Universidade Federal de Santa Maria

Centro de Cincias Naturais e Exatas

Programa de Ps-Graduao em Fsica

MAGNETOIMPEDNCIA E DINMICA DA
MAGNETIZAO EM NANOESTRUTURAS
FERROMAGNETO / Cu (Ag) /
FERROMAGNETO*

TESE DE DOUTORADO

Marcio Assolin Corra

Santa Maria RS Brasil

2007
______________________________________________
* Trabalho parcialmente financiado por: CAPES e CNPQ

MAGNETOIMPEDNCIA E DINMICA DA
MAGNETIZAO EM NANOESTRUTURAS
FERROMAGNETO / Cu (Ag) /
FERROMAGNETO

por
Marcio Assolin Corra

Tese apresentada ao Curso de Doutorado do Programa de Ps-graduao em Fsica da

Universidade Federal de Santa Maria (UFSM RS), como requisito parcial para a obteno
do ttulo de Doutor em Fsica.

Santa Maria RS Brasil

2007

2006
Todos os direitos reservados a Marcio Assolin Corra. A reproduo de partes ou do todo
deste trabalho s poder ser feita com a autorizao por escrito do autor.
Fone: 0xx55 3286-2897; e-mail: mmacorrea@gmail.com

UNIVERSIDADE FEDERAL DE SANTA MARIA

CENTRO DE CINCIAS NATURAIS E EXATAS
PROGRAMA DE PS-GRADUAO EM FSICA
A COMISSO EXAMINADORA, ABAIXO ASSINADA, APROVA A TESE:

MAGNETOIMPEDNCIA E DINMICA DA
MAGNETIZAO EM NANOESTRUTURAS
FERROMAGNETO / Cu (Ag) / FERROMAGNETO
ELABORADA POR
MARCIO ASSOLIN CORREA
COMO REQUISITO PARCIAL PARA A OBTENO DO TTULO DE
DOUTOR EM FSICA
COMISSO EXAMINADORA:
________________________________________
Prof. Dr. Rubem Lus Sommer Orientador
_______________________________________
Prof. Dr. Antnio Azevedo da Costa
_______________________________________
Prof. Dr. Paulo Pureur Neto
________________________________________
Prof. Dr. Jos Carlos Merino Mombach
_______________________________________
Prof. Dr. Lucio Strazzabosco Dorneles

Santa Maria, 17 de Agosto de 2007.

Agradeo profundamente:
Aos meus pais, meus irmos e a Milene.

Agradecimentos:
Gostaria de agradecer a algumas pessoas que contriburam para o desenvolvimento
deste trabalho, muitas vezes inconscientemente, mas que sem elas no seria possvel alcanar
meus objetivos:
Ao prof. Rubem Luiz Sommer, pela orientao, pacincia, e pelo aprendizado
durante todos estes anos;
Ao professores do LMMM Luiz Fernando Schelp, pelos momentos de discusso e
Marcos Carara, em especial, pela reviso feita como referee deste trabalho.
Aos colegas de laboratrio, Felipe, Teco, Ricardo, Joo, Matheus, Kelly, Marcelo,
Calega, Claudiosir, Fabio, Tiago, etc...(desculpa se esqueci algum);
A Sabrina e ao Alexandre pela parceria desde a graduao;
Aos meus colegas de UNIPAMPA: Profa. Ju, Prof. Luiz (Thander), Exa. Profa.
Dr. Suzana Morsh, Rejane (Melhor secretria dos colegiados da UNIPAMPA), Patrcia,
Renata, Tadeu, Evelton e a todos os funcionrios da nossa recm criada UNIPAMPA;
Aos meus alunos da Primeira e Segunda turma de Geofsica da UNIPAMPA;
Agradecimento especial ao Prof. Dr. Novaes, pela oportunidade e apoio para o
trmino deste trabalho;
No ciclo familiar, so muitas as pessoas que contriburam para que este sonho se
tornasse realidade e gostaria de agradecer (novamente mil desculpas se esqueci de
algum );
Aos meus pais e irmos por toda minha vida;
A minha esposa, companheira e a pessoa normal que mais sabe sobre
Magnetoimpedncia: Milene dos Santos Figueiredo, pela pacincia;
A Milene dos Santos Figueiredo, pelo companheirismo, amor, dedicao, e tudo
mais. A propsito, Milene, eu te amo!
E finalmente, a galera dos jogos do Grmio: Letcia, Fedi, Alemo, Vinicius,
Igo...(d-lhe Grmio);

Resumo
Neste trabalho sero investigadas as propriedades magnticas estticas e em alta
freqncia de amostras na forma de sanduche formado por FM/i/Cu(Ag)/i/FM onde FM
so multicamadas ferromagnticas e i uma camada isolante de SiO2. As amostras foram
produzidas por magnetron sputtering sobre substratos de vidro com um buffer de 50 de
Ta. Os modelos propostos por L. Spinu para o clculo da susceptibilidade transversal e L. V.
Panina para o clculo da Magnetoimpedncia de uma tri-camada foram utilizados na tentativa
de descrio do efeito Magnetoimpedncia nas amostras produzidas. A associao destes
modelos permitiu a simulao da impedncia das amostras na forma de sanduche para uma
grande faixa de freqncias, conhecendo-se apenas a forma da densidade de energia livre
ferromagntica. Modificando-se a composio da camada FM (FeCuNbSiB/Cu ou NiFe/Cu
ou NiFe/Ag) e a largura da camada metlica no magntica (Wm) (Cu ou Ag), foi possvel
controlar a posio dos mximos de MI em funo da freqncia. Variaes de at 220 %
foram obtidas para a amostra com FM = FeCuNbSiB/Cu e Wm = 1,00 mm, a uma freqncia
de 300 MHz, alm de uma estrutura de picos bastante peculiar. A unio dos modelos e a
utilizao de uma descrio da configurao energtica adequada possibilitaram as
simulaes das curvas de impedncia em funo do campo para freqncias at 1.4 GHz. Para
valores de freqncia acima de 1.4 GHz, os efeitos da distribuio de campos internos
provocam o surgimento de picos positivos prximos a campos nulos, associados
possivelmente a diferentes modos de ressonncia que acabaram gerando uma discordncia nas
simulaes.

Abstract
In this work the static and dynamic magnetic properties are investigated in
FM/i/Cu(Ag)/i/FM tri-layer structured samples where FM is the ferromagnetic multilayer and
i is the SiO2 isolating layer. All samples have been deposited by magnetron sputtering on a
glass substrate with a 50 Ta buffer layer. The models proposed by L. Spinu for the calculus
of the transverse susceptibility and by L.V. Panina for the calculus of the magnetoimpedance
in a tri-layer sample were considered in order to try to describe the MI effect for the produced
samples. The connection of these models permits, just knowing the ferromagnetic free energy
density, the simulation of the impedance for a tri-layer in a large frequency range. The real
and imaginary parts of the impedance have been measured as a function of the frequency (100
kHz up to 1.8 GHz) and of the static magnetic field (300 Oe). It was possible, varying the
FM part in the tri-layer, using FeCuNbSiB/Cu, NiFe/Cu and NiFe/Ag, and parameters as
width of the metallic layer (Wm) (Cu or Ag) to control the frequency value where the MI
maximum occurs. Variations up to 220 % were measured for the sample with FM =
FeCuNbSiB/Cu and Wm = 1,00 mm in 300 MHz. The connection of the models and an
adequate energy configuration became possible to simulate the magnetoimpedance curves as a
function of the magnetic field for frequencies up to 1.4 GHz. For frequencies higher than 1.4
GHz, effects of the distribution of the field induce the appearance of positive peaks for low
fields and this effect can be associated to different resonance modes that generate discordance
with respect to the simulation.

NDICE
1
INTRODUO.......................................................................................................... 11
2
REVISO TERICA ................................................................................................ 13
2.1
Processos de Magnetizao .................................................................................... 13
2.2
Energia Livre Ferromagntica............................................................................... 14
2.3
Interao entre Camadas Magnticas ................................................................... 18
2.3.1
Energia de Acoplamento de Troca entre camadas ................................................. 18
2.3.2
Energia de Interao Dipolar ................................................................................ 19
2.4
Clculo das Curvas de Magnetizao .................................................................... 22
2.5
Permeabilidade e Magnetoimpedncia.................................................................. 22
2.5.1
Efeito Magnetoindutivo ........................................................................................ 25
2.5.2
Magnetoimpedncia em Freqncias Moderadas .................................................. 29
2.5.3
Magnetoimpedncia e Ressonncia Ferromagntica.............................................. 32
2.6
Extenso do modelo de Spinu para o clculo da Permeabilidade Transversal.... 34
2.6.1
Permeabilidade vs. Freqncias da Corrente de Sonda .......................................... 37
2.6.2
Permeabilidade vs. Campo Magntico .................................................................. 38
2.6.3
Relao de Disperso da FMR .............................................................................. 39
2.7
Magnetoimpedncia em Multicamadas Ferromagneto/Metal.............................. 40
2.7.1
Clculo da Impedncia ......................................................................................... 45
3
Procedimento Experimental ...................................................................................... 48
3.1
Preparao das Amostras ...................................................................................... 48
3.1.1
Produo de Alvos................................................................................................ 48
3.2
Deposio dos Filmes.............................................................................................. 49
3.3
Calibrao da Espessura........................................................................................ 49
3.4
Caracterizao Magntica (Quase Esttica) ......................................................... 50
3.5
Caracterizao da estrutura de domins magnticos ........................................... 51
3.6
Magnetoimpedncia e Resposta em Altas Freqncias ........................................ 53
4
Resultados e Discusso ............................................................................................... 55
4.1
Amostras Produzidas ............................................................................................. 55
4.2
Difrao de Raios X: .............................................................................................. 57
4.3
Microscopia Kerr ................................................................................................... 59
4.4
M H (Experimental) ............................................................................................ 60
4.5
Simulaes das Curvas de Magnetizao .............................................................. 64
4.6
Magnetoimpedncia: Z H ................................................................................... 68
4.6.1
Curvas de Z H - Srie A .................................................................................... 69
4.6.2
Curvas de Z H - Srie B..................................................................................... 75
4.6.3
Curvas de Z H - Srie C..................................................................................... 80
4.7
Curvas MI%max f ................................................................................................ 85
4.7.1
Curvas de MI%max f - Srie A .......................................................................... 85
4.7.2
Curvas de MI%max f Srie B........................................................................ 87
4.7.3
Curvas de MImax f Srie C .......................................................................... 88
4.8
MI%max f Efeito da largura da camada central no magntica..................... 90
4.9
Simulaes de curvas de Magnetoimpedncia ...................................................... 92
5
Consideraes Finais: Concluses e perspectiva para trabalhos futuros............... 100
6
Bibliografia............................................................................................................... 102

Lista de Smbolos

Ez

Campo de Anisotropia
Campo Desmagnetizante
Campo Eltrico na direo z do plano
cartesiano

H eff

Campo Magntico Efetivo

H ext

Campo Magntico Externo

Comprimento Mdio Lateral

Condutividade Eltrica
Constante de Acoplamento de Troca
Constante de Acoplamento de Troca
Biquadrtico
Constante de Anisotropia
Constante de Anisotropia Uniaxial
Constante de Magnetostrico de
Saturao
Constantes de Rede
Corrente Alternada
Cosseno Diretor
Deformao
Densidade de Energia Livre
Energia de Troca
Energia Livre
Energia Magnetocristalina
Energia Magnetoelstica
Energia Magnetosttica
Energia Zeeman
Espaamento Planar
Espessura da Camada
Espessura do Filme
Fator Desmagnetizante
Fator Giromagntico
Freqncia Angular
Freqncia Angular de Ressonncia
Freqncia de Ressonncia
Impedncia
ndices dos planos de Miller
Indutncia Interna
Integral de Troca

Hu

Hd

e
JAB
JAB
ki
ku

a, b, c
Iac

E
Et
F
Emc
Eme
Emt
EZ
dh, k, l
t

Nd

r
fr
Z
h, k, l

Li
Jij

WF
Wm
Ms
MI

Im( )
Re( )

Largura de Linha de Absoro

Largura do Ferromagneto no sanduche
Largura do Metal no magntico do
sanduche
Magnetizao de Saturao
Magnetoimpedncia
Mdulo Elstico
Parmetro de Amortecimento de Gilbert
Parmetro de Pining
Parte Imaginria da Permeabilidade
Parte Real da Permeabilidade
Permeabilidade
Permeabilidade Circular

dif

Permeabilidade Diferencial

t
m

Permeabilidade Transversal

Rdc
FMR

S
t

r
MI%
c

j
B
M
M
uk
n , n
VL

Profundidade de Penetrao
Resistncia DC
Ressonncia Ferromagntica
Spin
Susceptibilidade Magntica Transversal
Tensor Permeabilidade
Tensor Susceptibilidade
Termo Referente Rugosidade
interfacial
Variao Percentual da MI
Velocidade da Luz
Vetor Campo Eltrico
Vetor de Espalhamento
Vetor Densidade de Corrente
Vetor Induo Magntica
Vetor Magnetizao
Vetor Unitrio da Magnetizao
Vetor unitrio direcional da Anisotropia
Vetor Unitrio Perpendicular ao Plano
Voltagem Induzida

10

UNIDADES PARA PROPRIEDADES MAGNTICAS

Grandeza

Smbolo

Gaussiano & cgs

emu

Fator de
Converso

SI & mks

Induo Magntica

Gauss (G)

10-4

Tesla (T), Wb/m2

Fluxo Magntico

Maxwell (Mx), Gcm2

10-8

Weber (Wb), Vs

Diferena de potencial
magntico

Gilbert (Gb)

10/4

Ampre (A)

Campo Magntico Externo

Oersted (Oe),
Gb/cm

103/4

A/m

Magnetizao (Volume)

emu/cm3

103

A/m

Magnetizao (Volume)

4M

103/4

A/m

Polarizao Magntica

emu/cm3

410-4

T, Wb/m2

Magnetizao (Massa)

, M

emu/g

1
410-7

Am2/kg
Wbm/kg

Momento magntico

emu, erg/G

10-3

Am2, joule por Tesla (J/T)

Momento de dipolo
magntico

emu, erg/G

410-10

Wbm

Susceptibilidade (Volume)

Adimensional,
emu/cm3

4
(4)210-7

Adimensional
Henry por metro (H/m),
Wb/(Am)

Susceptibilidade (massa)

p,p

cm3/g, emu/g

410-3
(4)210-10

m3/kg
Hm2/kg

Permeabilidade

Adimensional

410-7

H/m,Wb/( Am)

Permeabilidade Relativa

-----------------

Densidade de Energia

erg/cm3

10-1

J/m3

Fator desmagnetizante

D,N

Adimensional

Adimensional

Adimensional

11

INTRODUO
O efeito Magnetoimpedncia (MI) a variao da impedncia complexa de uma

amostra ferromagntica quando submetida a um campo magntico DC. A mudana na

impedncia est intimamente ligada variao da permeabilidade magntica para diferentes
campos e freqncias da corrente de sonda atravs do Efeito skin (efeito pele). O Efeito
skin est presente em qualquer metal quando submetido a uma corrente alternada e tende a
concentrar a mesma na periferia do material.
O efeito MI foi amplamente estudado em amostras na forma de fios e fitas magnticas
fabricadas por Melt-Spining. Tais materiais, com espessuras da ordem de m, podem
apresentar altas variaes percentuais de MI em funo da freqncia e do campo magntico
aplicado. As medidas em filmes finos intensificaram-se principalmente pela necessidade de
produo de circuitos integrados, que leva a miniaturizao dos dispositivos baseados no
efeito MI. As dimenses das amostras, principalmente a espessura, so caractersticas cruciais
para o estudo.
Recentemente uma estrutura particular de filme fino atraiu o interesse de
pesquisadores. Uma amostra estruturada na forma FM/M/FM, onde FM um material
ferromagntico e M um metal no magntico, possibilita a sintonia das maiores variaes
percentuais do efeito MI em freqncias relativamente baixas. Esta estrutura consiste
basicamente em dois filmes ferromagnticos separados por uma camada metlica no
magntica e de condutividade elevada.
Os trabalhos apresentados at o momento trazem camadas simples magnticas como
os elementos ferromagnticos que compem o sanduche. Morikawa et. al. [1]
apresentaram em 1997 trabalhos com esta estrutura utilizando ligas amorfas de CoSiB ou
FeCoSiB, constituindo a camada FM do sanduche depositadas por magnetron sputtering.
As espessuras foram da ordem de 2 m para cada camada ferromagntica o que resulta em um
total de 4 m de FM em cada sanduche. Neste trabalho, a temperatura de deposio foi de
500 C com a aplicao de um campo magntico DC de 100 Oe durante o crescimento do filme
para a induo de anisotropia. Com isso, variaes da ordem de 25 % foram alcanadas para
freqncias de 1 MHz. Outros resultados, tambm utilizando esta estrutura de sanduche,
foram apresentados por Shu-qin Xiao et. al. [2] em 2000. Neste trabalho foram necessrios
tratamentos trmicos para eliminao do stress acumulado durante o crescimento dos filmes

12

e induo de anisotropia. Obtiveram ainda variaes de at 80 % na MI em freqncias de 13

MHz para amostra de FeCuNbSiB com espessuras da ordem de m.
Este trabalho prope uma nova estrutura de tri-camada (sanduche) ainda no
explorada pela comunidade cientfica: a utilizao de multicamada ferromagnticas com
espessura de 0.5 m ao invs de filme magntico simples para a confeco sanduches. Este
procedimento possibilita a eliminao de tratamentos trmicos nos filmes aps o crescimento,
alm de se mostrar extremamente til na sintonia em freqncia onde as maiores variaes no
efeito MI acontecem simplesmente variando a liga ferromagntica utilizada.
Panina em 2000 [3] modelou a impedncia (Z) para uma estrutura na forma de tricamada. Recentemente L. Spinu et. al. [4] apresentaram um clculo para a susceptibilidade
transversal de um material ferromagntico, partindo da energia livre magntica do material e
da equao de Landau-Lifshitz. Esses dois modelos foram reunidos para a simulao das
curvas de Z H e comparao com os resultados experimentais.
Ao longo deste trabalho buscamos os seguintes objetivos:
- Estudar a possibilidade de essas estruturas serem candidatas ao uso em sensores de
campo magntico futuramente. Se possvel, alcanar valores elevados de MI% (MI% =
([Z(Hmax)-Z(H) /Z(Hmax)] 100).
- Controlar a forma das curvas de Z H e MI% f, onde f a freqncia da corrente
de sonda;
- Adaptar e desenvolver modelos tericos que descrevam as curvas de MI H para
toda faixa de freqncia, se possvel, sem a necessidade de utilizar diferentes modelos para
diferentes faixas de freqncias;
- Obter informaes magnticas relevantes a partir da comparao entre os resultados
tericos e experimentais, em particular, aumentar a compreenso sobre o comportamento
magntico da amostra submetida a campos magnticos DC e AC.
Esta tese est dividida em cinco captulos. No presente captulo, so apresentados as
motivaes e objetivos do trabalho. No captulo 2 apresentada uma reviso terica sobre
processos de magnetizao, anisotropias magnticas, permeabilidade e magnetoimpedncia
em filmes finos. No captulo 3 so apresentados os procedimentos experimentais adotados
para a produo e caracterizao da amostras. No captulo 4 so expostos os resultados e as
discusses a respeito dos modelos propostos para a utilizao neste trabalho e a sua validade
com relao faixa de freqncia. Por fim, no captulo 5 so apresentadas as concluses e as
perspectivas para trabalhos futuros.

