POLMEROS DE TMPERA BASE DE PAG

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POLMEROS DE TMPERA BASE DE PAG

Lauralice de Campos Franceschini Canale
EESC-USP, So Carlos, SP, Brasil

George Edward Totten

Portland State University, Portland, OR, USA

Antonio Carlos Canale

EESC-USP, So Carlos, SP, Brasil

Resumo
Embora os leos minerais sejam os meios de resfriamento mais utilizados para as operaes de tratamento trmico de
tmpera, as solues de polmeros atualmente tm conquistado mais espao medida que as preocupaes com o meio
ambiente e com os problemas toxicolgicos associados utilizao dos leos minerais se tornam crescentes. Para que
a utilizao dessas solues aquosas ocorra de maneira adequada, necessrio o entendimento das influncias de
parmetros do processo de tratamento trmico em seu desempenho durante o resfriamento. Assim, o que se pretende
apresentar e discutir o desempenho das solues de polmeros, em particular dos polmeros base de PAG, que so os
mais amplamente usados para essa aplicao.
Palavras-chave: tratamento trmico, meios de resfriamento, leos minerais, solues de polmeros.

Introduo
Tradicionalmente, os leos minerais tm sido os
fluidos mais comuns para a tmpera de aos carbono e
aos liga nas plantas de tratamento trmico. Entretanto,
com a crescente preocupao com o meio ambiente, descarte,
segurana e problemas toxicolgicos, tem havido potencial
interesse na utilizao de fluidos de resfriamento alternativos.
Uma das alternativas mais comuns, em substituio aos
leos minerais, tem sido as solues de polmeros solveis
em gua, especialmente aqueles formulados base de PAG
(polialquilene glicol ). H ainda algumas vantagens adicionais
na utilizao dessas solues de PAG, quando comparadas
aos leos minerais: custo, desempenho, limpeza no processo
(eliminao de desengraxantes) e flexibilidade.
Neste trabalho ser apresentado breve resumo dos
polmeros como fluidos de resfriamento e a influncia de
alguns parmetros de processo. Alm disso, sero discutidos
alguns procedimentos mais comuns quando se usam solues
de polmeros como meio de resfriamento no tratamento
trmico de tmpera.

necessidade de equipamentos mais onerosos. As solues

de polmeros so isentas desses perigos.
Ao longo dos anos, muitos polmeros solveis em
gua tm sido avaliados e/ou usados como fluidos de corte
(Totten et al., 1993a). Polmeros PAG foram primeiramente
patenteados por Blackwood (Blackwood & Cheesman,
1965) e, desde ento, muitas formulaes foram
desenvolvidas e patenteadas (Totten et al., 1993a). Dentre
os polmeros mais comuns usados nas naes mais
industrializadas do mundo esto as formulaes com PAG.
A Tabela 1 fornece uma lista ilustrativa dos processos
comuns em que as solues PAG so correntemente usadas.
Polmeros PAG so copolmeros de xido de etileno,
(C2H4O) e xido de propileno (C3H6 O) e seu desempenho
definido pelo seu peso molecular (tamanho) e a razo
(n/m) das repeties das unidades dos monmeros de cada
xido, ilustrados genericamente na Figura 1.
HO-(C2H4O)n(C3H6O)m-H
Figura 1

Discusso
Polmeros mais comuns
Alm do custo, h ainda outro incentivo para a
utilizao de solues aquosas na indstria. de
conhecimento da indstria os potencias problemas associados
ao uso de leos minerais em tratamento trmico, incluindo
potencial risco de incndio, com perdas humanas, e a

Estrutura genrica de um copolmero PAG.

Desempenho dos polmeros PAG leos minerais

O processo de resfriamento de um tpico leo de
tmpera e de um polmero so mostrados na Figura 2 (Tensi
et al., 2003).Quando o ao austenitizado primeiramente
imerso no leo, o metal quente imediatamente circundado
por uma camada de vapor, resultando em resfriamento

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bastante vagaroso. medida que a temperatura da superfcie

decresce para o ponto de ebulio do leo, um processo
de nucleao de bolhas se inicia, elevando as taxas de
resfriamento aos valores mais altos de todo o processo.
Finalmente, quando a temperatura da superfcie menor
do que o ponto de ebulio do leo, h o resfriamento
convectivo e a taxa de resfriamento volta a cair para os
valores mais baixos de todo o processo de resfriamento.
importante notar que os trs processos ocorrem simultaneamente na superfcie, fato que contribui para aumentar os
gradientes trmicos e transformacionais, aumentado as
distores e o potencial para trincamento.
O processo de resfriamento em soluo aquosa de
polmero substancialmente diferente, como mostrado
na Figura 2. Quando ocorre a imerso do metal quente na
soluo, h a formao de um filme fluido contnuo de
polmero ao redor da pea, que separado da superfcie
do metal por um vapor superaquecido. medida que o
resfriamento acontece, o filme de polmero subitamente
colapsa (vapor de gua rompe o filme de polmero), resultando
em taxas de resfriamento bastante rpidas. particularmente
importante notar que isso ocorre simultaneamente por toda
a superfcie do metal, resultando em um processo de
resfriamento uniforme. Quando a temperatura da superfcie
cai abaixo do ponto de ebulio da gua, acontece o
resfriamento convectivo.
especialmente importante notar que, em se tratando
de polmeros, o processo de resfriamento leva a uma
substancial reduo dos gradientes trmicos e de

