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El documento trata sobre los diferentes mecanismos y aplicaciones de la difusión. Explica que existen dos mecanismos principales de difusión: la difusión por vacancias o sustitucional y la difusión intersticial. También describe que la energía de activación para la difusión intersticial es menor debido a que no se requieren vacancias, permitiendo una difusión más rápida a través de los sitios intersticiales. Además, analiza ejemplos de aplicaciones de la difusión como el cementado de aceros y el uso de pl
El documento trata sobre los diferentes mecanismos y aplicaciones de la difusión. Explica que existen dos mecanismos principales de difusión: la difusión por vacancias o sustitucional y la difusión intersticial. También describe que la energía de activación para la difusión intersticial es menor debido a que no se requieren vacancias, permitiendo una difusión más rápida a través de los sitios intersticiales. Además, analiza ejemplos de aplicaciones de la difusión como el cementado de aceros y el uso de pl
El documento trata sobre los diferentes mecanismos y aplicaciones de la difusión. Explica que existen dos mecanismos principales de difusión: la difusión por vacancias o sustitucional y la difusión intersticial. También describe que la energía de activación para la difusión intersticial es menor debido a que no se requieren vacancias, permitiendo una difusión más rápida a través de los sitios intersticiales. Además, analiza ejemplos de aplicaciones de la difusión como el cementado de aceros y el uso de pl
La fuerza impulsadora de la difusin, es causado por gradiente de temperatura y de concentracin de cualquier especie como iones, tomos, electrones, vacancias y molculas de un material. 5.2. En el tratamiento de cementacin para aceros Cuales son las especies que se difunden? Tratamiento trmico para endurecer la superfcie de aceros mediante una fuente gaseosa o solida de carbono. El carbono que se difunde acia la superfcie la ace ms dura y ms resistente a la abrasin. 5.3. or qu! se usa plstico E" para fa#ricar #otellas para #e#idas car#onatadas? !na de las principales razones es para minimizarse la difusin del di"ido de carbono y se usa tereftalato de polietileno #o plstico $ET% para fabricar botellas que aseguren que las bebidas carbonatadas que contienen no pierdan su presin durante un tiempo razonable. 5.$. %u! es &al'anizado por inmersin en caliente? Cules son las aplicaciones de este proceso? $roceso en que se aplica un recubrimiento de zinc, sumergido las partes en un ba&o de zinc fundido. El proceso se usa principalmente para estructuras de acero, casis de automviles y otros componentes, para protegerlos contra la corrosin. 5.5. or qu! el aluminio que se o(ida con ma)or facilidad que el *ierro+ se considera normalmente que no se ,o(ida-? En realidad el aluminio se o"ida con mayor facilidad que el ierro. $orque el o"ido de aluminio forma una capa muy protectora, pero delgada sobre la superfcie del aluminio, impidiendo la difusin del o"igeno e inibiendo la posterior o"idacin del aluminio en el interior. La capa del o"ido no tiene color, es delgada y es invisible por lo cual se cree que el aluminio no se o"ida. 5... %u! es electroforesis? Cul es la fuerza impulsora de este fenmeno? Cules son sus aplicaciones? La electroforesis es el movimiento de part'culas fnas o de molculas grandes y su fuerza impulsadora de este fenmeno es el campo elctrico y sus aplicaciones se realizan en pintura para los automviles, tambin para comprender la qu'mica superfcial de los cermicos y en ciertas aplicaciones de bioingenier'a para separar molculas de ()* 5./. %u! es un recu#rimiento de #arrera t!rmica? Donde se usan estos recu#rimientos? Es una deposicin f'sica de vapor con az de electrones+ T,- que protegen a la aleacin contra las altas temperaturas. Estos recubrimientos de barrera trmica se usan en los motores de avin, y algunos alabes de turbina 5.0. Cul es la diferencia entre difusin ) el arrastre de portadores de car&a en un semiconductor? Cul es la fuerza impulsadora de cada fenmeno? En la difusin el movimiento es de peque&as part'culas como consecuencia de fuerzas distintas del gradiente de concentracin y su fuerza impulsadora es la temperatura. En el arrastre la fuerza impulsadora, se da como gradientes de densidad y su fuerza impulsadora es el campo elctrico o campo magntico. 5.1. "race un esquema que muestre en qu! direccin se difunden ) arrastran los electrones ) los *uecos cuando se unen los semiconductores tipo p ) tipo n. Esta#ilidad de tomos e iones 5.12. or qu! &an 3'ante Arr*enius el remio 4o#el? .vante (rrenius gan el premio nobel por sus investigaciones en la teor'a electrol'tica de la disociacin, en la que ab'a aplicado esta idea a las velocidades de reacciones qu'micas en soluciones acuosas. 5.11. Escri#a la ecuacin de Arr*enius ) e(plique sus distintos t!rminos ./ Es una constante ./ Es la constante de los gases ./ Es la temperatura absoluta ./ Es la energ'a de activacin 5.12. 3e o#ser'a que los tomos se mue'en desde una posicin en la red a otra+ con una frecuencia de a cuando la ener&5a de acti'acin para su mo'imiento es de 32222 Calcule la frecuencia de saltos a . DA"63 DE"E7894A7 A4A:9393 0emplazar la en la ecuacin 5.13. :a cantidad de 'acancias en un material se relaciona con la temperatura a tra'!s de una ecuacin de Arr*enius. 3i la fraccin de puntos de red que contienen 'acancias es a + determine esa fraccin de puntos de red a . DA"63 DE"E7894A7 5.1$. :a ecuacin de Arr*enius se uso en forma ori&inal para comparar 'elocidades de reacciones qu5micas. Compare las 'elocidades de una reaccin qu5mica a ) a + calculando la relacin de esas 'elocidades. 3upon&a que la ener&5a de acti'acin para los l5quidos con que se *ace la reaccin qu5mica es + ) que la reaccin es limitada por difusin. DA"63 DE"E7894A7 1,1234 8ecanismos de la Difusin 5.15. Cules son los distintos mecanismos de la difusin? 5ay dos mecanismos importantes por los que se pueden difundir los tomos o los iones y son difusin de vacancia o de tomo sustitucional y difusin intersticial. 5.1.. or qu! la ener&5a de acti'acin para la difusin a tra'!s del mecanismo intersticial es menor que para otros mecanismos? En este mecanismo no se requieren vacancias porque ay mucos sitios intersticiales que vacancias, en la cual la difusin sucede con ms facilidad ya que son relativamente ms peque&os se pueden difundir con mayor rapidez. 5.1/. Cmo se 'eri;ca en forma e(perimental la autodifusin de tomos en metales? .e puede detectar por los trazadores radioactivos debido a que el movimiento es aleatorio dentro de un material esencialmente puro. 5.10. E(amine la ;&ura 5<11. Con #ase en ella+ se puede decir que la difusin de =+ + As ) 3# siempre es ma)or que la autodifusin de 3i. %u! indica eso acerca de los mecanismos posi#les de difusin de estos elementos? 6ue la fgura 7/83 muestra que la autodifusin de .i es igual a la necesaria para crear una vacancia y causar el movimiento del tomo, debido a que la activacin de energ'a es e"cepcionalmente alta, de acuerdo con la alta resistencia de su enlace atmico. 9ientras que en la difusin de los otros elementos la energ'a de activacin es ba:a indica que la difusin es ms fcil.