13

2.1

REVISO TERICA

Processos de Magnetizao
Todos os materiais magnticos abaixo da temperatura de Curie so compostos por

pequenas regies chamadas de domnios magnticos nas quais os dipolos magnticos atmicos
tm uma direo preferencial de alinhamento e onde a magnetizao assume valor Ms(T). Os
domnios so separados por regies de transio denominadas de paredes de domnios
magnticos, que se caracterizam por uma rotao gradual dos momentos. Para o caso de uma
parede de domnios de 1800, ao se percorrer um caminho perpendicular a esta parede, partindose do interior de um dos domnios observar-se- que os momentos magnticos atmicos no
interior da parede giram gradualmente saindo da direo da magnetizao do primeiro domnio
at o alinhamento com a magnetizao do segundo domnio (ver Figura 1 (a)). No interior
destes domnios, a magnetizao espontnea presente igual magnetizao de saturao do
material. A aplicao de um campo magntico externo ( H ext ) de pequena intensidade faz com
que os domnios com orientao favorvel com relao ao campo, cresam s custas dos
demais. Este processo chama-se de movimentos de parede de domnio. Aumentando a
intensidade de H ext , estes deslocamentos das paredes podem se tornar irreversveis. Para
campos ainda maiores observar-se- rotao dos momentos magnticos na direo do campo
H ext . Quando isso acontece, considera-se a amostra magneticamente saturada. Quando H ext

varia lentamente entre dois extremos Hmax ,+Hmax ,Hmax observa-se que a amostra percorre
um ciclo no plano M H denominado ciclo de histerese do material (Figura 1(b)). A forma
com que a magnetizao M varia em funo do campo H ext fortemente dependente da
freqncia e amplitude do campo de oscilao. Para esta situao o comportamento da
magnetizao descrita pela equao do movimento de Landau-Lifshitz-Gilbert [5]

14

dM

dM
= M H eff
M
,
dt
Ms
dt

(1)

onde o fator giromagntico, Ms a magnetizao de saturao, H eff o campo magntico

efetivo, obtido atravs da derivada da energia livre (F) com relao magnetizao ( M ) e o
parmetro de amortecimento de Gilbert. O campo magntico H eff carrega toda a informao
sobre as foras macroscpicas e microscpicas atuantes no sistema magntico. Uma forma de
obter a direo e o sentido da magnetizao para cada valor de H ext atravs da minimizao
da energia livre. So vrios os termos de energia livre que devem ser considerados na
configurao energtica de um material ferromagntico, e para cada um destes termos h uma
energia associada, como por exemplo, a energia associada forma da amostra (Energia
Magnetosttica) e energia associada mudana nas dimenses do ferromagneto quando
submetido ao H eff (Energia Magnetoelstica), dentre outras.
A seguir, ser realizada uma discusso a respeito dos termos da energia livre
ferromagntica relevantes em filmes finos.
1 .0

M/MS

0 .5

0 .0

-0 .5

-1 .0

-10 - 1 0 -5

-5

0
5
H (O e )

10 1 0

H(Oe)

(a)

(b)

Figura 1: (a) Representao de dois domnios magnticos separados por uma parede de domnios de 180. Em
detalhes a rotao dos momentos magnticos saindo do alinhamento de um domnio e chegando a do outro
gradativamente. (b) Curva de histerese caracterstica para uma amostra multicamada [FeCuNbSiB/Cu]50.

2.2

Energia Livre Ferromagntica

15

A densidade de energia livre de um ferromagneto para qualquer forma de amostra tem

as seguintes contribuies:
Energia de Troca (Et): descreve a interao de troca entre os spins de um material. Ela
uma conseqncia direta do principio de excluso de Pauli. Uma expresso para tal
densidade de energia, em geral, tem a forma [6]

Et = J ij S i S j ,

(2)

ij

onde Jij a integral de troca que, alm de informar a magnitude do efeito, indica, atravs do
seu sinal, o ordenamento ferro (Jij>0) ou antiferromagntico (Jij<0).
Energia Zeeman (Ez): a parte da energia livre ferromagntica que define a interao
entre a magnetizao ( M ) e o campo magntico externo ( H ext ). Considerando que a
magnetizao de saturao da amostra seja dada por Ms e o vetor M (unitrio), que define a
direo desta magnetizao, a densidade de energia Zeeman (Ez) pode tomar a forma [6]

E z = M s M H ext .

(3)

Energia Magnetosttica (Emt): surge devido ao campo gerado pelos plos livres na
superfcie da amostra que por sua vez esto intimamente relacionados forma da amostra. O
campo interno gerado pelos plos livres tem sentido contrrio ao campo M , sendo
denominado de campo desmagnetizante ( H d ). Uma forma geral para a densidade de energia
magnetosttica pode ser expressa como sendo [6]

Emt =

1
Hd M .
2

(4)

Esta energia descrita em termos de um fator Nd = H d / M que leva em considerao a forma

da amostra. Para o caso de filmes finos, considerando um vetor unitrio perpendicular ao
plano do filme n , tal densidade de energia tem a forma

16

E mt = 4M s2 ( M n ) .

(5)

Energia Magnetocristalina (Emc): est relacionada a direes preferenciais de

alinhamento da magnetizao associada aos eixos cristalogrficos da estrutura cristalina. Para
o caso de uma amostra na estrutura cbica Emc pode ser escrita na forma [6]
Emc = K1 (12 22 + 22 32 + 12 32 ) + K 2 (12 22 32 ) + ...

(6)

Onde K1 e K2 so as constantes de anisotropia cbicas de 1a e 2a ordem, respectivamente, que

definem a direo de fcil magnetizao de acordo com o sinal e intensidade.
Energia Magnetoelstica (Eme): quantifica a energia magntica envolvida com a
variao das dimenses da amostra quando submetida a um campo magntico externo
varivel ( H ext )

E me =

3
M u s
2

)2 .

(7)

Nesta expresso, a constante de magnetostrico, que pode ser positiva e ou negativa,

o mdulo elstico, a deformao e us o vetor direcional do stress.
Anisotropia uniaxial induzida (Eu): em alguns casos as amostras podem apresentar apenas um
eixo fcil, induzido por algum determinado processo, o que caracteriza um eixo de anisotropia
uniaxial. Nessas situaes uma densidade de Energia Uniaxial pode ser expressa na forma [6]

2
Eu = Ku M uk ,

(8)

onde Ku a constante de energia uniaxial e uk o vetor unitrio que direciona a anisotropia.

17

A densidade de energia livre ferromagntica a soma dos termos apresentados acima.

No caso de amostras na forma de multicamadas, que apresentam uma interao de troca, um
termo referente a esta interao deve ser adicionado Eint.
E = E t + E z + E mt + E me + E int .

(9)

Anisotropia Rugosidade: em amostras crescidas por sputtering, dependendo do substrato

utilizado, rugosidade e inter-difuso nas interfaces ocorrem frequentemente. O primeiro
modelo que levou em considerao tais imperfeies foi o proposto por Nel que estudou o
acoplamento magnetosttico entre duas camadas separadas por uma fina camada metlica no
magntica [7]. O modelo tambm denominado orange-peel coupling leva em considerao
os plos livres que podem surgir durante o crescimento de multicamadas com certa
rugosidade. P. Bruno [8] conseguiu atravs de um modelo caracterizar a influncia da
rugosidade na anisotropia magntica. Um dos termos levado em considerao por P. Bruno
o referente prpria rugosidade (), caracterizado como o desvio mdio de um plano de
referncia (Figura 2), outro o comprimento mdio lateral das reas planas (), levando em
considerao os terraos e os vales da interface entre duas camadas.

Camada 3

Camada 2

Camada 1
Figura 2: Representao de trs camadas sucessivas de uma multicamada na qual esto indicados os parmetros
,, e a espessura mdia da camada 2 (t) . A linha tracejada indica a altura mdia da rugosidade na superfcie.
Retirado da Ref. [8].

A rugosidade possibilita o surgimento de plos livres, consequentemente de campos

desmagnetizantes locais no plano e fora dele. Com isso, h uma reduo na anisotropia de
forma no plano, favorecendo uma anisotropia magntica perpendicular superfcie da
camada.

18

2.3

Interao entre Camadas Magnticas

Em multicamadas magnticas separadas por camadas metlicas no magnticas,

existem interaes de troca entre as camadas magnticas mediadas pelo metal da camada no
magntica. No que segue sero apresentados os principais modelos para esta interao.
2.3.1 Energia de Acoplamento de Troca entre camadas
A demonstrao experimental de que duas camadas magnticas interagem, mediadas
pela camada no magntica que as separa, foi publicada em trabalhos tais como [9, 10, 11] e
levaram a descoberta da magnetoresistncia gigante [12]. Vrios modelos tericos foram
propostos para descrever as interaes, tais como, a interao de troca bilinear, que descreve o
acoplamento entre duas camadas que apresentam magnetizaes na mesma direo, conforme
representado na Figura 3.

Figura 3: Representao de duas camadas magnticas separadas por uma camada metlica (cinza). As setas
representam magnetizao de saturao de cada camada

O modelo mais utilizado para explicar esta interao o modelo proposto por
Ruderman-Kittel-Kasuya-Yoshida, conhecido com modelo de interao RKKY [13, 14, 15].
A partir deste modelo, uma expresso para a energia de troca bilinear por unidade de rea,
A

entre duas camadas A e B sucessivas, com magnetizaes M S e M S , respectivamente, pode

ser escrita como
A

Etroca = J AB

MS MS
= J AB cos AB .
M SA M SB

Onde JAB a constante de acoplamento de troca e AB o ngulo entre as magnetizaes.

(10)

19

As constantes de troca JAB > 0 e JAB < 0 correspondem a acoplamentos ferromagntico

(FM) e antiferromagntico (AF), respectivamente. Parkin e colaboradores [16] verificaram
que o sinal de J depende da espessura do espaador e tem um comportamento peridico com
amplitude decrescente, gerando acoplamentos ferro e antiferromagnticos de acordo com a
espessura. No caso de uma multicamada devemos, para um balano total da energia,
considerar um termo de energia igual expresso (10) para cada par de camadas magnticas.
Assim, para n bicamadas, teremos n-1 termos de energia de acoplamento somados aos demais
termos da energia livre do ferromagneto (9).
Levando-se em considerao que existem flutuaes na espessura devido a
imperfeies acumuladas durante o crescimento das multicamadas, podem aparecer interaes
entre camadas vizinhas que favorecem um alinhamento perpendicular das magnetizaes [17,
18, 19, 20]. Este acoplamento recebe o nome de acoplamento biquadrtico, descrito por

E Bq = J

'
AB

M SB M SB

M AM B
S
S

= J ' cos 2 ,
AB
AB

(11)

'
onde J AB
a constante de acoplamento de troca biquadrtico que sempre positiva.

2.3.2 Energia de Interao Dipolar

A partir da expresso clssica da energia de um dipolo magntico podemos escrever
uma expresso para a energia de interao dipolar da seguinte forma

E dip

A
B
A
B
M S M S 3 M S n M S n

,
=
3
rAB

(12)

onde n um vetor normal ao plano das camadas, como representado na Figura 4 e r AB a

distncia entre os centros das camadas magnticas (Figura 4). A definio desta forma para
r AB vem do fato de, para cada camada, ser considerado um nico momento magntico

situado no centro da mesma (ver Figura 3).

20

rAB

B
Figura 4: Na figura esto indicadas s duas camadas magnticas A e B separadas por uma camada metlica no
magntica (cinza). A separao para efeitos de clculos da energia de dipolo magntico est indicada por rAB. O
vetor n perpendicular s interfaces e a prpria camada magntica.

Considerando a magnetizao no plano da camada, o produto escalar no segundo termo de ,

(12) se anula. Assim, a energia toma a seguinte forma:
A

E dip

M S M S
=
3
rAB

(13)

Utilizando os vetores direcionais M , uk e n e o vetor campo magntico H ext , que

esto representados na Figura 5, a expresso inicial para a densidade de energia empregada
nas simulaes realizadas neste trabalho foi escrita na forma

E = M H 4M s 2 M n + K1 M uk

)2 ,

(14)

onde, como mencionado anteriormente, o primeiro termo a energia Zeeman, o segundo

termo a energia magnetosttica que leva a magnetizao para o plano do filme, e o ltimo
termo a energia de anisotropia uniaxial. Para os clculos e simulaes da
magnetoimpedncia outros termos foram adicionados nesta expresso inicial como, por
exemplo, um termo que leva em considerao o stress acumulado durante a deposio.
Na Figura 6 est representada a energia magntica de uma camada ferromagntica em
funo de M para diferentes valores e direes de H ext . Para obteno das curvas da Figura 6
foi desenvolvido um programa na linguagem MATHEMATICA, que encontra M para cada
valor de campo externo considerando, tambm, o campo desmagnetizante e anisotropia de
forma. O ngulo de equilbrio da magnetizao corresponde a um mnimo da energia livre
magntica. O processo numrico de minimizao desta energia livre pode gerar mnimos

21

locais, e a escolha do mnimo correto foi feita atravs da considerao das condies de
vnculo.

uk

Figura 5: Definio entre os ngulos relativos de magnetizao e campo magntico externo em relao a normal
ao plano do filme e ao eixo de anisotropia.

2.510

2.5 106

Energia 2106

Energia 2106

1.5 106

1.510

1106

1106

-1000

-1000

H0L

H0L

2
-500

-500

Hext

Hext

HHOeL

HHOeL

500

(a)

3106
6

2.5 10

Energia 2106
1.5 106
4

110

-1000

H0L

-500

Hext
0

HHOeL

500

1000

500

1000

(c)

1000

(b)

22

Figura 6: Grficos da energia em funo do campo Hex e do ngulo M. Para o clculo foi utilizado M = 900,
Ms = 1200 emu/cm3, K1 = 500 ergs/cm3 e (a) H = 900 e H = 900. (b) H = 900 e H = 300. Para uma
configurao onde o campo magntico aplicado fora do plano do filme temos que: (c) H = 450 e H = 900

2.4

Clculo das Curvas de Magnetizao

A minimizao da energia livre da expresso (14) e localizando o mnimo na

densidade de energia exposto acima se torna fcil obteno das curvas de magnetizao.
Basta para isso projetar o vetor magnetizao M na direo do campo magntico externo
aplicado H ext , o gera a expresso
M = M S cos( H M ) ,

(15)

onde M o ngulo de equilbrio da magnetizao. Para obter a expresso (15) considerou-se

o campo magntico no plano da amostra (H = 90o). A Figura 7 mostra as curvas de
magnetizao obtidas com este mtodo para uma amostra tpica de NiFe com MS = 780

emu/cm3, Ku = 350 ergs/cm3, para vrios ngulos entre H ext e u k .

800

H=0

0
0

H=30

H=45

M(emu/cm )

400

H=60

-400

-800
-1,50

-0,75

0,00

0,75

1,50

H(Oe)

Figura 7: Clculos dos ciclos de histerese. Neste caso MS = 780 emu/cm3, Ku = 350 ergs/cm3 para diferentes
valores de H e para K = 0o e H = K = 90o.

