TIPOS DE FIBRAS
1) Fibra de Vidrio
La mayora de los vidrios transparentes opticos con el cual estan fbricadas las
fibras estan compuestos por los oxidos de vidrio. El mas popular es la slica
(SiO2). Un vidrio compuesto de silica pura conocido como vidrio de slice,
slice vitrea. El vidrio es fabricado por la fusin o mixtura de xidos de metal,
sulfuros
o
seleniuros.
Algunas de sus propiedades buscadas son su resistencia a la deformacin por
altas temperaturas, buena durabilidad qumica, y alta transparencia tanto en la
regin visible como infrarroja que son de inters en los sistemas pticos.
Para producir dos materiales diferentes y con pequeas diferencias de ndices
de refraccin entre el nucleo y la corteza, el flor u otros xidos son
comunmente agregados al silcio. Estos dopantes lo podemos clasificar en dos
grupos bsicos:
La siguiente lista nos muestra algunos dopantes que se usan para fabricar el
ncleo y el cladding de varias fibras.
Core
Cladding
SiO 2
B 2 O 3 -SiO 2
GeO 2 -SiO 2
SiO 2
P 2 O 5 -SiO 2
SiO 2
constituyentes necesitan ser adicionados para lograr que el vidrio tenga una
moderada resistencia a la cristalizacin.
La mezcla de zirconio, bario, lantano, sodio y aluminio, este tipo de vidrio (tambin
conocido como ZBLAN) es cientos de veces ms transparente que el vidrio de
slice, fue descubierto accidentalemnte por POULAIN y LUCAS en la Universidad
de
Rennes
en
Francia.
ZBLAN es el material que forma el ncleo de la fibra de vidrio para lograr en el
vidrio un ndice refractivo bajo, remplazando parcialmente el ZrF4 por el HaF4 se
obetiene el cladding de ZHBLAN. Teoricamente, la mnima atenuacin de este
material esta estimado en 0.001 dB/Km.
Desafortunadamente, las fibras de vidrio de fluoruro son muy difciles de producir
en la Tierra. Los fundidos tienden a cristalizar antes de que se forme el vidrio.La
razn es que la gravedad produce la conveccin o mezcla en el fundido. En
efecto, la gravedad la remueve, y, en un proceso conocido como dilucin de
corte, el fundido se vuelve ms fluido. En los fundidos que son ms fluidos, como
esos removidos por la gravedad, los tomos se mueven ms rpidamente, por lo
que pueden disponerse en arreglos ms geomtricos ms rpidamente. En
fundidos ms espesos y viscosos, los tomos se mueven ms lentamente. Es ms
difcil que se formen patrones regulares. Es ms probable que el fundido forme un
vidrio. De aqui que tericamene nn una microgravedad, los fundidos deberan de
ser ms viscosos de lo que lo son en la Tierra.
3.- Fibra de Vidrios Chalcogenide (Calcogenuros)
Adems de permitir la creacin de amplificadores pticos, las propiedades no
lineales de las fibras de vidrios pueden ser explotadas para otras aplicaciones,
tales como la fabricacin de switches pticos y los lsers de fibra. Los vidrios del
tipo Chalcogenides pueden ser usados satisfactoriamente en estas aplicaciones
debido a que su alta no linealidad . Las fibras de vidrios Chalcogenides, contienen
Arsenio,
Germanio,
Fsforo,
Sulfuro,
Selenio
o
Telurio.
Los vidrios chalcogenides estan basados en los elementos calcogenuros con base
S, Se y Te y la adicin de otros elementos tales como el Ge, St y Sb que conducen
a la formacin de vidrios estables. Asimismo se pueden agregar componentes
Halides
conduciendo
a
la
formacin
de
vidrios
Chalcohalides.
Desde que los vidrios chalcogenides transmiten mayores longitudes de ondas que
los vidrios de slica en el IR y que los vidrios Fluoridos, existe un potencial muy
amplio de aplicaciones para estos tipos de vidrios. Estos pueden dividirse en dos
grupos,
tanto
pasivos
como
activos.
Las aplicaciones pasivas estan referidas a la conduccin de la luz de un punto a
otro,sin cambiar la propiedades pticas, mas que las relacionadas con las
perdidas debido al scattering, absorcin , y reflexin asociadas con la fibra
Las aplicaciones activas son aquellas en las cuales la luz inicial al ser propagada a
travs de la fibra es modificada por un proceso diferente al de las perdidas
producidas por el scatetring, absocin y reflexin. Por ejemplo los laseres, fuentes
amplificadoras de luz, fuentes de luz, efectos grattings y los efectos no lineales
Ncleo
polysterene
/
cladding
methyl
methacrylate.