transformao, resultando em menor potencial para o

aparecimento de trincas e distores se comparados ao
processo que utiliza leos minerais. Isso pode ser comprovado
na Figura 3, em que os fluidos vaporizveis provocam
diferentes padres de resfriamento (curvas de resfriamento)
ao longo da superfcie do componente cilndrico, enquanto
no caso do polmero as curvas de resfriamento praticamente
se sobrepem ao longo da superfcie (Tensi et al., 2003).
Esta seria uma das razes pelas quais um sistema de
resfriamento usando polmeros, desde que propriamente
projetado, pode ter desempenho superior ao seu similar
usando leo mineral.
Parmetros do processo de resfriamento
Nas discusses anteriores, foi mostrado que os
mecanismos de resfriamento de um leo mineral e de uma
soluo de polmeros, por exemplo, PAG, so fundamentalmente diferentes. Isso fica mais evidente quando ambos
so usados em uma planta de tratamento trmico. Por exemplo,
os leos exibem menor sensibilidade s variaes de severidade
com relao s variaes de temperatura do que os polmeros
em geral. Alm disso, desde que muitos leos so usados
em condies de no agitao ou de agitao inadequada,
parece claro que as solues de polmeros no podem ser
consideradas como substituto direto dos leos minerais sem
apropriadas adaptaes ao sistema de resfriamento. Nesta
seo, sero discutidos os parmetros mais comuns do processo
de resfriamento que devem ser considerados e controlados
para a utilizao de polmeros.

Tabela 1 Lista ilustrativa das prticas de tratamento trmico mais comuns em que PAG usado.

Tmpera por chama

Cementao

Fornos tipo cmara

Peas de metalurgia do p

Fornos contnuos

Carbonitretao

Tmpera direta de forjados

Forno de atm. neutra ou redutora

Tmpera por induo

Leito fluidizado

b)
a)

4,3 s

8,3 s

12,3 s

6s

6,35 s

7,65 s

Figura 2 Comparao do processo de resfriamento de: a) um leo mineral e b) uma soluo aquosa de polmero.

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Temperatura (C)

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211

3
2
1

750

500
A

2
3

B
250
1-3
0
0

10

20
30
40 0
5
10
15
20
Tempo (s)
Tempo (s)
a) termopares localizados
a) termopares localizados
no centro
na superfcie

Figura 3 Ilustrao dos gradientes de resfriamento tipicamente exibidos por um fluido de resfriamento vaporizvel (A) em
comparao a um polmero PAG (B) que apresenta resfriamento praticamente uniforme em toda a superfcie da pea.

Para obter melhor entendimento de como o polmero

usado na prtica, novamente a Figura 2 ser referida.
Notar:
l Primeiramente h um filme de polmero circundando
a superfcie do metal. A espessura e a viscosidade desse
filme determinaro a taxa de transferncia de calor.
Tipicamente, essas taxas diminuem exponencialmente
com o aumento da concentrao do polmero em soluo.
A espessura do filme tambm determinada por esta
concentrao. Geralmente, aumentando-se a concentrao,
diminuir-se- a severidade da tmpera. Conseqentemente,
um sistema de resfriamento otimizado minimizar a
variao da espessura desse filme ao redor do componente
durante o resfriamento.
l Para que haja homogeneidade no resfriamento, uma
agitao uniforme atravs dos componentes
fundamental. Geralmente, aumentando-se as taxas de
agitao, a severidade do resfriamento aumenta, e este
efeito sentido na superfcie metlica dos componentes.
l Alm disso, uma vez que a viscosidade tambm
criticamente importante, necessrio se assegurar de
que a temperatura do fluido seja razoavelmente uniforme
atravs dos componentes da carga durante o resfriamento.
Geralmente, aumentando-se a temperatura do banho,
diminui-se a severidade do resfriamento. Novamente,
isso ilustra a importncia de agitao adequada e a
necessidade de um trocador de calor conveniente. Deve