2.5

Permeabilidade e Magnetoimpedncia
Nesta seo ser apresentada uma breve reviso histrica e terica sobre o efeito

magnetoimpedncia, assim como ser apresentada uma forma de obter a susceptibilidade (e

23

consequentemente a permeabilidade) de amostras ferromagnticas a partir da energia livre

desenvolvida por L. Spinu et. al [4]. Tal modelo permite, a partir da densidade de energia e
suas derivadas com relao aos ngulos de equilbrio da magnetizao, obter o
comportamento dinmico da permeabilidade para qualquer faixa de freqncia da corrente de
sonda. Essa capacidade torna o modelo uma ferramenta muito importante no estudo do efeito
MI.
As propriedades de transporte dos materiais so de grande importncia em diversas
aplicaes, dentre elas salienta-se a rea de desenvolvimento de sensores de campo.
Atualmente o efeito MI est sendo utilizado, por exemplo, para a produo de sensores de
campo magntico 2D [21], sensores para deteco de biomolculas [22].
De maneira simplificada, pode-se entender o efeito magnetoimpedncia como a
variao da impedncia de uma amostra ferromagntica quando submetida um campo
magntico externo. O fenmeno tem um embasamento clssico e pode ser explicado mediante
a soluo simultnea das equaes de Maxwell e da equao de Landau-Lifshitz.
Apesar da MI ser conhecida desde 1935 [23], a falta de uma explicao terica e de
uma modelagem que explicasse os resultados experimentais fez com que os estudos no se
aprofundassem. Em 1993 Machado et. al. [24] tentaram explicar o efeito como sendo de
origem magnetoresistiva. Um pouco mais tarde, em 1994, com o trabalho de R.S. Beach, et.

al. e Panina et. al. [25, 26] apresentaram resultados em fios e fitas amorfas. A partir disso,
devido aos altos valores de MI% divulgados na literatura a MI despertou interesse e comeou
a ser investigada mais intensamente.
Desde ento inmeros trabalhos vm sendo realizados nos mais diversos sistemas e
simetrias de amostras, tais como: fios [27, 28, 29, 30, 31, 32, 33], fitas produzidas por
resfriamento rpido [34, 35, 36], filmes finos [37, 38, 39,40], multicamadas magnticas [3,
41, 42,43, 44, 45, 46, 47, 48], entre outros.
Em 1996 Machado e Rezende apresentaram um modelo para fitas amorfas base de
Co [49]. Este modelo foi baseado na dependncia do efeito skin e no movimento das
paredes de domnios devido aos campos magnticos AC e DC, e salienta a forte conexo do
efeito MI com relao magnitude do campo magntico e da freqncia da corrente de sonda.
Em 1999, L. Kraus [50] apresentou um clculo detalhado para o efeito
Magnetoimpedncia em condutores planares com anisotropia uniaxial. O autor baseou-se na
soluo simultnea das equaes linearizadas de Maxwell e na equao de Landau Lifshitz
(1). L. Kraus realizou os clculos para obter o tensor complexo da impedncia, assim como
resultados numricos para o efeito MI longitudinal. Parmetros tais como freqncia da

24

corrente de sonda, termos de amortecimento foram variados e resultados numricos foram

apresentados. Um aspecto importante deste trabalho foi que o autor apresentou um limite
terico de variao percentual de MI de mais de 1000%, o que nunca foi observado
experimentalmente.
Em 2000 L. V. Panina et. al. [3] apresentaram os resultados tericos e experimentais
do estudo de MI em tri-camada. Este trabalho trouxe uma interpretao quantitativa deste tipo
de estrutura apresentada anteriormente em trabalhos publicados por T. Morikawa [1] e S.
Xiao. [43]. O modelo mencionado acima ser tratado em mais detalhe na seo 2.7.
Mais recentemente, alguns trabalhos do LMMM em filmes amorfos e multicamadas
magnticas [51,52,53] trataram de discutir, principalmente, as propriedades magnticas
obtidas a partir do estudo do efeito MI na faixa de freqncia de 100 kHz a 1.8 GHz. Nestas
pesquisas foram exploradas as propriedades em alta freqncia para filmes com camada
simples em funo da espessura [40], estudos comparativos entre as propriedades magnticas
de filmes na forma de multicamadas e camada simples [51,52,53], alm de estudos da
dinmica da magnetizao em altas freqncias para filmes finos [54].
O efeito MI depende, dentre outros fatores, da freqncia da corrente alternada a que a
amostra submetida e da geometria da amostra estudada. Em termos experimentais, a
configurao bsica adotada apresentada na Figura 8, onde a freqncia angular da
corrente e Z = R + iX a impedncia da amostra.
Io e (it)

H ext

V
Figura 8: Configurao bsica para medidas de Magnetoimpedncia onde a freqncia da corrente est imerso
no termo = 2 f e V esta relacionado com a impedncia atravs de V = Z I. Na configurao mostrada o
campo magntico externo H ext est no plano e paralelo corrente. O campo tambm pode ser aplicado em
diferentes direes, afetando assim a resposta do efeito MI.

Com relao freqncia pode-se dividir a descrio da impedncia em faixas: para

freqncia da corrente de sonda onde a profundidade de penetrao () maior que a meia
espessura do filme (t/2), a variao na impedncia de uma amostra ferromagntica devido,

25

exclusivamente, ao efeito magnetoindutivo [55]. Para faixas de freqncia onde da ordem

da meia espessura, o efeito MI passa a ter contribuio do efeito skin. Quando a freqncia
chega ordem de centenas de MHz a GHz, alm do efeito skin existe uma contribuio da
Ressonncia Ferromagntica que passa a ser o principal agente responsvel pela variao da
impedncia da amostra [56]. Os limites de freqncia das faixas definidas acima para a
impedncia dependem basicamente da espessura, permeabilidade e da condutividade do
material. Como apresentaremos a seguir, o efeito MI est intimamente ligado
permeabilidade magntica da amostra. Assim o estudo do efeito MI pode tambm produzir
informaes importantes sobre a dinmica da magnetizao.

2.5.1 Efeito Magnetoindutivo

Para freqncias onde a profundidade de penetrao maior que a metade da
espessura do filme (t/2), ou o raio de um fio (a), a variao na impedncia ocasionada pelo
chamado efeito magnetoindutivo. Quando a corrente alternada passa pela seo transversal de
um filme ou um fio, de acordo com a lei de Ampre, um campo magntico circunferencial
produzido dentro do material. Esse campo tem magnitude

H =

Ir
,
2a 2

(16)

onde r a distncia radial ao eixo do fio. Considerando uma corrente senoidal na forma

I = I 0 e it ,

(17)

o campo da expresso (16) torna-se alternado, de modo que um fluxo magntico induzido,
que por sua vez associado a um campo eltrico longitudinal. Tal campo eltrico pode ser
calculado utilizando-se a equao de Faraday
B
E z
=
= i H ,
r
t

(18)

26

Onde a induo magntica circular B , em geral, funo de H . A permeabilidade

magntica circular dada por

(19)

A condio de contorno para a expresso (18) de que a corrente tenha amplitude

constante. Com isso, a voltagem induzida nas extremidades do fio dada por

V L = E z (a )l = (

i
) Li I ,
2

(20)

onde Li representa a indutncia interna da amostra, definida por [57]

a
a

4l rdr (r ' )r ' dr '

0
r

.
Li =
4
a

(21)

Tomando-se a tenso total induzida em uma amostra ferromagntica, tem-se que

i
VT = VR + VL = Rdc I
Li I .
2

(22)

Lembrando que a corrente dada por (17), e lembrando que Z = VT/I, a impedncia pode ser
escrita como sendo

Z = Rdc + i

Li .
2

(23)

A dependncia magntica nesta expresso est includa no termo Li, como pode ser visto na
expresso (21) onde temos a permeabilidade magntica diferencial como um dos parmetros
importantes. O processo de magnetizao nesta faixa de freqncias deve levar em
considerao tanto a rotao dos momentos magnticos quanto o movimento das paredes de
domnios, pois no h um amortecimento significativo ao movimento das mesmas. Com isso
a permeabilidade magntica circular (para o caso de fios, ou a permeabilidade magntica
transversal para o caso de filmes ou fitas) pode ser escrita como

= rot + DW

(24)

27

onde rot permeabilidade magntica circular devido rotao dos momentos magnticos e

DW a permeabilidade associada ao movimento das paredes de domnios. Os modelos que

descrevem o comportamento do efeito MI para esta faixa de freqncia so chamados de
modelos quase estticos (ver, por exemplo, Machado e Rezende [58] e Atkinson e Squire
[59]). Com o aumento da freqncia passam a atuar correntes parasitas, tambm conhecidas
como correntes de Foucault, que levam ao amortecimento do movimento das paredes de
domnios. Para uma amostra com uma anisotropia uniaxial e com uma configurao de
domnios como a apresentada na Figura 9, em geral, para freqncias menores que 500 kHz,
as principais contribuies para a variao da permeabilidade so os movimentos das paredes
de domnios e a rotao dos momentos magnticos [60]. A resposta quase esttica pode ser
calculada atravs da minimizao energia livre magntica com relao aos parmetros 1, 2 e
u da configurao de domnios mostrada na Figura 9.

Figura 9: Configurao de domnios de um filme uniaxial com o eixo fcil ao longo da direo y.

Usando esta resposta, L. Kraus [60] descreve a susceptibilidade em funo de

diferentes configuraes com relao s orientaes entre o campo magntico externo H ext ,o
campo magntico alternado (h) (gerado pela corrente de sonda AC imposta na amostra durante
a realizao do experimento) e o eixo de anisotropia da amostra (y neste caso). Para o caso em
que H ext || x e h || y, tanto o movimento das paredes de domnio quanto rotao da

28

magnetizao contribuem para a susceptibilidade . Considerando uma situao que apenas o

movimento das paredes de domnios contribui para a , esta pode ser escrita como

dw =

4 M 2
2u
M s sen 0 = 0 s
dh

2
H ext
1

H K2

(25)

onde H K = 2 K / 0 M s e o parmetro de amortecimento. Para chegar a esta expresso

assume-se que cos(1) = cos(2)= cos(0) = Hext/HK . Por outro lado, se as paredes de
domnios esto imveis (o que corresponde a u = 0 na Figura 9) consequentemente, a
susceptibilidade fica na forma [60]

trot =

M s cos 2 0
.
H ext cos 0 H K cos 2 0

(26)

Observando a dependncia de trot com o campo magntico, verifica-se a existncia

de singularidades na curva quando Hext = HK. Como mencionado em [60], em um material
real os picos no so agudos como na descrio terica, devido eventuais desalinhamento do
campo externo e do eixo de anisotropia.
r

Se o eixo fcil paralelo ao eixo do condutor ( H ext || y e h || x), as paredes de domnio

no contribuem susceptibilidade transversal, que toma a forma
t rot =

M s (1 ( M 0 / M S )( H ext / H K ))
,
2
HK
(1 ( H ext
/ H K2 )

(27)

onde M0 = 2MS u/d a magnetizao para o campo H ext (Figura 10 (a)). Todas as
configuraes acima descritas so melhor entendidas a partir da Figura 10, que mostra os
comportamentos da magnetizao e da susceptibilidade magntica em funo do campo.

29

Figura 10: (a) Curvas de magnetizao. (b) Susceptibilidade transversal calculada para um filme uniaxial com a
configurao de domnios apresentados na Figura 9. A curva I mostra a configurao onde H ext ao eixo
fcil, neste caso tem-se contribuio do movimento das paredes de domnios. A curva II mostra a configurao
onde H ext ao eixo fcil, porm, apenas com a contribuio da rotao dos momentos magnticos. A curva
III mostra H ext

|| ao eixo fcil. [60].

2.5.2 Magnetoimpedncia em Freqncias Moderadas

Ao submeter um condutor metlico a uma corrente alternada de freqncia
suficientemente alta, surge um fenmeno denominado efeito Pele (skin effect). Esse efeito
consiste no confinamento da corrente na superfcie do condutor, fazendo com que aparea um
gradiente de densidade de corrente na seo transversal do mesmo. A profundidade de
penetrao depende da permeabilidade e da condutividade do material, alm da freqncia

30

da corrente de sonda. Por outro lado, depende da amplitude e freqncia da corrente de

sonda, alm do campo externo H ext , = (I, , H ext ). Esta dependncia de grande
importncia na descrio e na modelagem do efeito MI em freqncias moderadas e altas
juntamente com as equaes de Maxwell na forma diferencial (no SI)
E =

B
,
t

(28)

B = 0,

(29)

H = j ,

(30)

E = 0.

(31)

Nessas equaes, j a densidade de corrente, relacionada ao campo eltrico E pela lei de

Ohm microscpica

j =e E .

(32)

Se o campo magntico externo H ext for nulo, o campo atuante na amostra ser o
campo produzido pela corrente alternada que percorre a amostra, o que permite uma anlise
simples da permeabilidade magntica circular. Assumindo uma relao linear entre o campo
magntico e a induo magntica na forma

B = H ,

(33)

substituindo a expresso (33) na expresso (28) e tomando o rotacional da mesma tem-se

.
E =
t

(34)

o argumento da diferencial na expresso acima pode ser identificado com a expresso (28), o
que resulta em

31

E =

()

j
.
t

(35)

Com algumas identidades vetoriais da referencia [61] e a expresso (32), pode-se escrever a
expresso (34) na forma
2 E =

E
.
2 t

(36)

Neste ponto necessrio fazer a distino entre a coordenada cilndrica (caso de fios)
e cartesiana (caso de filmes finos). Para coordenadas cilndricas, a soluo de (36) levar s
funes de Bessel do primeiro tipo e o resultado para a impedncia toma a forma

Z=

1
J (ka)
.
Rdc ka 0
2
J1 ( ka)

(37)

Para coordenadas cartesianas, a soluo de (36)

Z = Rdc

kt
kt
cot .
2
2

(38)

Essa expresso adequada para descrever Z em filmes finos, tendo-se cuidado para descrever
a permeabilidade transversal no lugar da circunferencial.
Identificando nestas duas ltimas expresses a e t como sendo o raio do cilindro e
a espessura do filme, respectivamente, o termo k definido como

k=

k=

1 + i
=
, (SI)
2
m

1+ i

, (cgs)

(39.a)

(39.b)

onde nas expresses (39) a permeabilidade transversal ou circunferencial, dependendo da

geometria da amostra. Nessas expresses, m o parmetro chamado de profundidade de
penetrao da corrente, c velocidade da luz, a condutividade do material e a
freqncia angular da corrente de sonda. Na Figura 11 est representado o comportamento da

32

corrente na seo transversal da amostra para freqncias moderadas, com o efeito skin
presente. Assumindo constante, quanto maior menor ser a profundidade de penetrao

m e menor ser a rea de seco transversal que a corrente estar concentrada.

Figura 11: Representao do efeito pele (m) em um material ferromagntico, mostrando a concentrao da
corrente na superfcie da amostra.

A descrio terica exposta acima descreve bem alguns resultados experimentais do

efeito MI. A chave para o entendimento deste fenmeno est na descrio do comportamento
da permeabilidade magntica em funo dos campos aplicados. Devido relao no linear
entre o campo magntico e a induo magntica, clculos exatos so difceis de realizar. Em
muitas situaes, a anisotropia da amostra no uniaxial, tornando a descrio de t
complicada por esta se tratar de uma quantidade tensorial. Este fato se agrava ainda mais
quando os materiais estudados so ferromagnetos amorfos. Nestes, pode haver vrios eixos de
anisotropia no interior da amostra e em diferentes direes, devido ao acmulo de stress
durante o crescimento da amostra e a alta magnetostrico existente em algumas ligas como,
por exemplo, ligas a base de FeCuNbSiB.

2.5.3 Magnetoimpedncia e Ressonncia Ferromagntica

A configurao necessria para a medida do efeito magnetoimpedncia favorece a
contribuio da FMR. Essa surge ao se submeter uma amostra ferromagntica
simultaneamente a um campo magntico uniforme H ext e um campo magntico de alta
freqncia perpendicular direo de H ext . Enquanto o campo H ext alinha os momentos

33

magnticos em uma determinada direo de saturao, o campo alternado desloca estes

momentos da posio de equilbrio, fazendo-os precessionar em torno da direo de H ext com
a freqncia caracterstica f. Quando a freqncia do campo alternado iguala-se a f, o sistema
entra em ressonncia e acontece um aumento abrupto na absoro de microondas como

Potncia absorvida

mostrado na Figura 12 (a) para uma amostra de MnSO4 extrada de [62].

B0 em Gauss
Figura 12: (a) montagem experimental tpica para medidas de FMR. (b) espectro de absoro para amostra de
MnSO4 para uma freqncia de 2,75 GHz. Figura extrada da referncia [62].

A relao experimental entre MI e FMR foi lembrada por Yelon et al em 1996 [56]. O
trabalho de Mnard et al [63] apresentou caractersticas comuns do efeito MI e FMR e
desenvolveu clculos analticos para descrever o efeito, as principais assinaturas da FMR na
MI so, a passagem da parte imaginria (X) por zero quando a parte real da impedncia (R)
atinge um valor mximo e o deslocamento dos mximos de Z em funo do campo
magntico. A Figura 13 mostra essa ltima caracterstica para um filme de 50 bicamadas de
FeCuNbSiB (100 ) /Cu (10 ) para diferentes freqncias da corrente de sonda. O filme foi
produzido para o presente trabalho.

34

25
1.8GHz
1.6GHz
1.5GHz
1.4GHz

20

Z ( )

1.3GHz

15

10
10

20

30

40

50

60

H (Oe)
Figura 13: Medida da impedncia de uma multicamada FeCuNbSiB (100 ) /Cu (10 ) 50 para diferentes
freqncias da corrente de sonda. Observa-se claramente o deslocamento do mximo de Z para campos cada vez
mais elevados quando f aumenta Esta caracterstica foi explanada em detalhes em [63]

A partir das curvas de Z em funo do campo e da freqncia, possvel encontrar

qual o valor da freqncia de ressonncia (fr) em funo do campo magntico externo ( H ext )
e constituir a relao de disperso para uma dada amostra.
A conexo entre MI e FMR permite o uso de tcnicas tpicas de FMR para modelar a
MI em sistemas nanoestruturados. A prxima seo apresenta a abordagem adotada neste
trabalho de tese.