Ncleo polymethyl methacrylate /cladding copolymer
Comparando las fibras de plsticos a su contraparte el vidiro, el espectro de
transmisin es similar. La POF son mas livianas y bajas en costo. Sin embargo las
POF son menos usadas debido a su alta atenuacin en comparacin a las de
vidrio . Otra limitacin es que el plastico esta limitado a un determinado rango de
temperatura..
La fibra ptca de Plstico cuya abreviatura es POF, tipicamente usa ncleo de
Polimetilmetacrilato PMM de gran pureza con un recubrimiento de polmeros
uorados
como
cubierta.
Son de gran dimetro, 96% de su seccin esta conformada por el ncleo que
permite la transmsin de la luz.
PROCESO DE FABRICACION
Una varilla de vidrio como ncleo se coloca dentro del tubo de vidrio del cladding.
En el extremo de este ensamblado se aumenta la temperatura; y ambos vidrios
son ablandados obteniendose una fibra por arrastre. .La varilla y el tubo son
normalmente de 1 m. de longitud. La varilla del nucleo tiene tpicamente 30 mm de
dimetro. El vidrio del nucleo y el vidrio del cladding deben tener temperaturas de
ablandamiento similares.
Este mtodo es relativamente fcil: apenas se necesita comprar la varilla y el tubo.
Sin embargo, uno debe tener mucho cuidado para no introducir impurezas entre el
ncleo y el cladding.
Se le denomina mtodo de los dos crisoles ya que los vidrios usados para el
ncleo y el cladding se funden en crisoles separados.
Este mtodo permite obtener fibras de perfil gradual por difusin o intercambio de
iones entre los vidrios del ncleo y del recubrimiento , a esto se le denomina
Mtodo Selfoc.
Ya que resulta difcil mantener una total limpieza de los crisoles las impurezas que
llegan por este mtodo se agregan al de los mtales de transicin ya existente e
incrementan la atenuacin que va de los 5 a los 20 dB/Km. A 850 nm. Este mtodo
es utilizado para la fabricacin de fibras de gran dimetro ( mas de 200 um).
2. Fabricacin de la preforma por tcnica de deposicin de vapor
La primera empresa que utilizo este mtodo fu la empresa Corning en 1970,
logrando disminuir dramticamente la atenuacin.
La deposicin se puede efectuar por diferente formas: Sobre la superficie externa
de una varilla de substrato en rotacin (Mtodo OVD, outside vapor deposition),
sobre la superficie frontal de una varilla de cuarzo (Mtodo VAD, vapor axial
deposition) o sobre la superficie interior de un tubo de vidrio de cuarzo en rotacin
(Mtodo IVD, inside vapor deposition), este ltimo mtodo puede utilizar la energia
para la deposicion del vidrio ya sea desde afuera por medio de un quemador
detonate de gas (Mtodo MCVD, modified chemical vapor deposition) o desde
adentro con una llama de plasma (Mtodo PCVD, plasma activated chemical
vapor deposition).
En todos estos mtodos la deposicin se produce por la descomposicin de
compuestos voltiles de alta pureza en un llama de gas detonante. Los Qumicos
usados son el Oxgeno (O2) y el tetracloruro de Silicio (SiCl4) que reaccionan para
obtener slice (SiO2).
El slice puro se dopa con otros qumicos tal como el xido del boro (B2O3), el
dixido de germanio (GeO2) y el pentoxido de fsforo (P2O5) con el objeto de
modificar el ndice refractivo del vidrio.
A Mtodo de Deposicin de Vapor externo(OVD)
La fabricacin de la preforma se efectua en dos etapas, en primer lugar se hace
rotar con un dispositivo adecuado una varilla de substrato de vidrio de cuarzo
AL2O3 o grafito en torno de su eje longitudinal, al tiempo que se calienta en una
estrecha zona desde afuera con la llama de un quemador de gas detonante o gas
propano.
Junto con las sustancias dopantes reqeridas por el prfil de ndices de refraccin
como los metales halogenados (SiCl4, GeCl4, BCl3, PCl3) se le suministra
oxgeno (O2) al quemador, en el cual estos compuestos se convierten en los
correspondientes xidos. Estos a su vez se depositan sobre la varilla rotante en
forma
de
finas
partculas..
Al imprimirle un movimiento de vaiven en sentido longitudinal, se obtiene por
capas una preforma porosa de vidrio. A cada una de estas capas se le puede
dopar en forma diferente, agregando en determinada proporcin distinta
sustancias dopantes a la sustancia bsica del SiO2, lograndose reducir los perfiles
graduales, continuamente de la primera capa, el dopado con GeO2 con el cual se
forma el ncleo hasta llegar al recubrimiento con una deposicin de SiO2 puro.
Para un perfil escalonado, se mantiene constante el dopado de cada capa.
Una vez obtenida la deposicin de suficientes capas para el ncleo y el
recubrimiento de la fibra; se retira la preforma cilndrica de la varilla de substrato.
