superficiais da amostra. A imagem gerada por esses eltrons fornece diferentes informaes,
alm de uma imagem topogrfica tambm obtida uma imagem de composio.
Quando materiais isolantes ou semicondutores so bombardeados pelo feixe de
eltrons, ftons de grande comprimento de onda (ultravioleta e visvel) so emitidos,
ocorrendo a catodo luminescncia. O espectro resultante vai variar do material estudado e do
seu grau de pureza. Alguns materiais chegam a apresentar fluorescncia na faixa de luz visvel
sob o bombardeio de eltrons.
Resoluo de Imagens
Quando se diz a resoluo de imagens em MEV, existem trs fatores essenciais na
obteno desta, nos quais so; tenso de acelerao dos eltrons, corrente da sonda, na qual
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quanto maior a corrente, maior ser o dimetro do feixe e a distancia de trabalho, na qual a
distancia entre a lente objetiva com a amostra. Quando menor a distncia de trabalho se
obtm uma resoluo melhor, e a maior distncia consegue-se a profundidade de campo
obtida tambm maior. A resoluo a ser obtido com o MEV, alm dos fatores citados acima, o
tamanho da zona da qual ir sair o sinal tambm ser necessrio para formar a imagem, ou
seja, a resoluo definida pelo dimetro sobre o qual vai ser o sinal, que podem ser, por
exemplo: SE (eltrons secundrios) e BSE (eltrons retroespalhados).
As imagens obtidas com o MEV possui carter virtual, pois visualizado no monitor
devido transcodificao da energia emitida pelos eltrons.
Figura 1 - Estes gros de plen tomados em um MEV mostram a caracterstica de profundidade de campo das
micrografias de MEV.
Preparao de Amostras
Para que o MEV tenha um bom resultado, primeiro passo a ser feito uma
preparao da amostra bem feita, e para isso acontecer, existem alguns mtodos j definidos
de amostragem.
As amostras devem ser coletadas, selecionadas e ser limpas sem alterar as
caractersticas essenciais da amostra em si, para que no existam resultados equivocados.
Devem ser estabilizadas e desidratadas. Com isso a amostra j pode ser transferida at a
cmara do equipamento de secagem ao ponto critico. Posteriormente substitudos por gs
carbnico liquefeito, na cmara do aparelho de ponto crtico. O CO 2 lquido lentamente
aquecido, e passa imperceptivelmente da fase lquida para a gasosa; a expanso deste gs
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dentro da cmara faz a presso subir, at acima da presso crtica do CO2 (73 atm). Mantendose a temperatura da cmara acima de 3l C (temperatura crtica do CO2) no h risco de
liquefao do gs. Nesta transio de fase gradual, a densidade da fase lquida iguala aquela
da fase gasosa. Portanto, a tenso superficial zero e a amostra seca sem a ultrapassagem de
nenhum limite de fases, isto , sem o efeito das foras atuantes de tenso superficial. Estes
passos citados so essenciais para que a leitura da amostra seja adequada.
Consideraes Finais
A microscopia eletrnica de varredura possui caractersticas que apresentam
bastantes aplicaes nos dias de hoje, como por exemplo nos campos das cincias e
engenharia. O equipamento tem um custo baixo em relao aos componentes que ele
apresenta, como detector de microanlise por EDS, simplicidade operacional dos sistemas
digitais em ambiente Windows e integrao com sistema de anlise de imagens, o que o faz
ser bastante utilizado.
Podemos chegar concluso de que a microscopia eletrnica de varredura tem uma
grande importncia pois, por exemplo, consegue caracterizar propriedades de uma amostra,
tais como superfcie topogrfica, composio, cristalografia entre outros, garantindo uma boa
visualizao dessas propriedades da amostra devido alta capacidade de criar imagens
tridimensionais, alm disso fornece uma base para anlise mais completa.