2.6

Extenso do modelo de Spinu para o clculo da Permeabilidade Transversal

Como visto nas sees 2.5, o efeito MI est intimamente ligado permeabilidade

magntica. Assim, uma forma de descrever os resultados experimentais, e de obter

informaes magnticas importantes a respeito das amostras, conhecer o comportamento da
permeabilidade em funo tanto do campo magntico ( H ext ) como da freqncia da corrente
de sonda aplicada na amostra durante a medida (f). Nesta seo descrevemos a abordagem
utilizada no presente trabalho.
O mtodo parte do trabalho de J. Smit e H.G. Beljers [64] que desenvolveram um
modelo que possibilita calcular a susceptibilidade atravs da densidade de energia livre de um
ferromagneto e de suas derivadas com relao aos ngulos de equilbrio da magnetizao.
Recentemente L. Spinu et. al. [4] realizou ajustes neste mtodo e o estendeu para uma faixa

35

mais ampla de freqncias. Os autores da referncia [3] mostraram que, neste trabalho, de
fato, a distino entre o clculo da susceptibilidade transversal e da FMR , de certa forma,
artificial. Ambos os clculos so, na realidade, a descrio de um processo de magnetizao
em campos magnticos perpendiculares, para os quais a susceptibilidade pode ser calculada
usando a mesma teoria. O que muitos trabalhos traziam como uma aproximao para a
susceptibilidade transversal , na realidade, um limite para freqncias nulas das teorias
desenvolvidas para a FMR. Com o estudo da MI e com a dependncia desta com a
susceptibilidade, uma interpretao mais detalhada que leve em considerao as freqncias
do campo h torna-se necessria. Em altas freqncias surge uma mudana na fase entre o
campo AC gerado pela corrente de sonda e a magnetizao alternada, resultando em uma
componente imaginria da susceptibilidade transversal. Os modelos quase estticos predizem
somente uma parte real para susceptibilidade e importantes informaes sobre a dinmica do
sistema magntico contidas na parte imaginria so perdidas.
O ponto de partida para o clculo da , assim como na teoria da FMR, a equao do
movimento de Landau-Lifshitz-Gilbert (expresso (1) acima) para a magnetizao. A soluo
dessa equao permite encontrar uma forma geral da susceptibilidade magntica transversal
para qualquer sistema magntico, desde que uma expresso para a densidade de energia livre
seja conhecida. Levando-se em considerao que o campo efetivo presente na equao de
LLG dado por H eff = E M e que o campo magntico externo composto por uma
componente DC e uma componente AC, a magnetizao ir sofrer pequenos desvios M. Estes
desvios, para as componentes da magnetizao levam a um sistema de equaes no
homogneas que devem ser revolvidas para obter-se o tensor susceptibilidade magntica do
sistema.
Desta forma, torna-se possvel calcular a permeabilidade magntica utilizando apenas
um modelo, sem a necessidade de diferentes modelos para diferentes faixas de freqncias
como descrito nas sees anteriores. Os ngulos de equilbrio da magnetizao podem ser
obtidos atravs da minimizao da energia magntica livre. Utilizando o sistema de
coordenadas apresentado na Figura 5 e os resultados obtidos na Ref. [4], o elemento do tensor
susceptibilidade magntica xx, para H e H iguais a 90o representa a componente da
susceptibilidade transversal (t)

36

1
Re(t ) = Re( xx ) = 2 + 2 2 r2 2

) E cossin cos

1
+ M S 2 sin 2 M + cos2 M cos2 M

)(

M
2

E E sin 2M cos M

2 sin M

+ E sin 2 M
,(40)

E cos 2 M cos 2 M E sin 2 M cos M

Im( t ) = Im( xx ) = 2 2 2
+
+ E sin 2 M
2

sin

sin

M
M

+ M S (r2 2 ) sin 2 M + cos 2 M cos 2 M

(41)

e onde , r e podem ser escritos respectivamente como

= (r2 2 ) 2 + 2 2 ,

r =
M s sin M

2
1 + 2 E E E
,

E
E +
=

M
sin 2 M
s

(42)

(43)

(44)

Nas expresses (40)-(44) E, E, E e E so as derivadas parciais com relao aos ngulos

de equilbrio e . Essas expresses permitem a obteno da susceptibilidade, como funo
de inmeros parmetros, tais como: Termo de amortecimento (), fator giromagntico (),
freqncia angular da corrente de sonda (), campo magntico externo ( H ext ), magnetizao
de saturao (Ms). As expresses (43) e (44) so conhecidos da teoria da FMR. A expresso
(43) corresponde freqncia de ressonncia e a expresso (44) largura da linha de
absoro. No que segue ser utilizada a relao do cgs entre a Permeabilidade e a
susceptibilidade transversais conforme a expresso
xx = 1 + 4 xx

(45)

37

2.6.1 Permeabilidade vs. Freqncias da Corrente de Sonda

A similaridade da geometria de campos magnticos no interior de uma amostra durante a
realizao de uma medida de FMR e MI possibilita o uso de tcnicas de MI para estudar
propriedades magnticas importantes de amostras magnticas, tais como: comportamento da
permeabilidade magntica em funo do campo e da freqncia, magnitude e disperso das
anisotropias, orientaes de eixos de anisotropias, dentre outras.
Tomando os procedimentos da seo anterior e assumindo Ms = 780 emu/cm3, Ku =
350 ergs/cm3, H = 87o, a espessura da camada magntica de d1 = 1000 nm, largura b = 1 mm,
comprimento de l= 12 mm, a condutividade da camada magntica de = 5.6102(M .cm)-1,
obtm-se o comportamento das partes real e imaginria da permeabilidade em funo da
freqncia mostrado na Figura 14, para diferentes valores de campo magntico ( H ext ). Nessa
figura verifica-se a mudana de sinal da parte real da permeabilidade para o mesmo valor de
campo em que a parte imaginria passa por seu valor mximo, um comportamento tpico da
FMR.

25O e
35O e
45O e
65O e

Permeabilidade

800

400

Im()

R()
-400
10

F re q u e n c ia (H z)
Figura 14: Curvas de permeabilidade magntica em funo da freqncia da corrente de sonda para diferentes
campos. Alguns parmetros importantes utilizados so Ms = 780 emu/cm3, Ku = 350 ergs/cm3, H = 87o, d1 =
1000 nm, b = 1 mm , l = 12 mm e = 5.6 (M .m)-1.

38

2.6.2 Permeabilidade vs. Campo Magntico

O comportamento do efeito MI em funo do campo magntico regido pelo
comportamento da permeabilidade magntica. Nesta seo o comportamento da
permeabilidade magntica calculado para uma amostra na forma de um filme fino com
camada simples e com uma anisotropia uniaxial, com os mesmo parmetros utilizados na
seo 2.6.1 e como representada na Figura 5. O mtodo de minimizao foi o mesmo
utilizado na seo anterior, e os ngulos M e M, correspondentes ao mnimo da densidade de
energia livre magntica, foram calculados e utilizados nos clculos das derivadas. O resultado
mostrado na Figura 15 onde as partes real e imaginria da permeabilidade magntica () em
funo do campo magntico ( H ext ) so graficadas para diferentes valores da freqncia da
corrente de sonda. Os valores de freqncias utilizados mostram que o modelo possibilita
obter a permeabilidade em funo do campo e, consequentemente, da MI para toda faixa de
freqncias. O deslocamento dos picos de permeabilidade em funo do campo e da
freqncia observado na Figura 15 caracteriza a FMR. Na Figura 16 so mostradas as curvas
de permeabilidade em funo do campo para freqncias na faixa de MHz. Nesta faixa de
freqncia, a FMR ainda no est presente e os picos mximos da permeabilidade no se
deslocam, mas apenas variam sua amplitude.
1000 MHz
1200 MHz
1400 MHz
1600 MHz
1800 MHz

Im ()

3000
2000
1000
0

Re()

1000
0

-1000

10

20

30

40

50

H(Oe)
Figura 15: Clculo das partes real e imaginria da permeabilidade magntica calculadas em funo da
freqncia para diferentes campos H ext . A faixa de freqncia escolhida foi estabelecida para a obteno de
caractersticas de FMR. Os parmetros utilizados foram: Ms = 780 emu/cm3, = 18106 Oe-1s-1, Ku = 350
ergs/cm3, = 0,01, l = 12 mm, b = 1 mm, e d1 = 1000 nm.

39

60000

5 MHz
10MHz
15MHz
20MHz

Im ()

40000

20000

Re()

120000
0

80000

40000

0
0,6

0,8

1,0

1,2

H(Oe)
Figura 16: Clculo da parte real e imaginria da permeabilidade magntica em funo do campo magntico
externo para vrios valores de freqncia da corrente de sonda. Freqncias da corrente de sonda na faixa de
MHz. Os parmetros utilizados foram: Ms = 780 emu/cm3, = 18106 Oe-1s-1, Ku = 350 ergs/cm3, = 0,01, l =
12 mm, b = 1 mm, e d1 = 1000 nm.

2.6.3 Relao de Disperso da FMR

De posse das freqncias r e do campo H ext onde ocorre a FMR, possvel levantar
relao de disperso fr Hext. Esta curva traz informaes importantes sobre o eixo fcil da
amostra, disperso da anisotropia, assim como o desvio do campo magntico H ext com
relao ao eixo de anisotropia da amostra. Na Figura 17 so apresentadas as curvas de
disperso para a mesma amostra usada nas das sees anteriores a esta. Verifica-se claramente
uma forte dependncia da curva com o alinhamento entre o campo H ext e o eixo fcil definido
por u k . Da figura observa-se que, para uma amostra ideal com anisotropia uniaxial,
teoricamente possvel obter FMR para freqncias da corrente de sonda muito baixas. No
entanto, um pequeno desvio de H ext com relao ao eixo de anisotropia ou uma pequena
disperso da anisotropia j so suficiente para elevar a freqncia de ressonncia.

40

Frequencia de Ressonncia

89.9
0
88
0
86
0
0

0.0

0.5

1.0

1.5

2.0

H(Oe)
Figura 17: Curvas de disperso para um sistema uniaxial com Ms = 780 emu/cm3, = 18106 Oe-1s-1, Ku = 350
ergs/cm3, = 0,01, l = 12 mm, b = 1 mm, d1 = 1000 nm. So apresentados nesta figura diferentes ngulos entre
o campo magntico H ext e o eixo de anisotropia u k .

2.7

Magnetoimpedncia em Multicamadas Ferromagneto/Metal

A Magnetoimpedncia em filmes finos na forma de tri-camada necessita uma

descrio terica diferenciada da apresentada nas sees anteriores para um filme com
camada simples. Os clculos aqui apresentados foram desenvolvidos por Panina et al [3] e
esto baseados inteiramente na soluo de problemas de contorno da eletrodinmica clssica.
Na Figura 18 (a) est representada a estrutura de tri-camada estudada por Panina, com
a indicao dos parmetros geomtricos importantes para o desenvolvimento dos clculos da
impedncia. A tri-camada com largura 2b (eixo y) e comprimento l (eixo z), contm uma
camada metlica no magntica (M) com espessura 2d1 e duas outras camadas
ferromagnticas (F) de espessura d2. Fazendo passar por essa estrutura uma corrente AC na
forma I = Io exp(-it) na direo do eixo z, e um campo magntico H ext na mesma direo,
as dimenses d1, d2 e b passam a ser importantes para determinar o comportamento da
impedncia do filme com o campo externo H ext e f . Neste modelo o filme considerado

41

como sendo infinito na direo y, tornando relevantes apenas as componentes x e y do campo

AC.
Assumindo-se que as camadas magnticas tenham apenas anisotropia uniaxial na
direo y, e que a estrutura de domnios seja composta por domnios de 180 como as
presentes na Figura 18(b).
DOMNIO +

x
d2

d1

2d

DOMNIO -

DOMNIO +

2b

(b)

(a)

(b)

Figura 18: Estrutura de um filme tri-camada (a) seo transversal x-y (b) representao da estrutura magntica
no plano y-z do filme.

Se a voltagem V nas extremidades do filme medida, a impedncia Z da estrutura

definida como
Z=

V
,
I

x=d

I=

y =b

j ( x, y )dxdy

(46)

x = d y = b

Onde j(x, y) a distribuio da densidade de corrente e d = d1+ d2. Para o desenvolvimento

dos clculos posteriores conveniente escrever a densidade de corrente em termos dos
r

potencias vetor A e escalar , usando as equaes de Maxwell para o campo eltrico E e o

r

campo magntico e a lei de Ohm microscpica j = E

E =

1 A
,
c t

(47)

H = A, H = j. ,

(48)

onde a condutividade e o tensor permeabilidade.

r

Em uma aproximao linear, o vetor magnetizao M representado como sendo

r
M = M 0 + m(t ) , onde M 0 a magnetizao esttica direcionada de um ngulo e - com

42

relao ao eixo y, como representado na Figura 18. A magnetizao varivel m(t) uma
funo linear do campo h associado a corrente I.

m = h .

(49)

Nesta expresso, o tensor susceptibilidade. Para freqncias suficientemente altas,

o principal processo de magnetizao a rotao dos momentos. Neste caso, determinado
pela soluo da equao de Landau-Lifschitz linearizada. Depois de tomar-se a mdia sobre
todos os domnios, resta a forma quase diagonal para o tensor permeabilidade
.
1

= a
0

a
2
0

0 ,
3

(50)

onde se assume = 1 + 4 . A partir das equaes (47) e (48), obtm-se a seguinte equao
para as componentes do potencial vetor da camada no magntica ao longo do campo externo
Az = A1 obtida para a camada no magntica,
2 A1
x

2 A1
y

= k12 A1

4
J1 ,
c

(51)

onde

k1 =

1+ i

, 1 =

c
2 1

, J1 = 1

V
= 1 ,
z
I

(52)

e 1 a condutividade da camada metlica. No caso das camadas magnticas, Az = A2, a

expresso na forma

onde

2 A2
x 2

+ 1

2 A2
y 2

= k 22 A2 J 2 ,

(53)

43

k2 =

1+ i

, 2 =

2 2

, J 2 = 2

V
=2 .
z
I

(54)

Nessa ltima, 2 a condutividade das camadas magnticas. Os parmetros 1 e 2 so as

componentes correspondentes do tensor permeabilidade inverso 1 = 1 .
r

A condio de continuidade para as componentes tangenciais de E e H na interface

metal/ferromagneto (x = d1)
A1
A
A
( d1 , y ) = a 2 ( d1 , y ) + 2 2 ( d1 , y ) ,
x
y
x

A1 (d1 , y) = A2 (d ) ,

A1
A
(d1 , y ) = 2 (d1 , y ) .
y
y

(55)

(56)

(57)

As condies de contorno na superfcie externa x = d e y = b requerem aproximaes.

Na anlise das tri-camada metal/ferromagneto, o fluxo magntico AC na superfcie externa
pequeno e pode ser negligenciado. Isto implica que b y = ( H ) y , calculado sobre a meia
espessura torna-se nulo para y = b. Assim,
0

by ( x,b)dx = by ( x,b)dx .

(58)

Em termos do potencial vetor e levando em conta a simetria, a equao anterior torna-se

A2 (d , b) = A1 (0, b) .

(59)

O fluxo magntico normal atravs da superfcie externa x = d tambm considerado

pequeno e pode ser negligenciado, o que permite assumir que d << b (que o caso de filmes
finos). Isso significa que a componente x da induo magntica zero em x = d ou A2 (d, y)
= constante. Essa constante pode ser encontrada considerando-se a relao entre a voltagem e
o valor do campo eltrico na superfcie [65]

44

Ez 2 (d , y) =

V i LeI
+
,
l c2 l

(60)

onde Le a indutncia externa que depende somente da geometria do filme. A ltima

condio de contorno satisfeita fazendo
A2 ( d , y ) =

Le
I.
lc

(61)

As solues gerais para A1 e A2, considerando as condies de simetria e a independncia de y

para x = d, so
A1 = D1 sin 1 x sinh 1 y + D2 cos 1 x cosh 1 y + D3 cosh ik1 x

4
J2 ,
ck22

~
4
A2 = sin 2 (d x) (C1 sinh 2 y + C2 cosh 2 y + C3 sinh ik2 x 2 J 2 ,
ck2

(62)

(63)

onde as constantes de propagao so relacionadas por

12 + 12 = k12 ,

(64)

~
k
221 + 22 2 = k22 , k2 = 2 .

(65)

A dependncia de A1 em relao y implica na existncia de um fluxo magntico AC normal

camada metlica. Calculando a distribuio de corrente no filme, a impedncia pode ser
encontrada atravs da expresso

Z=R
onde R =

f1 ( x1 , x2 )(x1 + x2 )
,
x2 ( f1 ( x1 , x2 ) 4) g (b) + f 2 ( x1 , x2 )

(66)

l
( 1d1 + 2 d 2 ) a resistncia DC,
4b
f1 ( x1 , x2 ) = cosh x1 cosh x2 + sinh x1 sinh x2 ,

f 2 ( x1 , x2 ) = cosh x1 sinh x2 + sinh x1 cosh x2 ,

(67)

(68)

45

d
tan 2 2

tan b 1d1 sin 1d1

2

g (b) =

+
cos 1d1 ,

b 2 d 2 1d1
2 d 2

(69)

e, finalmente

~
1
k
x1 = ik1d1 , x2 = ik 2 d 2 , = ~ 1 =
.
2 2
k2 2

(70)

Os parmetros de propagao 1 e 2 so encontrados a partir da equao de disperso (no

confundir com relao de disperso da FMR)

2 212 tan 2 d 2 + ( 2222 ( a2 2 + 12 ) tan 2 2 d 2 ) tan 21d1 = 0

22 2 = k22 + (12 k12 )1

(71)

Analisando as expresses acima, em particular a expresso para g(b), pode-se perceber que
para b>>1 a mesma tende a zero e a equao para a impedncia se reduz conhecida
expresso para um filme infinito na direo y [3].

2.7.1 Clculo da Impedncia

A seguir, sero apresentados alguns resultados obtidos utilizando-se a permeabilidade

calculada nas sees 2.6 e o modelo proposto por L. V. Panina descrito na seo 2.7. So
apresentados os resultados para duas faixas de freqncias: 20-100MHz e 800-1800MHz.
Na Figura 19 so apresentadas as curvas de R, X H para a freqncias de 20100MHz. Nessa figura verifica-se um aumento na parte real e imaginria da impedncia com
o aumento da freqncia de sonda. O pico observado est localizado no campo Hk (para a
amostra em questo) que est diretamente relacionado com as constantes de anisotropia do
material. O campo magntico externo esta alinhado com o eixo y conforme Figura 5, de modo
que a permeabilidade calculada a transversal. O valor mximo do H ext usado nos clculos
foi de 300 Oe. Entretanto na Figura 19 somente uma faixa pequena de campo foi usada para
evidencia o comportamento na regio do pico.
Na Figura 20 so mostrados os resultados para dos clculos de impedncia para a faixa
de freqncia de 800-1800MHz. De acordo com o modelo para esta faixa de freqncias, o

46

comportamento do efeito MI para uma tri-camada deve recair no comportamento clssico de

uma camada simples, pois o forte efeito skin fora a corrente a se concentrar apenas na
parte ferromagntica do sanduche. A mudana de sinal de X no mesmo valor de campo em
que R tem um mximo evidncia da FMR na amostra. Como nas sees 2.6 e 2.7 para obter
os mesmo resultados foram usados os valores: Ms = 780 emu/cm3, = 18106 Oe-1s-1, =
0,01, K1 = 550 ergs/cm3, d1 = 1000 nm, d2 = 500 nm, l = 12 mm, b = 2 mm.
A partir destas curvas, torna-se possvel realizar o ajuste das curvas de MI
experimentais, variando os seguintes parmetros: o fator giromagntico (), constantes de
amortecimento () e as constantes de anisotropia (K1). Vale ressaltar que os clculos
realizados at o momento levaram em considerao apenas o comportamento magntico da
impedncia. No entanto, para os ajustes e futuras simulaes o comportamento eltrico deve
ser levado em considerao. Isso produzir modificaes nas curvas, principalmente no que se
refere a magnitude do efeito MI em funo da freqncia.

20 MHz
40 MHz
80 MHz
100 MHz

10

Re()

8
6
4
2
0

Im ()

0
0

10

H(Oe)
Figura 19: Simulaes para Magnetoimpedncia utilizando o modelo da seo 2.6 e 2.7 para a faixa de
freqncias 20-100MHz (Ms = 780 emu/cm3, = 18106 Oe-1s-1, = 0,01, k1 = 550 ergs/cm3, d1 = 1000 nm, d2
= 500 nm, l = 12 mm, b = 2 mm)

47

16

800MHz
1000MHz
1500MHz
1800MHz

Re()

12
8
4

Im ()

0
10

-10
0

50

100

H(Oe)
Figura 20: Simulaes para Magnetoimpedncia utilizando o modelo da seo 2.6 e 2.7 para a faixa de
freqncias 80-1800MHz (Ms = 780 emu/cm3, = 18106 Oe-1s-1, = 0,01, k1 = 550 ergs/cm3, d1 = 1000 nm, d2
= 500 nm, l = 12 mm, b = 2 mm)

48

3.1

Procedimento Experimental

Preparao das Amostras

As amostras aqui utilizadas foram produzidas pela tcnica de Magnetron Sputtering a
partir de alvos sinterizados a frio. No que segue cada etapa deste procedimento ser
discutido em mais detalhes.