En la etapa final la preforma se calienta hasta su punto de fusin, con
temperaturas entre 1400 y 1600 oC, la preforma se contraera convirtiendose en
una varilla de vidrio firme y libre de burbujas, transparente cuyo hueco interior se
ha cerrado. Durante el sintetizado de la preforma se lava esta con cloro gaseoso
para quitar del vidrio todo vestigio de agua cuya presencia provocara una elevada
atenuacin.
B
Mtodo
VAD
Deposicin
de
Vapor
axial
(AVD)
La deposicin de las partculas provenientes de un quemador de gas oxdrico tiene
lugar sobre una cara frontal de una varilla rotante de vidrio de cuarzo.
La preforma porosa resultante se estira en sentido ascendente de tal forma que se
mantiene constante la distancia entre el quemador y la preforma que va creciendo
en sentido axial. Para fabricar el perfil de ndices de refraccin del ncleo y del
recubrimiento se pueden utilizar varios quemadores simultnemente.
Es posible producir diferentes perfiles de ndices de refraccin, segun la
construccin de los quemadores, su reparacin y la temperatura durante la
deposicin. La contraccin de la preforma se produce con la ayuda de un
calefactor anular, a continuacin de la deposicin quedando la preforma
transparente. Para secar la preforma, es decir eliminar la humedad residual, se
hace circular cloro gaseoso en torno a la misma.
A travs del interior del tubo se hace pasar el oxgeno y los compestos de
halogenuros gaseosos (SiCl4, GeCl4, PCl3) requeridos para el respectivo dopado.
Por este motivo los compuestos halogenos se descomponen en el interior del tubo
y no en la llama del quemador, como ocurre en los mtodos OVD y VAD.
Por esta causa se produce en la cara interior del tubo la deposicin de numerosas
y delgadas capas en un proceso llamado vitrificacin, que se pueden dopar segn
el perfil del ndices de refraccin reqerido. El propio tubo constituye la seccin
externa del vidrio del recubrimiento y las capas que se depositan en su interior
conforman la seccin interna de la fibra es decir el ncleo.
Cada capa de vidrio se forma con la siguiente secuencia : a 16000 oC y dentro de
la zona de calentamiento se forman particulas finas que se depositan sobre la cara
interior del tubo. Al ser dezplazado el quemador en la direccin del flujo, las
partculas se funden para formar una delgada y transparente capa del vidrio.
Una vez completada la deposicin de las capas necesarias se pasa a la segunda
etapa del mtodo MCVD que consiste en calentar el tubo por secciones
longitudinales hasta aproximadamente 2000 oC. De esta manera se produce el
colapso del tubo para formar la varilla.
Ya que los gases que reaccionan en el interior del tubo se mantienen libres de
hidrogeno, este mtodo no requiere procesos especiales de secado, ya que el gas
utilizado para el calentamiento que en general contiene una proporcin de
hidrgeno, solo acta sobre el exterior del tubo, no teniendo influencia sobre el
proceso ningn otro factor ambiental.
Fig.- Los qumicos son mezlados dentro de un tubo de vidrio que est
rodando en un torno. Ellos reaccionan y las partculas sumamente finas de
germanio o vidrio de silicio o de fosforo son depositados en la parte interna del
tubo. Un quemador mvil que sigue al tubo: Causa una reaccin que toma lugar y
entonces enfoca el material depositado. La preforma es depositado capa por capa
que empezando primero con la capa del cladding y es seguido por la capa del
nucleo. Variando la mezcla de los qumicos se cambia el ndice refractivo del
vidrio.
Cuando la deposicin est completa, el tubo se colapsa ha 2000 C dentro de una
preforma de slice de alta pureza con un nucleo de composicin diferente. La
Preforma es entonces colocado en un horno para el estirado.
D Deposicin de Vapor Qumico Modificado reforzado con plasma (PMCVD)
En este mtodo las preformas se produce con el mismo procedimiento que en el
caso del mtodo MCVD. La diferencia radica en la tcnica empleada para la
reaccin. Por medio de la excitacin de un gas con ayuda de microondas, se
obtiene un plasma. El gas que se ioniza, es decir se descompone en sus cargas
elctricas. Al reunificarse stas, se libera calor que se utiliza par fundir materiales
de elevado punto de fusin. As en el proceso del plasma, se disocian los
halogenos con ayuda de un plasma de baja presin y luego,con oxigeno, se
forman SiO2. Las partculas formadas en este proceso se precipitan directamente
a temperaturas del orden de los 1000 C, formando una capa de vidrio.
Dado que a la llama de plasma se le imprime un rpido movimiento de vaiven a lo
largo del tubo, se pueden producir ms de 1000 capas delgadas, lo cual permite
incrementar la exactitud del perfil de ndices de refraccin