones el(ctricas. La solu"ilidad de las im&ure.as acti$as en germanio # en silicio: la naturale.a atmica, el coeficiente de distri"ucin 3, la solu"ilidad slida # la retrosolu"ilidad, la determinacin de los datos de solu"ilidad, e1&resiones tericas de los coeficientes de distri"ucin, la interaccin de los defectos # la le# de accin de masas, el efecto de los &ares inicos so"re la solu"ilidad slida. Difusin de im&ure.as %umicas: las le#es fundamentales de difusin, el mecanismo de difusin su"stitucional, otros factores %ue afectan la difusin, la difusin de co"re en germanio # en silicio. La &reci&itacin de las im&ure.as: la cin(tica de la &reci&itacin de co"re en germanio, dislocaciones # otros n!cleos de &reci&itacin, la &reci&itacin de litio en silicio # en germanio. Los ace&tores t(rmicos # el com&ortamiento el(ctrico del o1geno en silicio, los &ar0metros de crecimiento cristalino # la distri"ucin de o1geno en solicio, consideraciones tericas del tratamiento t(rmico, o1geno en germanio. 3& Defectos en $e"c#(n con "s p$op#eddes se!#conducto$s La influencia de las dislocaciones so"re las &ro&iedades el(ctricas: cam"ios en la resisti$idad &roducidos &or la deformacin &l0stica, dis&ersin de los &ortadores de carga &or las dislocaciones, tiem&o de $ida # recom"inacin de los &ortadores en las dislocaciones, recom"inacin en "ordes de grano de "a+o 0ngulo. Da4o &or radiacin en el com&ortamiento de los semiconductores: consideraciones generales so"re la irradiacin de los materiales, naturale.a del da4o en la red cristalina, la energa )um"ral &ara el des&la.amiento atmico, $ariaciones de la conducti$idad # de los ni$eles de energa o"ser$ados, $ariacin de la mo$ilidad 5all, ni$eles en los es&ectros de energa &roducidos &or la irradiacin, inter&retaciones en t(rmicos de modelos tericos. omportamiento del germanio y silicio irradiados frente al recocido: o"ser$aciones so"re los tratamientos t(rmicos, e1&licaciones tericas de los &rocesos de recu&eracin. 4& At1ue 1u2!#co + fo$!c#(n de f#5u$s de co$$os#(n La &umica del ata&ue: &re&aracin de la su&erficie, reacciones %umicas en el &roceso de ata%ue, factores %ue controlan la $elocidad de ata%ue. aractersticas fsicas de las figuras de ata&ue: figuras de ata%ue # direcciones de las dislocaciones, descri&cin de las figuras de ata%ue en es&iral. orrespondencia entre figuras de ata&ue y dislocaciones: el lmite de las dislocaciones, la decoracin # otras t(cnicas &ara re$elar dislocaciones, e$idencia de las figuras de ata%ue como fenmenos reales. onsideraciones tericas del mecanismo de ata&ue: disolucin de la su&erficie # nucleacin de ata%ue, im&ure.as de los reacti$os de ata%ue, origen de la estructura en terra.as de las figuras de ata%ue, el efecto so"re el ata%ue de las im&ure.as del cristal. *rigen de las figuras de corrosin en espirales: dislocaciones de )(lice # la estructura en es&irales, otras &osi"les fuentes de es&irales.
M6TODO DE E7ALUACI89: E1amen final escrito. CARGA :ORARIA TOTAL: 67 )oras :ORARIO: de 89 a 8: )oras los das: 8; al 8<= >> al >? # >< # 67 de setiem"re del >776.