3.1.1 Produo de Alvos

Os alvos para a deposio dos filmes deste trabalho foram produzidos no LMMM a
partir de ps de Fe, B, Ni, Si, Cu e Nb, com 99,99 % de pureza, conforme informado pelo
fabricante (CERAC TM. Incorporated). Foram produzidos alvos com 2 de dimetro, para
encaixe nos canhes existentes do sistema do LMMM e com a composio nominal. O
processo de produo se d basicamente pela mistura dos ps, em volumes determinados pela
composio da liga desejada, em um cadinho por aproximadamente 20 min. Aps a mistura o
p colocado em uma forma de Cu de 2 e prensado a 55 Ton por aproximadamente 1 hora.
Na Figura 21 (a) e (b) so apresentadas fotos do sistema de prensagem e do bushing de 2
utilizado para a confeco dos alvos.

(a)
Figura 21: Sistema para a prensagem dos alvos para o Sputtering (a) Prensa. (b) bushing.

(b)

49

3.2

Deposio dos Filmes

Para fabricar os filmes foi utilizado o mtodo de deposio por magnetron sputtering

(desbaste inico) que consiste na acelerao de ons de argnio em direo ao alvo. Os ons
colidem com o alvo arrancando fragmentos do material (mantida a composio nominal) que
se deseja depositar. Esses fragmentos so depositados em um substrato localizado sobre o
alvo. Na tcnica de Magnetron Sputtering canhes tm um circuito magntico que
aumentam a taxa de deposio. Esse mtodo possibilita o crescimento de camadas com boa
uniformidade de espessura e composio em reas de cerca de 15 cm2. A ionizao e a
acelerao dos ons de Argnio podem ser feitas por fontes DC ou RF dependendo da
natureza do alvo (condutor ou isolante) utilizado. possvel tambm realizar deposio por
sputtering reativo utilizando outros gases, como por exemplo, O ou N juntamente com o Ar
durante a deposio. Com a variao dos parmetros como, a presso dos gases, a tenso e a
corrente da fonte DC ou a potncia entregue ao plasma pela fonte RF, pode-se controlar a
estrutura da amostra produzida [66]. No caso de materiais ferromagnticos esses parmetros
afetam, principalmente, o stress armazenado no filme e, consequentemente, a anisotropia
magnetoelstica efetiva presente no filme final. O stress resulta da energia com que as
partculas arrancadas do alvo se condensam ou colidem no substrato [67].
O sistema de Magnetron Sputtering do LMMM pode alcanar presso de base de at
-7

2 10 Torr, em aproximadamente 1h de bombeamento. Para isso, conta com um sistema de

bomba mecnica e uma difusora de alta capacidade. A cmara do sistema possui 4 canhes. O
posicionamento e movimento do substrato sobre um determinado canho assim como o
posicionamento do shutter feito atravs de um sistema de motores de passo de resoluo de
10.000 pulsos por volta. As amostras podem tanto ser crescidas com o substrato parado
quanto em movimento (o que permite uma maior uniformidade do filme ao longo do
substrato). A presso dos gases utilizados durante a deposio controlada por controladores
de fluxo entre 0 e 200 sccm. (standard cubic centimeters per minute) e por um manmetro
capacitivo de alta resoluo (Baratron) ambos controlados por um computador do tipo PC.
Um campo de aproximadamente 100 Oe devido ao im do canho de sputtering possibilita a
induo de um eixo fcil de magnetizao durante a deposio dos filmes.

3.3

Calibrao da Espessura

50

Tanto para a calibrao das taxas de deposio quanto para a anlise estrutural das
amostras estudadas utilizada difrao de raios-X. As calibraes das taxas de deposio so
feitas atravs de difrao de raios-X a baixo ngulo (2o-10o) no qual os picos de reflexo so
associados vetor de onda q. A inclinao da curva q n (n o ndice do pico) fornece a
espessura do filme. Na Figura 22 (a) mostrado o padro de difrao de raios-X e a
calibrao para a taxa de deposio de um alvo de Fe73.5Cu1Nb3Si13.5B9. O filme foi exposto
ao plasma por um perodo de aproximadamente 300 segundos, sob uma presso de 5.2 mTorr
de Ar, fluxo de 20 sccm de Ar e potncia da fonte 50W (RF). De acordo com a Figura 22(b)
uma espessura de 441 foi obtida par esse filme, resultando em uma taxa de deposio de
aproximadamente 1,4 /s. O mesmo procedimento realizado a cada alvo utilizado. A
calibrao para os alvos realizada a cada srie de deposies, pois h desgaste dos alvos, o
que acarreta mudanas na taxa de deposio para os mesmos parmetros.

Contagem

2,24

2,44

0.24

2,63

2,83

0.20

3,03

(a)
2.0

=441

0.28

2.5

3.0

tg()=2/

o
o

3,23

3,44 3,63o

3.5

3,82

(b)

0.16
4.0

10

indice

Figura 22: Padro de difrao de Raios-X para um filme de Fe73.5Cu1Nb3Si13.5B9 depositado sobre um substrato
de vidro. Em (a) podem ser observado os picos e sua indexao utilizadas para calibrao. (b) Grfico do vetor
de espalhamento q em funo do ndice n. Como indicado a inclinao deste grfico dada por 2/, onde a
espessura do filme.

3.4

Caracterizao Magntica (Quase Esttica)

Todas as medidas de magnetizao realizadas neste trabalho foram feitas em um

magnetmetro de amostra vibrante com sensibilidade e 10-5 emu e com campos mximos de
300 Oe fornecidos por uma bobina de Helmoltz. Uma fonte de Tenso/Corrente da marca
Kepco de 20A e um conversor digital-analgico compem o sistema de medidas. Um lock-in

51

SR830 mede a tenso induzida nas bobinas sensoras e controla a fonte de corrente. O VSM
utilizado para realizao das medidas de magnetizao desta pesquisa foi montado no prprio
LMMM, e a configurao das bobinas sensoras foi a proposta por Malinson [68], contando
com quatro bobinas ligadas duas a duas em paralelo e um par em contra-fase com o outro. O
atuador mecnico foi montado com dois ims de alto falantes com suas respectivas bobinas
conforme a Figura 23 (b). O atuador est desacoplado mecanicamente do sistema de deteco
(bobinas sensoras e bobinas de Helmoltz), de forma a aumentar a relao sinal/rudo.

Figura 23: (a) Representao esquemtica do VSM construdo no LMMM. As bobinas sensoras seguiram a
geometria descrita por Mallinson [68]. (b) detalhe do atuador montado para o VSM que conta com duas molas e
dois ims de alto falante com suas respectivas bobinas.

3.5

Caracterizao da estrutura de domins magnticos

A estrutura de domnios magnticos foi observada utilizando-se o efeito Kerr

magneto-ptico. O efeito Kerr consiste na rotao do plano de polarizao de um feixe de luz

plano-polarizada aps interao deste com a magnetizao da amostra. Por muito tempo este
efeito foi considerado um mtodo difcil, principalmente pelo aparato experimental necessrio
e pela falta de software que realizasse o tratamento adequado das imagens [69]. No entanto,
com o desenvolvimento de cmaras CCD e de uma grande quantidade de softwares de
tratamento de imagens, estabeleceram-se novas condies para observao de domnios por
efeito Kerr magneto-ptico. A descrio detalhada da tcnica pode ser encontrada na
referncia [69].
A configurao do aparato experimental para a observao do Efeito Kerr mais
comum est representada na Figura 24. Este tipo de equipamento recomendado para

52

aplicaes de baixa resoluo. A vantagem desta configurao frente a outras com maior
resoluo est na no existncia de elementos pticos entre o polarizador e o local de anlise.
Assim, as condies de contraste so otimizadas. Uma imagem tpica obtida com um sistema
deste tipo mostrada na Figura 25 para uma multicamada ferromagneto/metal (no
magntico), onde pode-se observar uma estrutura de domnios de 180o. Esta observao foi
realizada em campos prximos ao campo coercivo. Nesta figura a seqncia de duas imagens
foi obtida com campos de intensidades de 0.8 e 1.3 Oe. Em ambas as situaes o campo
magntico foi aplicado na direo vertical pgina, coincidindo com a direo do eixo
principal da amostra que tinha dimenses de 122 mm2. Como se pode observar na figura, os
domnios mais favoravelmente orientados em relao ao campo (mais escuros) aumentam seu
volume com o aumento do campo, ao mesmo tempo em que domnios com orientaes menos
favorveis (mais claros) diminuem seu tamanho.

1
2

3
8

7
5

Amostra

Figura 24: Esquema de um microscpio para efeito Kerr de baixa resoluo e alto contraste. Neste caso so
utilizadas lentes objetivas com amplos ngulos de abertura que podem ser inclinadas para diminuir a distoro.
Ainda nesta figura, os nmeros equivalem a: 1 - Lmpada de vapor de Mercrio. 2 Filtro para comprimento de
onda no amarelo. 3 Colimador. 4 Espelho. 5 Polarizador. 6 Analizador. 7 Lente objetiva. 8 Cmera.

53

M
H

H
50 m

50 m

Figura 25: Imagens de domnios magnticos obtidas por efeito Kerr para a amostra na forma de multicamadas
ferromagntico/Metal. Na imagem da esquerda um campo magntico de 0.8 Oe foi aplicado durante a captura. J
para a figura da direita o campo foi aumentado para 1.3 Oe.

3.6

Magnetoimpedncia e Resposta em Altas Freqncias

As medidas de Magnetoimpedncia foram realizadas em um analisador de

impedncia da marca HP modelo 4366B utilizando um kit de teste de impedncias HP

43961A. Este tipo de equipamento permite medir a tenso e a corrente sobre uma amostra e
calcula diretamente a parte real e imaginria da impedncia a partir da relao V/I. A faixa de
freqncias de trabalho para medidas de MI 100 kHz - 1.8 GHz. A calibrao feita a partir
de um padro de aberto, curto e carga, como mostrado na Figura 26 (a). Com isso possvel
calibrar o kit at o conector onde ser colocada o porta amostra com a amostra a ser
analisada. Desta forma, a variao da impedncia do sistema ser devida exclusivamente a
amostra e ao porta-amostra utilizado, sendo estes ltimos extrados posteriormente. O contato
eltrico da amostra com a cavidade do tipo strip line realizado com cola prata e a cura
feita durante aproximadamente 6 horas para cada amostra antes da realizao da medida.
O equipamento HP se comunica com um computador atravs de interface GPIB e
um programa em HPVee foi desenvolvido para a controle do experimento. O analisador varia
a freqncia dentro da faixa de freqncias estipulada para cada valor de campo magntico,
que varia entre 300 Oe. O clculo da variao percentual da impedncia em funo do
campo magntico realizado tomando por base o estado magntico no maior campo aplicado
sobre a amostra, usando a relao

54

Z ( H ) Z ( H Max )
MI (%) =
100 .
Z ( H Max )

(72)

(a)

(b)
Figura 26: (a) Sistema de medidas de MI, mostrando o conjunto de calibrao. Na figura da direita
apresentado o procedimento padro de aberto, curto e carga para o casamento da impedncia do kit com o
analisador em 50 . (b) Cavidade tipo strip line desenvolvida para a medida da impedncia. A linha tracejada
mostra o plano de referencia para a calibrao do equipamento. A partir desta linha, a variao da impedncia
conseqncia da variao da impedncia e do porta-amostra.

55

4
4.1

Resultados e Discusso
Amostras Produzidas
As amostras estudadas neste trabalho foram produzidas na geometria de sanduche

como mostrado na Figura 27. Para obter essa geometria foram utilizadas mscaras de cobre
durante a deposio. A configurao das amostras apresentada na Figura 27 (a) e (b), onde l
= 12 mm, WF = 2 mm e Wm foi variada de 0,25 mm at 1mm. O ncleo metlico para contato
eltrico tem um comprimento de 16 mm. Uma camada de SiO2 (parte branca na Figura 27(a)),
com aproximadamente 300 nm de espessura e com a mesma largura e comprimento da
multicamada, foi adicionada como uma tentativa de obter isolamento eltrico entre a camada
ferromagntica e a camada metlica no magntica. As multicamadas utilizadas para este
trabalho apresentam diferentes propriedades magnticas, principalmente no que se refere a
anisotropia magnetoelstica e condutividade eltrica efetiva. Na Figura 27(c) apresentada a
seqncia de deposio das camadas. Todas as amostras foram crescidas sobre substratos de
vidro e com um buffer de 5 nm de Ta. A Tabela 1 mostra as caractersticas principais das
amostras produzidas, assim como suas codificaes para posteriores referncia neste texto. O
crescimento dos filmes foi realizado seguindo os seguintes passos:
Deposio de 5 nm de Ta sobre o substrato de vidro;
Deposio da multicamada desejada com dimenses de 122 mm2 empregando
para isso mscaras;
Deposio por RF sputtering de uma camada de SiO2 com aproximadamente
300 nm com as mesmas dimenses que a multicamada depositada no passo anterior;
Abertura da cmara para a troca de mscara e ajuste da mscara com a largura
Wm varivel e comprimento de 16 mm;
Deposio de 1000 nm de Cu (Ag) para a formao da camada metlica;
Abertura novamente da cmara para o retorno da primeira mscara e deposio
de outra camada de SiO2;
Finalmente, a deposio da outra multicamada formando assim o sanduche.

56

Wm

Wm

(a)

(b)

(c)
Figura 27: Estrutura da amostra estudada neste trabalho. F equivale a uma multicamada magntica com
diferentes tipos de ferromagneto e M uma camada simples metlica no magntica. Wm a largura da parte
metlica, WF a largura da multicamada e l o comprimento da multicamada. (a) Vista da seco transversal (b)
Vista superior da amostra j estruturada. (c) Forma como foi estruturada a amostra sobre substrato de vidro. Na
camada metlica no magntica foi utilizado Cu ou Ag.

Tabela 1: Caractersticas das amostras estudadas

Cdigo

Estrutura

Largura
Wm (mm)

Largura
WF(mm)

ML1

[Fe73.5Cu1Nb3Si13.5B9 (10 nm) / Cu (1 nm)]50

--------

2,00

ML2

[Ni81Fe19 (10 nm) / Cu (1nm)] 50

--------

2,00

ML3

[Ni81Fe19(10 nm) / Ag(2.5 nm)] 50

--------

2,00

A1

ML1 / SiO2 / Cu (1000 nm) /SiO2 / ML1

0,25

2,00

A2

ML1 / SiO2 / Cu (1000 nm) /SiO2 / ML1

0,50

2,00

A3

ML1 / SiO2 / Cu (1000 nm) /SiO2 / ML1

0,75

2,00

A4

ML1 / SiO2 / Cu (1000 nm) /SiO2 / ML1

1,00

2,00

B1

ML2 / SiO2 / Cu (1000 nm) /SiO2 / ML2

0,25

2,00

B2

ML2 / SiO2 / Cu (1000 nm) /SiO2 / ML2

0,50

2,00

B3

ML2 / SiO2 / Cu (1000 nm) /SiO2 / ML2

0,75

2,00

B4

ML2 / SiO2 / Cu (1000 nm) /SiO2 / ML2

1,00

2,00

C1

ML3 / SiO2 / Ag (1000 nm) /SiO2 / ML3

0,25

2,00

C2

ML3 / SiO2 / Ag (1000 nm) /SiO2 / ML3

0,50

2,00

C3

ML3 / SiO2 / Ag (1000 nm) /SiO2 / ML3

0,75

2,00

C4

ML3 / SiO2 / Ag (1000 nm) /SiO2 / ML3

1,00

2,00

57

A seguir sero expostos os resultados obtidos. O desenvolvimento dos programas

computacionais utilizados para posteriores simulaes e anlises de parmetros importantes j
foram expostos em sees anteriores, no entanto fazem parte dos resultados alcanados neste
trabalho. Foram realizadas medidas de difrao de Raios-X para caracterizao estrutural,
VSM para caracterizao magntica, microscopia Kerr para analise de domnios magnticos
e, finalmente, medidas de Magnetoimpedncia para a caracterizao magntica dinmica.

4.2 Difrao de Raios X

Os raios-X a baixos ngulos de amostras especialmente produzidas para calibrao da
taxa de deposio sero apresentados adiante. Conhecendo-se a espessura do filme produzido
e o tempo que o mesmo ficou exposto sobre o plasma do canho possvel obter-se uma taxa
de deposio em /s para determinados parmetros de deposio (presso de Ar, fluxo de gs,
potncia do canho, corrente, etc.). O procedimento refeito para diferentes sries de
deposio devido ao desgaste do alvo. Outras calibraes foram realizadas no transcorrer da
produo das amostras. Os espectros de difrao de raios-X a alto ngulo serviram para
identificar a estrutura cristalina das ligas utilizadas na formao dos sanduches. As
amostras estruturadas com o elemento FeCuNbSiB mostraram-se amorfas como depositadas.
Esta caracterstica j havia sido observada em outros trabalhos realizados pelo grupo do
LMMM [40]. As amostras de Py (NiFe) mostram uma estrutura cristalina caracterstica com
orientao cristalogrfica (111) e (200). As medidas foram realizadas em amostras de
espessura de 500 nm (no mostradas). A Figura 28 traz as difraes de raios-X a baixo ngulo
para todos os alvos, assim como o grfico para o vetor de espalhamento em funo do ndice
da indexao do pico de Bragg, que nos traz a informao direta da espessura do filme. A
Tabela 2 traz os valores das taxas de deposio, assim como os valores dos parmetros citados
acima. Estes foram os valores iniciais utilizados para a deposio de todas as sries
apresentadas neste trabalho

58

=441

0,28

Contagem

2,24

2,44

0,24

2,63

2,83

0,20

3,03

3,23

(a)
2.0

2.5

3,44

3.0

3,63

3,82

(b)

3.5

0,16

4.0

2
o

1,25

1,51

10

=303

0.5

1,79

indice

o
o

0.4

Contagem

2,07

2,37

0.3

2,65

2,94

3,22

0.2

3,52

0.1

(c)
2

(d)
0

10

15

20

indice
0.36

2,39

=212

0.32

Contagem

2,81

0.28

3,23

q
3,64

0.24

0.20

4,04

4,45

(e)

(f)

0.16

2.7

3.6

4.5

indice
0.35

2,29

305
0

2,58

0.30
0

2,87

Contagem

3,15

3,44

3,72

0.25

3,99

0.20

4,31

4,62

(g)
2.5

(h)

0.15

3.0

3.5

4.0

4.5

5.0

5.5

10

Indice

Figura 28: Padres de difrao de Raios X a baixos ngulos para a calibrao das taxas de deposio dos alvos
para sputtering. (a) Alvo de FeCuNbSiB. (c) Alvo de NiFe. (e) Alvo de Cu. (g) Alvo de Ag. (b), (d), (f) e (h)
so os grficos do vetor de espalhamento em funo do ndice de bragg para os alvos de FeCuNbSiB, NiFe,
Cu e Ag, respectivamente.

59

Tabela 2: Taxas de deposio e parmetros dos canhes durante a deposio dos filmes.

Alvo

Potncia/Corrente

Taxa de Deposio

Canho

Fe73.5Cu1Nb3Si13.5B9

75W *

2,59 /s

RF

Ni81Fe19

65W*

2,68 /s

RF

Ta

50mA*

1,80 /s

DC

Cu

25mA*

1,49 /s

DC

Ag

10mA*

1,51 /s

DC

* Para todas as calibraes a presso de Ar foi de 5,2 mTorr e o fluxo de 20 sccm.

4.3

Microscopia Kerr
As observaes de domnios por Microscopia Kerr foram realizadas no IF-USP, em

colaborao com o Departamento de Fsica dos Materiais e Mecnica. Foram realizadas

observaes nas amostras ML1 e ML3 em campos prximos ao campo coercivo. Foram
observados domnios de 1800 para ambas. Na amostra ML1 foram realizadas observaes
para dois cortes com relao direo de movimento do substrato sobre o canho durante o
crescimento dos filmes. A amostra cortada na direo perpendicular com dimenso de 122
mm2 mostrou uma orientao de domnios longitudinal ao campo magntico aplicado, o que
permitiu identificar essa direo como eixo fcil de magnetizao (Figura 29a). A amostra
cujo corte foi feito na direo da passagem do substrato sobre o canho, tambm cortado com
dimenses de 122 mm2, apresentou em uma estrutura de domnios com um ngulo de 600
(quando o esperado seria 900 de acordo com o outro corte) com relao a aplicao do campo
(direo vertical do plano da pgina). O desvio observado entre os dois cortes mostrado na
Figura 29b. Uma das razes possvel para esse desvio pode estar relacionada s propriedades
magnticas macias da amostras associada anisotropia de forma e existncia de pontos de
aprisionamento das paredes nas bordas da amostra.
Na Figura 30 so apresentadas as imagens de domnio para a amostra ML3 com o
campo magntico aplicado na direo do eixo de fcil magnetizao da amostra (mesma
direo que a amostra ML1). As imagens foram obtidas com campo magntico de +0,5 Oe e 0,5 Oe. O desvio de 300 observado no alinhamento dos domnios da amostra ML1 esperado
afetar consideravelmente a magnitude o efeito MI.

60

(a)

(b)

M
H

Figura 29: Imagens de domnio da amostra ML1. (a) Corte longitudinal da amostra com o campo aplicado na
direo do eixo fcil. (b) corte transversal e campo aplicado na direo do eixo duro da amostra. Os quadros
brancos indicam a posio da amostra durante a medida

(a)

(b)

M
H

Figura 30: Imagens de microscopia Kerr para a amostra ML3. A figura representa a imagem para campos de
0,5 Oe. O corte da amostra foi com o eixo principal na direo do eixo fcil induzido durante a deposio.
Nesta medida o campo foi aplicado na direo do eixo fcil. (a) Imagem para o campo positivo. (b) Imagem para
o campo negativo. Os quadros brancos indicam a orientao da amostra durante a medida.

4.4

M H (Experimental)
Inicialmente sero apresentaremos as medidas de M H (VSM) para as amostras

ML1, ML2 e ML3, ou seja, as multicamadas que compem os sanduches. Sero discutidos
tambm os efeitos gerados devido ao desvio do eixo de fcil magnetizao, observado nas
imagens de domnios. Todos os grficos aqui apresentados correspondem a medidas
realizadas na direo longitudinal e perpendicular ao movimento da amostra durante a
deposio.

As medidas foram realizadas com campos entre 300 Oe, a temperatura

61

ambiente. Devido saturao ter acontecido para campos prximos a 20 Oe, o eixo dos
campos nos grficos ser limitado a 30 Oe.
Na Figura 31 (a) so apresentadas as medida de magnetizao ao longo do eixo fcil e
duro da amostra ML1. Como observado na figura a disperso da anisotropia mencionada
anteriormente, o movimento das paredes de domnios e o stress acumulado durante o
crescimento das multicamadas fazem com que o campo coercivo do material no seja nulo
para as medidas a 900. Tambm da figura pode ser observado que o campo coercivo para o
eixo fcil da ordem de 1 Oe. A Figura 31(b) mostra as curvas de magnetizao para a
amostra ML2, na qual verifica-se uma anisotropia pequena, se comparada com a ML1.
Entretanto, observado um campo coercivo menor. As medidas para a amostra ML3 (Figura
31c) apresentaram uma anisotropia ainda maior que a apresentada na multicamada ML1. A
utilizao da prata como camada espaadora entre as camadas de Py foi objeto de estudos em
outros trabalhos do LMMM [70]. Nesse foi verificada uma forte anisotropia para camadas de
prata com espessura de 25 . Este resultado foi a razo da escolha das espessuras utilizadas no
presente trabalho.
Comparando-se as curvas de magnetizao para uma camada simples de FeCuNbSiB e
Py ambas com espessura de 100 , verifica-se que as multicamadas mantm suas
propriedades magnticas macias mesmo com o nmero crescente de camadas. Em outras,
palavras amostra na forma de multicamadas vantajoso para as propriedades macias do
material em relao ao mesmo volume de material magntico depositado com um filme
simples. Naturalmente este comportamento observado enquanto a espessura da camada no
magntica for adequada para evitar interaes antiferromagnticas.

62

1,0

0
90

M/Ms

0,5

0,0

-0,5

(a)

-1,0
-30

-20

-10

10

20

30

H(Oe)

1,0

0
90

M/Ms

0,5

0,0

-0,5

(b)

-1,0
-30

-20

-10

10

20

30

H(Oe)

1,0

0
90

M/Ms

0,5

0,0

-0,5

(c)

-1,0
-30

-20

-10

10

20

30

H(Oe)

Figura 31: (a) Medidas de Magnetizao da amostra ML1. A direo 00 equivale a direo do eixo fcil
induzido durante a deposio do filme. Esta induo conseqncia do campo magntico do canho associado
com o movimento do substrato durante a deposio. (b) Medidas de Magnetizao da amostra ML2. As medidas
foram realizadas nas mesmas direes da amostra ML1 e ficou evidente a isotropia da multicamada. (c) Medida
de Magnetizao para amostra ML3.

63

A seguir sero apresentadas as medidas magnticas realizadas com as amostras na

forma de sanduche. Para isso, adaptaes importantes foram realizadas no sistema de
medidas devido s dimenses que as amostras foram produzidas. O objetivo destas medidas
verificar se as propriedades magnticas das multicamadas que compem os sanduches no
sofreram alteraes. Durante a realizao das medidas observou-se que, para diferentes
larguras de camada metlica Wm, o comportamento magntico de cada srie se manteve
praticamente inalterado, encontrando-se apenas variaes na anisotropia. Desta forma, apenas
as medidas realizadas para as amostras B1 e C1 (Figura 32) sero apresentadas neste trabalho.
Estas amostras so compostas de Py/Cu e Py/Ag, como elementos constituintes na formao
do sanduche e ambas apresentam uma largura da camada metlica (ver Figura 27 (c) ) de
Wm = 0,25 mm. Estas medidas podem ser comparadas com as curvas apresentadas na Figura
31(b)-(c), respectivamente. Verifica-se um pequeno aumento na anisotropia para a amostra
estruturada com Py/Cu. A estruturao das amostras na forma de sanduche fez com que o
volume de material magntico fosse duplicado quando comparados ao volume encontrado nas
amostras ML1, ML2 e ML3, o que acarretou em um aumento significativo no sinal das
bobinas sensoras, que proporcional a magnetizao (no mostrado nas figuras). Esse aspecto
importante para as medidas de MI.

64

1,0

0
0
90

M/Ms

0,5

0,0

-0,5

(a)

-1,0
-30

-20

-10

H(Oe)

10

20

30

1,0

0
0
90

M/Ms

0,5

0,0

-0,5

(b)

-1,0
-30

-20

-10

H(Oe)

10

20

30

Figura 32: Curvas de Magnetizao realizadas nas amostras na forma de sanduche. Para cada amostra, foram
realizadas medidas na direo do eixo principal e perpendicular. Em (a) a curva de magnetizao para a amostra
da srie B, que composta por Py/Cu como elemento constituinte do sanduche representada. Nesta curva,
em particular, foi selecionada a amostra B1 com Wm = 0,25 mm. Em (b) a curva para amostra da srie C
composta de Py/Ag como elemento constituinte do sanduche. Neste caso, a amostra selecionada foi a C1 com
Wm = 0,25 mm.

4.5

Simulaes das Curvas de Magnetizao

Nesta seo sero apresentadas algumas simulaes de curvas de magnetizao para as

amostras estudadas. O objetivo destas simulaes encontrar uma configurao energtica

que possibilite descrever o comportamento magntico das amostras estudadas e posterior uso
em clculos da permeabilidade magntica e magnetoimpedancia com o os modelos de Spinu e
Panina [4]. Para as simulaes aqui desenvolvidas assumiu-se que a amostra composta por n
camadas ferromagnticas empilhadas e desacopladas magneticamente. Foram considerados os
seguintes termos para a energia livre ferromagntica: Energia Zeeman, Energia de

65

Anisotropia Uniaxial, Energia Magnetosttica e um termo de Energia de Anisotropia

Magnetoelstica. Esta ltima representada energeticamente como uma tenso orientada por
um vetor que pode ter componentes fora do plano do filme. Este termo necessrio para
descrever as tenses internas que surgem durante o crescimento do filme. Se considerarmos
que as camadas magnticas esto desacopladas devido a espessura do metal (Cu ou Ag), esta
energia vlida tambm para as amostras estruturadas na forma de multicamadas e,
consequentemente, para as amostras na forma de sanduche.
As simulaes foram realizadas com um programa desenvolvido na linguagem
Mathematica considerados os termos de energia acima mencionados e assumindo um desvio
do eixo fcil em relao ao eixo da amostra, que por sua vez est alinhado com o campo
externo seguindo as estruturas de domnio observadas nas amostras ML1, ML2 e ML3 (ver
Figura 29).
Na Figura 33 so apresentadas as simulaes obtidas para a amostra ML1 para um
intervalo de campo de 50 Oe. Para obter essas curvas foram fixados os seguintes
parmetros: Ms = 1030 emu/cm3, Hc = 6 Oe, que conduz a uma constante de anisotropia
uniaxial atravs de k = (HK Ms / 2). O ngulo entre o campo e o eixo de anisotropia foi de k =
300 no plano do filme k = 900.
Na Figura 34 mostrada a simulao para a amostra ML2, para cuja obteno foram
utilizados os parmetros: Ms = 780e emu/cm3, k = 440, k = 900 e Hc = 0,18 Oe, observa-se
uma boa concordncia com os dados experimentais.
Na Figura 35 mostrada a simulao para a amostra ML3, que apresentou a maior
anisotropia dentre as multicamadas produzidas, nesta amostra foram utilizadas: Ms = 780
emu/cm3, k = 100, k = 900 e Hc = 1,7 Oe.
Em todas as curvas apresentadas nesta seo, termos de energia referente a tenses foi
considerado com valor de 150 MPa. O objetivo desta interao incluir nos clculos algum
termo de energia relacionado s tenses internas geradas pelo processo de deposio.

66

ML1 - 0
Simulao

1,0

M/Ms

0,5

0,0

-0,5

(a)

-1,0
-50

50

H(Oe)

ML1-90
Simulao

1,0

M/Ms

0,5

0,0

-0,5

(b)

-1,0

-50

-25

25

50

H(Oe)

Figura 33: Simulaes dos ciclos de histerese para a amostra ML1. Foi utilizado nesta simulao um desvio de
300 para o eixo fcil da amostra. MS = 1030 emu/cm3 , Hc = 6 Oe, k = 300, k = 900. (a) Simulao para a direo
longitudinal. (b) Simulao para a direo transversal.

67

1,0

ML2 (0 )
Simulao

M/Ms

0,5

0,0

-0,5

(a)

-1,0
-50

-25

25

50

H(Oe)

1,0

ML2 (90 )
Simulao

M/Ms

0,5

0,0

-0,5

(b)

-1,0
-50

-25

25

50

H(Oe)

Figura 34: Simulaes dos ciclos de histerese para a amostra ML2. Foram utilizados para esta simulao MS =
780 emu/cm3 , Hc = 0,18 Oe, k = 300, k = 900. Campo magntico aplicado no plano do filme h = 900. (a)
Simulao para a direo de fcil magnetizao. (b) Simulao para a direo de difcil magnetizao.

68

1.0

ML3 (0 )
Simulao

M/Ms

0.5

0.0

-0.5

(a)

-1.0
-50

-25

25

50

H(Oe)

1.0

ML3 (90 )
Simulao

M/Ms

0.5

0.0

-0.5

(b)

-1.0
-50

-25

25

50

Figura 35: Simulaes dos ciclos de histerese para a amostra ML2. Foram utilizados para esta simulao MS =
780 emu/cm3 , Hc = 1,7 Oe, k = 100, k = 900. Campo magntico aplicado no plano do filme h = 900. (a)
Simulao para a direo de fcil magnetizao. (b) Simulao para a direo de difcil magnetizao.

4.6

Magnetoimpedncia: Z H
A seguir, sero apresentados alguns resultados representativos da MI. Foram

escolhidas 3 freqncias que possibilitam visualizar a transio entre as faixas de freqncias

definidas na seo 2.5. A freqncia de 100 MHz foi selecionada devido ao fato do valor
mximo de MI% ter ocorrido nas vizinhanas desta freqncia. As outras duas freqncias
foram 530 MHz e 1.8 GHz, para as quais foram verificadas evidncias de FMR (mudana na
estrutura e posio dos picos nas curvas de Z H). Os resultados sero apresentados e

69

discutidos conforme as sries de amostras apresentadas na Tabela 1. Sero apresentados e

discutidos ainda nesta seo os grficos de MImax vs. f .
4.6.1 Curvas de Z H - Srie A
A srie A, apresentada na Tabela 1, tem como elemento ferromagntico constituinte
do sanduche uma multicamada de [Fe73.5Cu1Nb3Si13.5B9 (10 nm) / Cu (1 nm)] 50 e a
camada metlica no magntica de Cu (1000 nm) com larguras (Wm) que variaram de 0,25-1,0
mm, com o intuito de alterar o fluxo de campo atuante sobre a parte ferromagntica do
sanduche. Apesar da tentativa de isolamento com SiO2 (300 nm) entre a camada metlica e
as multicamadas citadas acima, o isolamento total no ocorreu, possibilitando com que a
corrente alternada em altas freqncias se concentrasse sobre a multicamada devido ao efeito
skin. Maiores comentrios a respeito deste efeito sero feitos quando os resultados de MImax

f forem expostos. Para esta srie os resultados sero apresentados na seqncia crescente de
Wm.
Na Figura 36, apresentada a parte real e imaginria da impedncia da amostra A1
(Wm = 0,25 mm) em funo do campo. Variaes considerveis da impedncia com o campo
foram observadas para freqncias da ordem de MHz. No entanto, para esta faixa de
freqncias a relao sinal/rudo mostrou-se muito pequena. Esse comportamento diferente
do de uma multicamada sem a insero da camada metlica no magntica para formao da
estrutura de sanduche (ver Figura 27(c)). A insero desta camada metlica no magntica
diminui consideravelmente a resistividade do filme e possibilita o surgimento do efeito
magnetoindutivo, principal responsvel pelo efeito MI neste tipo de estrutura. Como pode ser
visto ainda nesta figura, a parte imaginria da impedncia para as freqncias de 100 MHz e
530 MHz sofreram uma considervel mudana, que inclui o deslocando do pico mximo de
X(H), o que caracteriza um efeito magnetoindutivo, como mencionado na seo 2.7. Neste
caso, a passagem da corrente somente pela camada metlica no magntica induzir um
campo magntico que circular a parte ferromagntica do sanduche (as multicamadas para
este trabalho) alterando assim a configurao magntica da mesma. O reflexo disso nas
medidas de MI a variao da indutncia. Para freqncias da ordem de GHz, os picos
deslocam-se para campos mais elevados e um novo pico invertido surge para campo prximo
de zero. Esta caracterstica das curvas evidencia o surgimento da ressonncia ferromagntica
(FMR), de maneira similar ao observado nas curvas de permeabilidade da Figura 15. Para
freqncias relativamente baixas, a posio praticamente no muda, de maneira similar ao

70

verificado teoricamente na Figura 16 onde, tanto a parte imaginria quanto a parte real da
impedncia apresentam um estrutura de picos duplos associados ao campo de anisotropia Hk.
Comparando-se as medidas de MI em funo de largura Wm da camada metlica, que faz com
que o fluxo magntico seja diferente para cada estrutura, observa-se uma clara mudana no
comportamento. As amostras A2 (Figura 37) e a A4 (Figura 39) apresentaram uma estrutura
de pico duplo muito bem definida desde freqncias baixas.
Para amostras com Wm de 0,25 mm e 0,75 mm, a estrutura de picos duplos tambm
esteve presente, porm os picos tm menor intensidade do que nas amostras anteriores. Este
efeito pode ser explicado se considerarmos uma melhor distribuio do campo magntico
alternado, gerado pela corrente de sonda, sobre a parte ferromagntica do sanduche. Se
considerarmos uma distribuio de campo na forma apresentada na Figura 40, a induo de
uma permeabilidade transversal ao eixo principal do filme torna-se mais relevante para
amostras com WF e Wm determinados.
O desvio da anisotropia uniaxial com relao ao campo magntico afeta diretamente a
faixa de freqncia onde o efeito FMR pode ser observado. Como mostrado na Figura 17, um
pequeno desvio do eixo de fcil magnetizao acarreta o surgimento da FMR somente em
freqncias altas. Como observado nas Figuras 37 e 39 a FMR para as amostras A2 e A4
surge para freqncias da corrente de sonda menores do que o observado nas Figuras 36 e 38
para as amostras A1 e A3, respectivamente. Essa diferena conseqncia de um maior
volume magntico afetado pelo campo magntico gerado pela corrente de sonda nas amostras
A2 e A4.
A camada de SiO2 no gerou o isolamento eltrico ideal entre os componentes do
sanduche devido baixa espessura depositada. Com isso, variaes considerveis da MI a
freqncias altas (~GHz) foram observadas em todas as amostras desta srie. Dessa forma,
pode-se concluir que a corrente de sonda concentrou-se sobre a parte ferromagntica do
sanduche devido ao efeito skin. Contudo, as propriedades magnticas observadas nas
imagens de domnio e nas medidas de magnetizao demonstraram uma anisotropia na
direo perpendicular ao eixo principal do filme. Este fato, associado direo do campo
magntico e da corrente durante a medida, implicou no comportamento de picos duplos
observado em baixas freqncias (ver Figuras 36-39) [34].

71

100MHz
Re()

Im ()

-300

-200

-100

100

200

300

H(Oe)
530MHz
Re()

16

12

Im ()

10

9
-300

-200

-100

100

200

300

H(Oe)
1800MHz

100

Re()

90
80
70
60
50
30
20

Im ()

10
0
-10
-20
-30
-40
-300

-200

-100

100

200

300

H(Oe)

Figura 36: Partes Real e Imaginria da impedncia da amostra A1 para trs diferentes freqncias da corrente
de sonda. 100, 530, 1800 MHz. As caractersticas da amostra so Wm = 0,25 mm, WF = 2 mm.

72

100 MHz

Re()

4.0
3.5
3.0
2.5
4.0

Im ()

3.5
3.0
2.5
2.0
1.5
-300

-200

-100

100

200

300

H(Oe)

Re()

16

530MHz

12

Im ()

10

-300

-200

-100

100

200

300

H(Oe)
1800MHz

72

Re()

60
48
36
24
30

Im ()

20
10
0
-10
-20
-30
-300

-200

-100

100

200

300

H(Oe)

Figura 37: Partes Real e Imaginria da impedncia da amostra A2 para trs diferentes freqncias da corrente
de sonda. 100, 530, 1800 MHz. As caractersticas da amostra so Wm = 0,5 mm, WF = 2 mm.

73

100MHz

Re()

2.2

2.0

1.8

2.8

Im ()

2.4
2.0
1.6
1.2
-300

-200

-100

100

200

300

H(Oe)

Re()

12

530MHz

4
10

Im ()

9
8
7
6
5
-300

-200

-100

100

200

300

H(Oe)
75

1800MHz

Re()

60
45
30
40
30

Im ()

20
10
0
-10
-20
-300

-200

-100

100

200

300

H(Oe)

Figura 38: Partes Real e Imaginria da impedncia da amostra A3 para trs diferentes freqncias da corrente
de sonda. 100, 530, 1800 MHz. As caractersticas da amostra so Wm = 0,75 mm, WF = 2 mm.

74

3.2

100MHz

Re()

2.8
2.4
2.0
1.6
1.2
3.0

Im ()

2.4
1.8
1.2
0.6
0.0
-400

-300

-200

-100

100

200

300

H(Oe)
530MHz

Re()

16
12
8
4

Im ()

10

-400

-300

-200

-100

100

200

300

H(Oe)

Re()

100

1800MHz

Im ()

-100
0
-50

-100
-150
-400

-300

-200

-100

100

200

300

H(Oe)

Figura 39: Partes Real e Imaginria da impedncia da amostra A4 para trs diferentes freqncias da corrente
de sonda. 100, 530, 1800 MHz. As caractersticas da amostra so Wm = 1 mm, WF = 2 mm.

75

(a)

(b)

Figura 40: Representao da seo transversal do sanduche com a parte em cinza representando as
multicamadas e a parte em laranja representando a camada metlica no magntica (Cu ou Ag). As linhas
pontilhadas representam o campo magntico alternado, gerado pela corrente de sonda. (a) o campo alternado no
altera as propriedades magnticas de uma boa parte das multicamadas. (b) O campo magntico tem alcance sobre
todo o volume da multicamada.

4.6.2 Curvas de Z H - Srie B

Na srie B, o material ferromagntico utilizado foi o Ni81Fe19 (Py), compondo uma
multicamada [Py(10 nm)/Cu(1 nm)] 50, e a camada metlica central utilizada foi uma
camada simples de Cu (1000 nm). Quando a multicamada foi estruturada com Cu como metal
no magntico, as amostras no apresentaram uma anisotropia definida como na multicamada
ML1, o que afetou consideravelmente os resultados de MI. A principal mudana que a FMR
tornou-se evidente somente para freqncia da corrente de sonda da ordem de GHz. A forma
das curvas para esta srie no apresentou caractersticas marcantes quando a largura Wm foi
variada. Com exceo da amostra B4 (Wm = 1 mm), que visivelmente apresentou um maior
desvio entre a direo da anisotropia e o campo magntico aplicado se comparada as outras
amostras dessa srie. Novamente, as variaes considerveis no efeito MI esto associadas
parte imaginria da impedncia, ou seja, so causadas pelo efeito magnetoindutivo. A falta de
uma anisotropia magntica bem definida implicou em uma estrutura de pico simples para uma
grande faixa de freqncias, diferentemente da srie A. Em freqncias altas foi observada a
FMR que levou ao desdobramento do pico de MI, evidenciando novamente que a corrente de
sonda concentrou-se na parte ferromagntica do sanduche devido ao efeito skin. Para
esta faixa de freqncias, o comportamento de MI foi o mesmo encontrado em estudos
anteriores de multicamadas Py/Cu [70]. A Figura 41 mostra as partes Real e Imaginaria da
impedncia da amostra com Wm = 0,25 mm para as freqncias 100MHz, 530MHz e
1800MHz. Observa-se uma estrutura de pico simples para a parte Real da impedncia at uma
freqncia de 530 MHz. Em altas freqncias, como j mencionado, a FMR o principal
mecanismo responsvel pela variao da impedncia, o que est associado ao surgimento dos

76

picos duplos nas curvas de Z H. O mesmo comportamento observado para as medidas

feitas com Wm = 0,5 mm (Figura 42), Wm = 0,75 mm (Figura 43) e Wm = 1 mm (Figura 44).

Re()

100MHz

1.2

Im ()

1.0
0.8
0.6
0.4
-400

-300

-200

-100

100

200

300

H(Oe)
14

Re()

530MHz

Im ()

-400

-300

-200

-100

100

200

300

H(Oe)

1800MHz

Re()

40
32
24
16

Im ()

16

-400

-300

-200

-100

100

200

300

H(Oe)

Figura 41: Partes real e imaginria da impedncia para a amostra B1 para freqncias de 100, 530 e 1800 MHz
com as dimenses de WF = 2 mm e Wm = 0,25 mm.

77

100MHz
Re()

2.0

Im ()

1.5
1.0
0.5
0.0
-400

-300

-200

-100

100

200

300

H(Oe)

530MHz
Re()

12

Im ()

3
2
1
0
-400

-300

-200

-100

100

200

300

H(Oe)

Re()

40

1800MHz

32

24

Im ()

16
20

10

0
-400

-300

-200

-100

100

200

300

H(Oe)

Figura 42: Partes real e imaginria da impedncia para a amostra B2 para freqncias de 100, 530 e 1800 MHz
com as dimenses de WF = 2 mm e Wm = 0,5 mm.

78

Re()

100MHz

Im ()

0
-300

-200

-100

100

200

300

H(Oe)

Re()

12

530MHz

Im ()

-300

-200

-100

100

200

300

H(Oe)

1800MHz

Re()

40
32
24
16

Im ()

20

10

0
-300

-200

-100

100

200

300

H(Oe)

Figura 43: Partes real e imaginria da impedncia para a amostra B3 para freqncias de 100, 530 e 1800 MHz
com as dimenses de WF = 2 mm e Wm = 0,75 mm.

79

2.8

100MHz

Re()

2.4
2.0
1.6
1.2

Im ()

2.4
2.0
1.6
1.2
-300

-200

-100

100

200

300

H(Oe)
530MHz

Re ()

5
4
3
2

Im()

6.6
6.0
5.4
4.8
-300

-200

-100

100

200

300

H(Oe)

1800MHz

Re()

16

12

Im ()

10
0
-10
-20
-300

-200

-100

100

200

300

H(Oe)

Figura 44: Partes real e imaginria da impedncia para a amostra B4, para freqncias de 100, 530 e 1800 MHz
com as dimenses de WF = 2 mm e Wm = 1 mm.

80

4.6.3 Curvas de Z H - Srie C

A srie C de amostras foi estruturada com multicamada de [Py (10 nm) /Ag (2,5
nm)] 50 e camada metlica central no magntica de Ag (1000 nm) com larguras Wm
variando na faixa 0,25-1 mm. As medidas de magnetizao para estas amostras (Figura 32)
evidenciam uma forte anisotropia na direo perpendicular direo do eixo principal do
sanduche. Esta anisotropia levou ao surgimento de uma estrutura de duplo pico desde
freqncias baixas. Como observado na Figura 45 j para a medida a 100 MHz esta estrutura
j estava completamente definida. A Figura 45 mostra as medidas de R e X para a amostra
com Wm = 0,25 mm nas trs freqncias determinadas anteriormente. Na Figura 46 esto
mostrados os resultados de MI para a amostra com Wm = 0,5 mm. Por fim, nas Figura 47 e
Figura 48 so mostrados as curvas de MI para as amostras com largura Wm = 0,75 mm e Wm =
1 mm ,respectivamente.
A forma como os picos da parte imaginria se apresentaram em altas freqncias
caracterstica de amostras com pequena disperso de anisotropia magntica, como pode ser
visto nas curvas calculadas na Figura 20.

81

4.4

100MHz

Re()

4.0
3.6
3.2

Im ()

3
2.8

-300

-200

-100

100

200

300

H(Oe)
530MHz

7.5

Re()

7.0
6.5
6.0
5.5

Im ()

3
5.0

1
-300

-200

-100

100

200

300

H(Oe)
42

1800MHz

Re()

35

28

21

Im ()

16

0
-300

-200

-100

100

200

300

H(Oe)

Figura 45: Partes real e imaginria da impedncia para a amostra C1, para freqncias de 100, 530 e 1800 MHz
com as dimenses de WF = 2 mm e Wm = 0,25 mm.

82

Re()

2.4

100MHz

2.0
1.6
1.2

Im ()

-300

-200

-100

100

200

300

H(Oe)
530MHz
Re()

5.6
4.8
4.0
3.2

Im ()

0.8

0.0

-300

-200

-100

100

200

300

H(Oe)

1800MHz

Re()

28

21

14
16

Im ()

12
8
4
0
-300

-200

-100

100

200

300

H(Oe)

Figura 46: Partes real e imaginria da impedncia para a amostra C2, para freqncias de 100, 530 e 1800 MHz
com as dimenses de WF = 2 mm e Wm = 0,5 mm.

83

100MHz

2.7

Re()

2.4
2.1
1.8
1.5
1.2

Im ()

3.2

2.4

1.6
-300

-200

-100

100

200

300

H(Oe)
7

530MHz

Re()

6
5
4
3

Im ()

-300

-200

-100

100

200

300

H(Oe)

Re()

28

1800MHz

21

14

7
16

Im ()

12
8
4
0
-300

-200

-100

100

200

300

H(Oe)

Figura 47: Partes real e imaginria da impedncia para a amostra C3, para freqncias de 100, 530 e 1800 MHz
com as dimenses de WF = 2 mm e Wm = 0,75 mm.

84

100MHz
Re()

1.3

1.2

1.1

Im ()

1.5

1.0

0.5
-300

-200

-100

100

200

300

H(Oe)
5.0

530MHz

Re()

4.5
4.0
3.5
3.0
2.5
3.5

Im ()

3.0
2.5
2.0
1.5
-300

-200

-100

100

200

300

H(Oe)
42

1800MHz
Re()

35
28
21
14
20

Im ()

15
10
5
0
-5
-300

-200

-100

100

200

300

H(Oe)

Figura 48: Partes real e imaginria da impedncia para a amostra C4, para freqncias de 100, 530 e 1800 MHz
com as dimenses de WF = 2 mm e Wm = 1,0 mm.

85

4.7

Curvas MI%max f
A seguir so mostrados os resultados de MI%max f para cada srie de amostras em

funo de Wm. Com estes grficos pretende-se mostrar a influncia da largura da camada
metlica no magntica central sobre a MI%max em cada srie de amostra, alm de apresentar
os maiores valores percentuais alcanados. Como explicado na Seo 2.8, a razo entre as
condutividades eltricas dos materiais que compem o sanduche (1/2) um parmetro
que influencia consideravelmente os resultados encontrados. Um valor pequeno desta razo
leva mximos menores e eleva a freqncia onde estes mximos acontecem. Por outro lado,
um grande valor da razo gera variaes percentuais mximas maiores e em freqncias
menores [3]. Este comportamento ser discutido nas prximas subsees.
4.7.1 Curvas de MI%max f - Srie A
Os resultados de MI%max f para srie A de amostras so apresentados na Figura
49. Observou-se que a MI%max alcanou valores de at 220 % para a amostra com Wm = 1 mm
em freqncias de aproximadamente 300 MHz. Para as amostras com Wm = 0,5 mm e Wm =
0,25 mm os mximos valores foram de 100 % e 60 % , respectivamente, a uma freqncia de
200 MHz. O comportamento observado, de serem obtidos maiores valores percentuais para as
amostras para Wm = 1 mm, est de acordo com a proposta sobre o efeito do fluxo magntico
sobre as multicamadas que compe o sanduche (ver Figura 40). Para realizar uma anlise
mais detalhada dos valore de MI%max, deve-se recorrer razo entre as condutividade 1/2.
Se lembrarmos que a multicamada que forma este sanduche contm uma camada de Cu (1
nm), separando camadas de 10 nm de material ferromagntico, a condutividade da mesma
aumentada consideravelmente e se aproxima da condutividade da camada metlica no
magntica, ou seja, o prprio Cu. A conseqncia disso, de acordo com as previses do
modelo de Panina [3], que a amplitude dos mximos diminua e que as posies dos mesmos
se desloquem em direo a freqncias maiores.
Contudo, estes mximos valores no ocorreram na forma de um pico agudo em uma
freqncia determinada e sim na forma de um patamar que se estendeu por uma grande faixa
de freqncias. Este comportamento foi uma conseqncia da sobreposio do pico
proveniente do efeito magnetoindutivo e do pico derivado da FMR pare estas amostras. Esta

86

caracterstica possibilita a utilizao deste tipo de estrutura na confeco de sensores de

campo magntico que funcionariam, por exemplo, com o mesmo desempenho para uma gama
grande de freqncias. O comportamento completamente diferente de filmes estruturados na
forma de multicamadas (sem a estrutura de sanduche), cuja curva de MI%max f apresenta
um pico agudo localizado em freqncias elevadas.
importante, para se ter idia da dimenso deste resultado, comparar as de MI%max de
amostras sanduichadas com as multicamadas no estruturadas. A Figura 50 mostra as curvas
de MI%max f para as amostras ML1 e ML3 produzidas neste trabalho. A comparao das
curvas das Figura 49 e Figura 50 evidencia o deslocamento dos valores mximos de MI%
para freqncias muito abaixo da freqncia tpica deste mximo em multicamadas. Com esta
anlise tambm podemos associar os picos ocorridos na freqncia de 1.3 GHz (indicado por
setas na Figura 49) para a srie A com o surgimento da FMR.

Srie A

250

MImax (%)

200

0,25mm
0,50mm
0,75mm
1,00mm

150
100
50
0
10

100

1000

f (MHz)
Figura 49: MImax vs. f para a srie A e diferentes larguras do camada metlica (Cu neste caso). Maiores
valores percentuais alcanados de 220 % para a amostra com Wm = 1 mm.

87

250

Multicamada ML1
Multicamada ML3

MImax (%)

200
150
100
50
0
10

100

1000

f (MHz)
Figura 50: MImax vs. f para as multicamadas ML1(linha preta) e ML3(linha vermelha) produzidas para este
trabalho. Os maiores valores de MI ocorreram a uma freqncia de aproximadamente 1.3 GHz.

4.7.2 Curvas de MI%max f Srie B

A srie B apresentou um comportamento similar ao encontrado para srie A no
que diz respeito dependncia de MI%max com a largura Wm, ou seja, com o fluxo do campo
magntico alternado gerado pela corrente de sonda. Os maiores valore de MI%max foram
obtidos para a amostra com Wm = 1 mm. Diferentemente do observado na serie A estes
mximos ocorreram para freqncia de 500MHz como mostrado na Figura 51. Foram
observado valores de 210 % para a amostra com Wm = 1 mm e cerca de 170 % para a amostra
com Wm = 0,75 mm. A curva para amostra com Wm = 0,25 mm evidenciou, novamente e agora
em mais detalhes, os dois regimes responsveis pelas variaes de MI: Um pico em cerca de
65 MHz e um pico por volta de 600 MHz com amplitude prxima de 100 %. O pico a 65 MHz
reflete a dependncia da MI com a razo entre as condutividades dos materiais que compem
o sanduche (cu = 48,1103 (cm)-1 e Py = 7,3103 (cm)-1). Os valores percentuais
menores observados nesta amostra podem ser associados a menor anisotropia efetiva.

88

250

MI
(%)
max

200

Srie B
0,25mm
0,50mm
0,75mm
1,00mm

150
100
50
0
10

100

1000

f (MHz)
Figura 51: MImax vs. f para a srie B que tem como elemento ferromagntico constituinte do sanduche uma
estrutura de [Py(10 nm)/Cu(1 nm)]50.

4.7.3 Curvas de MImax f Srie C

As amostras da srie C apresentam a menor razo entre as condutividades (1/2)
por serem estas amostras serem estruturada uma espessura maior de Ag do que as espessuras
de Cu usadas nas sries A e B. A Figura 52 sintetiza os resultados obtidos para esta srie
que apresentou os menores valores de MI%max (menores do que 120%). Entretanto, nesta srie
as curvas mostram claramente a separao dos efeitos responsveis pela variao da
impedncia neste tipo de estrutura. Para todas as larguras de Wm um pico caracterstico de
efeito magnetoindutivo (a cerca de 100 MHz) e outro caracterstico de FMR (a cerca de 1.2
GHz) ficaram evidentes. A forte anisotropia observada nas medidas de magnetizao se
refletiu nas curvas de Z H com a estrutura de duplo pico, e auxiliou na elevao dos valores
de MI%max. Para comprovar que o pico em 1.2 GHz devido concentrao da corrente de
sonda sobre a parte ferromagntica do sanduche foram realizadas medidas adicionais na
amostra ML3 (multicamada de Py/Ag). A Figura 53 mostra uma comparao direta entre as
medidas realizadas com a amostra ML3 e com a amostra C1, em destaque, so indicados os
picos associados FMR nas duas estruturas. O pequeno deslocamento do pico da amostra C1

89

est associado maior anisotropia nas multicamadas, fato corroborado pelas curvas de
magnetizao.

250

MImax (%)

200

Srie C
0,25mm
0,50mm
0,75mm
1,00mm

150
100
50
0
10

100

1000

f (MHz)
Figura 52: MImax vs. f para a srie C, onde observa-se claramente os picos referentes a magnetoindutncia
(~100 MHz) e os picos comandados pela FMR (~1.2 GHz).

90

100

MImax (%)

Multicamada ML3
tri-camada C1

50

0
10

100

1000

f (MHz)
Figura 53: Esta figura mostra o comportamento de MImax vs. f para uma multicamada e uma amostra estruturada
na forma de sanduche, mostrando os diferentes comportamentos e salientando o efeito FMR presente no
sanduche na mesma regio onde ocorre com a multicamada ML3.

4.8

MI%max f Efeito da largura da camada central no magntica.

Um dos objetivos deste trabalho foi estudar a possibilidade de sintonia em freqncia

dos valores de MImax para diferentes elementos ferromagnticos constituintes do sanduche.

Algumas discusses a respeito deste tpico j foram realizadas na seo 4.7. Na presente
seo ser apresentada a comparao entre as sries agrupando-se as amostras com o mesmo
Wm. A perspectiva inicial que, para diferentes elementos ferromagnticos ou multicamadas
constituintes do sanduche, os mximos valores percentuais da MI seriam deslocados com a
razo 1/2. Com isso, torna-se possvel estruturar amostras com valores mximos de MI%max
em freqncias pr-estipuladas para a utilizao em dispositivos eletrnicos. Na Figura 54(a)
observa-se que para a amostra com Wm = 0,25 mm (ver Figura 54a), possvel identificar 5
mximos em diferentes freqncias e com diferentes amplitudes como indicado pelas linhas
tracejadas. J na Figura 54b correspondente a largura de Wm = 0,5 mm quatro mximos foram
identificados para diferentes freqncias. Na Figura 55 so mostrados os grficos para as
sries com Wm = 0,75 mm e Wm = 1 mm.

91

Wm=0,25mm

250

MImax (%)

200

Srie A
Srie B
Srie C

150
100
50
0
10

100

f (MHz)

MImax (%)

(a)

Wm=0,50mm

250
200

1000

Srie A
Srie B
Srie C

150
100
50
0
10

100

f (MHz)

1000

(b)

Figura 54: MImax para as sries produzidas neste trabalho com. (a) Wm = 0,25 mm. (b) Wm = 0,5 mm.

Na Figura 55a (Wm = 0,75 mm) foram identificados pelo menos 5 mximos de MI
para diferentes freqncias, o primeiro em 100 MHz e o ltimo de 1 GHz. Na Figura 55(b)
(Wm = 1 mm) foram identificados 4 mximos, sendo que o primeiro com freqncias da ordem
de 60 MHz com magnitude de 150 %, alm de valores com variaes de at 220 % para
freqncias de 300 MHz e 500 MHz de acordo com a srie.
Com isso, mostramos que, de acordo com a multicamada utilizada para formar o
sanduche, podemos obter uma sintonia em freqncias para os mximos valores de MI%.
A estrutura com Py/Ag mostrou um comportamento bastante peculiar com dois mximos e

92

em freqncias distantes um do outro. O comportamento observado diferente do encontrado

em outras estruturas que apresentam um pico nico em alta freqncia.
Wm=0,75mm

250

MImax (%)

200

Srie A
Srie B
Srie C

150
100
50
0
10

100

f (MHz)

MImax (%)

(a)

Wm=1,00mm

250
200

1000

Srie A
Srie B
Srie C

150
100
50
0
10

100

f (MHz)

1000

(b)

Figura 55: MImax para as sries produzidas neste trabalho com. (a) Wm = 0,75 mm. (b) Wm = 1 mm.

4.9

Simulaes de curvas de Magnetoimpedncia

Nesta seo so apresentados os resultados obtidos das simulaes das curvas de

magnetoimpedncia das amostras na forma de sanduche. O mtodo utilizado calcula a

susceptibilidade magntica em funo do campo e das freqncias a partir da minimizao da

93

energia livre da amostra. A proposta feita por L. Spinu para o clculo da susceptibilidade em
funo do campo para toda faixa de freqncias [4], foi utilizado para a obteno da
permeabilidade magntica e posterior utilizao para o clculo da Magnetoimpedncia, para o
que utilizou o modelo proposto por L. V. Panina [3] para uma tri-camada.
Vale ressaltar neste ponto que as curvas apresentadas at o momento nas sees 2.6 e
2.7 para a permeabilidade e Magnetoimpedncia levaram em considerao apenas as
propriedades magnticas. A utilizao de uma cavidade do tipo strip-line acarreta em
mudanas nas propriedades eltricas (consequentemente na impedncia) das amostras as quais
devem ser levadas em considerao para o ajuste nas simulaes. No trabalho de A. G.
Arribas, et. al. [71], onde um procedimento relativamente simples mostrado para a avaliao
da retirada da contribuio eltrica durante uma medida de MI. Nesta tese, o procedimento
adotado foi o ajuste do comportamento de R e X em funo da freqncia para cada amostra
no estado saturado. Este ajuste, por sua vez, foi levado em considerao durante os clculos
da MI. Sero apenas apresentados os resultados as freqncias previamente usadas at o
momento: 100 MHz, 530 MHz e 1800 MHz.
As simulaes efetuadas com o modelo proposto por Panina et. al. mostraram-se em
boa concordncia at uma freqncia de aproximadamente 1400 MHz. O mesmo
comportamento foi observado para todas as sries o que pode estar relacionado ao surgimento
da FMR nas amostra em faixa de freqncias mais elevadas e a complexa distribuio de
campos internos nas amostras, o que pode acarretar no surgimento dos chamados modos
ticos e acsticos de FMR. O modo ptico somente pode ocorrer na regio de FMR quando as
acamadas magnticas so acopladas mediante a interao RKKY ou quando uma determinada
amostra tem diferentes campos ressonantes ocasionados por diferentes direes de
anisotropia, por exemplo, devido ao stress acumulado durante a deposio. Por esta razo os
resultados da simulao sero analisados em 2 grupos: Primeiro para freqncias de 100 MHz
e 530 MHz e o segundo para freqncia mais alta.
A Figura 56 mostra as curvas terica e experimental do sanduche com Wm = 0,5
mm, para as amostras de srie A na freqncia de 100 MHz.
A curva simulada foi obtida com os parmetros: Ms = 1030 emu/cm3, k = 900 k = 300,
Hc = 6 Oe, = 0,01, = 19,08106 Oe-1s-1 lembrando que o parmetro de amortecimento
de Gilbert e o fator giromagntico para a liga a base de Fe. Na Figura 57 so mostrados os
resultados da simulao e experimento para a 530 MHz. Nessa simulao foram utilizados os

94

mesmos parmetros. Como pode ser observado por ambas figuras as simulaes representam
uma boa concordncia com os resultados experimentais

6
Z(100MHz)
Simulao

Z()

3
-300 -200 -100

100

200

300

H (Oe)
Figura 56: Simulao para a impedncia da amostra A2 com os seguintes parmetros: f = 100 MHz, Ms =
1030 emu/cm3, k = 900 k = 300, Hc = 6 Oe, = 0,01, = 19,08106 Oe-1s-1.

20
18

Z(530MHz)
Simulao

Z()

16
14
12
10
8
-300 -200 -100

100

200

300

H (Oe)
Figura 57: Simulao para a impedncia da amostra A2 com os seguintes parmetros: f = 530 MHz, Ms =
1030 emu/cm3, k = 900 k = 300, Hc = 6 Oe, = 0,01, = 19,08106 Oe-1s-1.

95

Nas Figuras 58 (f = 100 MHz) e 59 (f = 530 MHz) so mostrados as simulaes para

a srie de amostras B, que tem o Py/Cu como multicamada constituinte do filme. Foi
selecionada a amostra B3 com Wm = 0,75 mm para estas figuras. Os parmetros utilizados
para esta simulao so: Ms = 780 emu/cm3, k = 900 k = 440, Hc = 0,18 Oe, = 0,01, =
18,22 Oe-1s-1. Para obter as simulaes assumiu-se que a razo Cu/Py que era originalmente

Cu/Py = 12 [4], caiu para o valor Cu/F = 1, o que se justifica pois a parte magntica que
compe o sanduche na realidade

uma multicamada Py/Cu o que faz com que a

condutividade F torna-se aproximadamente a condutividade do Cu.

Nas figuras, observa-se claramente a estrutura de pico simples se desdobrando em
pico duplo devido anisotropia da amostra e a elevao da freqncia da corrente de sonda
que leva ao aparecimento de FMR.

Z(100MHz)
Simulao

Z()

5
4
3
2

-300 -200 -100

100

200

300

H (Oe)
Figura 58: Simulao para a impedncia da amostra B3 com os seguintes parmetros: f = 100 MHz, Ms = 780
emu/cm3, k = 900 k = 440, Hc = 0,17 Oe, = 0,01, = 19,08106 Oe-1s-1.

96

12
11

Z(530MHz)
Simulao

10
9
Z()

8
7
6
5
4
3

-300 -200 -100

100

200

300

H (Oe)
Figura 59: Simulao para a impedncia da amostra B3 com os seguintes parmetros: f = 530 MHz, Ms = 780
emu/cm3, k = 900 k = 440, Hc = 0,17 Oe, = 0,01, = 19,08106 Oe-1s-1.

Finalmente, para a srie C a amostra selecionada para as simulaes foi com Wm =

0,25 mm (Amostra C1). Esta srie, estruturada com Py/Ag foi a que apresentou a maior
anisotropia induzida durante a deposio, possibilitando a observao de uma estrutura de
picos duplos desde baixas freqncias. Desta forma, as curvas de R e X para 100 MHz j
apresentam essa estrutura de picos (ver Figura 45). As Figuras 60 e 61 mostram os resultados
das simulaes sobre as curvas obtidas experimentalmente. Como observado nas Figuras as
simulaes reproduzem bem a estrutura de picos duplos a 100 MHz e 530 MHz. Os
parmetros utilizados para as simulaes das Figuras 60 e 61 so: Ms = 780 emu/cm3, k = 900

k = 440, Hc = 0,18 Oe, = 0,01, = 18,22 Oe-1s-1. A razo entre as condutividade entre a
condutividade da parte ferromagntica e a parte central do sanduche diminuiu ainda mais,
pois a condutividade da Ag maior que a do Cu.

97

Z(100MHz)
Simulao

Z()

-300 -200 -100

100

200

300

H (Oe)
Figura 60: Simulao para a impedncia da amostra C1 com os seguintes parmetros: f = 100 MHz, Ms = 780
emu/cm3, k = 900 k = 100, Hc = 1,7 Oe, = 0,01, = 19,08106 Oe-1s-1.

Z(530MHz)
Simulao

Z()

-300

-150

150

300

H (Oe)
Figura 61: Simulao para a impedncia da amostra C1 com os seguintes parmetros: f = 530 MHz, Ms = 780
emu/cm3, k = 900 k = 100, Hc = 1,7 Oe, = 0,01, = 19,08106 Oe-1s-1.

98

Para verificar o mtodo, foram realizadas simulaes da MI para a amostra ML1 assumindose que o modelo proposto por Panina possa ser aplicado a uma multicamada, que nada mais ,
do que uma bicamada repetida n vezes com n grande, foi simulado o comportamento das
partes real e imaginria da impedncia para uma freqncia de 1400 MHz, onde
caractersticas de FMR encontraram-se evidentes. O resultado est apresentado na Figura 62
que mostra a concordncia do modelo proposto com os resultados experimentais de MI. Na
Figuras 63 e 64 so mostrados os resultados experimentais e simulados para o sanduche.
Nestas figuras observa-se uma concordncia ruim, que pode estar ligada complexa
distribuio de campos no interior das amostras. Uma das assinaturas desta complexidade
pode ser o estranho pico central mostrado na Figura 63 que apresenta as curvas experimentais
de R H para vrios valores de freqncias. Este fato foi observado para as amostras com
maior anisotropia (sries A e C) e mostrou-se pouco evidente tambm na srie B.
Resumindo, o modelo de Panina no se mostrou eficiente para o clculo da
impedncia para a estrutura de sanduche acima de 1400 MHz. Com uma faixa maior de
freqncia teramos a possibilidade de observar a evoluo da FMR e acompanhar o
desdobramento do pico central que surgiu nas amostras. Para enfatizar este fato, o clculo e os
dados experimentais para a amostra A2 so apresentados na Figura 64, onde se verifica a
desconexo entre a teoria e o experimento.
10

40

R(1400MHz)
Simulao

35

X(1400MHz)
Simulao

30

0
Im()

R()

25
20
15

-5
-10

10

-15

5
-300

-150

0
H (Oe)

150

300

-300

-150

150

300

H (Oe)

Figura 62: Simulao da impedncia parte real R e imaginria X para a amostra ML1. Nestas curvas a
freqncia da corrente de sonda foi de f = 1400 MHz com os mesmos parmetros obtidos com a simulao da
histerese magntica.

99

80

1350 MHz
1450 MHz
1550 MHz
1650 MHz
1750 MHz
1800 MHz

R()

60

40

20
-60

-30

30

60

H (Oe)
Figura 63: Parte Real da impedncia para altas freqncias. Em destaque o pico que surgiu para campos
prximos de campo nulo
R(1800MHz)
Simulao

80

Z(1800MHz)
Simulao

40

70

20
Im()

R()

60
50
40
30
20

(a)
-300

-150

0
H (Oe)

150

300

(b)

-20
-300

-150

150

300

H (Oe)

Figura 64: Simulaes e resultados experimentais das partes Real e Imaginria da impedncia para a amostra
A2 a uma freqncia de 1800 MHz

100

Consideraes Finais: Concluses e perspectiva para trabalhos futuros

O presente trabalho tinha dois objetivos principais:
- Estudar a possibilidade de essas estruturas serem candidatas ao uso em sensores de

campo magntico futuramente. Se possvel alcanar valores elevados de MI% (MI% =

([Z(Hmax)-Z(H)/Z(Hmax)] 100)
- Controlar a forma das curvas de Z H e MI% f, onde f a freqncia da corrente
de sonda;
- Adaptar e desenvolver modelos tericos que descrevam as curvas de MI H para
toda faixa de freqncia, se possvel, sem a necessidade de utilizar diferentes modelos para
diferentes faixas de freqncias;
- Obter informaes magnticas relevantes a partir da comparao entre os resultados
As principais concluses deste trabalho at a ltima etapa aqui relatada so:
1. O comportamento da MI%max em funo da freqncia da corrente de sonda apresentou
caractersticas muito diferentes das encontradas em multicamadas.
2. Foi observado que variando a natureza da camada ferromagntica usada nos sanduches, e
sobretudo, substituindo as camadas simples por multicamadas ferromagnticas, foi
possvel sintonizar os valores mximos de MI em freqncias distintas.
3.

Foi obtida uma resposta plana da resposta de MI%max entre as freqncias de 100 MHz a
1 GHz para a amostra com Wm = 0,75 mm e multicamadas de Py/Cu como material
magntico.

4. Foram obtidos dois mximos para uma mesma amostra em freqncias bem afastadas
principalmente para a srie C.
5.

Os valores percentuais alcanados so superiores aos apresentados em muitos trabalhos

publicados, e no h necessidade de que tratamentos trmicos sejam feitos para a
otimizao das propriedades magnticas das ligas.

6. A utilizao de multicamadas compondo o sanduche levou a um aumento significativo

na condutividade efetiva da parte ferromagntica. Como a razo entre as condutividades
da parte central e da parte ferromagntica de fundamental importncia para a sintonia
em baixas freqncias dos mximos valores de MI%, o aumento significativo da
condutividade devido ao uso da multicamada acarretou na reduo dos valores de MI% e
no deslocamento dos mesmos para freqncias relativamente altas.

101

7. A tentativa de isolamento com a camada SiO2 para desacoplar eletricamente a camada

metlica no magntica das multicamadas magnticas no funcionou devido baixa
espessura utilizada para o SiO2. Com isso, a corrente de sonda penetrou na parte
ferromagntica para freqncias onde o efeito skin forte e foi observado a FMR nas
amostras na forma de sanduche, fato este no esperado.
8.

A descrio terica utilizada para calcular a permeabilidade e a magnetoimpedncia,

unindo os dois modelos de Spinu e Panina, resultou em uma simulao das curvas de
impedncia dos sanduches com boa concordncia at 1400 MHz. Entretanto, devem ser
introduzidas modificaes no modelo para descrever os resultados experimentais para
freqncias acima de 1400 MHz.
Para continuao deste trabalho propem-se:
1. Aperfeioar o modelo e as tcnicas para simular as curvas de MI;
2. Produzir amostra com diferentes materiais magnticos como camada magntica do
sanduche, para estender os resultados obtidos para o momento;
3. Redimensionar a espessura da camada isolante, ou at mesmo, utilizar Al2O3 para
isolar as camadas;
4. Aprofundar o estudo dos efeitos que aparecem em altas freqncias medindo as
amostras j produzidas e outras que vierem a ser produzidas com freqncias
superiores a 1.8 GHz;
5. Investigar a existncia (se necessrios usando clculos micromagnticos) de mltiplas
ressonncias ferromagnticas e suas implicaes em sensores baseados no efeito
magnetoimpedncia.

102

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