ser notado tambm que os polmeros PAG possuem

separao reversvel da soluo se a temperatura exceder
o ponto de turvamento do polmero, como ilustrado
na Figura 4 (Totten et al., 1993b). Isso importante
porque, se a separao trmica ocorrer no tanque de
resfriamento, resultar em resfriamento no uniforme,
provocando, nos componentes, o aparecimento de pontos
moles, aumento das distores e trincas, bem como
arraste excessivo. Por isso necessrio que a temperatura
do banho seja mantida, e que no se exceda o ponto
de turvamento do polmero.
l Uma vez que a viscosidade e a uniformidade do filme
de polmero so importantes para assegurar que os
gradientes trmicos sejam mnimos, devem ser evitadas
as misturas de diferentes fluidos, bem como o uso de
polmeros altamente degradados.
Por meio de controle adequado dos parmetros do
banho, fornecidos pelo controle da concentrao e
temperatura e tambm da agitao uniforme por meio do
tanque, especialmente atravs dos componentes da carga,
possvel obter valores de severidade de Grossman (Valores
H), que cobrem uma faixa exibida pelos leos minerais
convencionais (H ~ 0,2) at os valores correspondentes
utilizao da gua em temperatura ambiente (H > 1). Isso
ilustrado na Figura 5, em que se pode conferir a flexibilidade
que a utilizao de solues de polmeros pode trazer ao
processo (Totten et al., 1993b).

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25C

75C

Soluo inicial a 20%

(com agitao)

Soluo imediatamente
aps separao
(com agitao)

Figura 4 Separao trmica reversvel de uma soluo aquosa de polmero PAG.

140

Temperatura do banho (F)

0,4

0,2

0,6
130

Taxas de
circulao

0,4
0,6
0,8

120

110

50 ft/min

0,6

75 ft/min

0,8
1,0

100 ft/min

0,8

100
15

1,0
1,2
25
20
Concentrao da soluo (%)

Figura 5 Grfico mostrando o impacto da temperatura do banho,

concentrao do polmero e agitao na severidade do resfriamento.

Quais ligas e componentes podem ser temperados com

polmeros PAG?
Em funo da enorme flexibilidade exibida pela
ampla faixa de severidades de resfriamento potencialmente
atingveis, ampla variedade de componentes (veja Tabela

2) confeccionados em aos carbono e aos liga (veja Tabela

3) comumente temperada em solues de polmeros PAG.
Para uma lista mais expressiva de aos liga para os quais
as solues de polmeros podem ser usadas, o leitor deve
consultar a AMS 2759.

Tabela 2 Lista de aos (SAE/AISI) mais comuns usados para a fabricao de

componentes que podem ser temperados com polmeros.

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103B3x

1070

5046

1012

1141

5160H

1020

4140

5135

1022

4150

52100

1045

4320

8645

1046

4340

8650

1048

4820

8655

1050

4870

8670

1065

41055

9620

POLMEROS DE TMPERA BASE DE PAG

213

Tabela 3 Lista parcial de tpicos componentes produzidos a partir de tmpera usando polmeros.

barras

pinos

roda dentada

eixos

parafusos

bloco de matriz

rolamento de esfera

rebites

anis forjados

eixos comando de vlvula

eixos chavetados

cilindros de alta presso

componentes da suspenso

unies entalhadas

molas planas de suspenso

juntas forjadas

blank de engrenagem

eixos de pequeno dimetro

engrenagens

tubos

placas

Alm disso, componentes forjados e trabalhados

de alumnio (ligas da srie 2000, 6000 e 7000) e fundidos
de alumnio (ligas da srie 300) so usualmente produzidos
usando polmeros PAG do tipo I (como definido pela AMS
3025, eles s podem ser produzidos com baixos valores
de distoro se este tipo de polmero for usado). Uma
ilustrao da substancial melhora da distoro usando

polmeros PAG em ligas de alumnio fornecida na Figura

6 (Totten et al., 1993b). Alguns componentes aeronuticos
bastantes crticos so produzidos usando polmeros PAG,
como ilustrado na Figura 7 (Totten et al., 1993b). As
concentraes adequadas e outros parmetros para essa
aplicao so especificados na AMS 2770 para forjados
e trabalhados e na AMS 2771 para fundidos.

gua: 160F
Agitao: 25 ps/min
Distoro total: 1,385

gua: 85F
Agitao: 25 ps/min
Distoro total: 1,55

Polmero PAG a 20%

Agitao: 25 ps/min
Distoro total: 0,12

Figura 6 Ilustrao do uso do polmero PAG do tipo I para minimizar a distoro de chapas de alumnio 7075.
a)

b)

Figura 7 Componentes aeronuticos produzidos a partir da utilizao de polmeros PAG do tipo I com concentrao a 25%. a)
Colocao no tanque de maneira inadequada. b) Colocao adequada no tanque gerando escoamento do fluido mais adequado.

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CANALE, TOTTEN & CANALE

Concluses
O uso de fluidos de resfriamento base de polmeros
vem crescendo globalmente nas plantas de tratamento trmico,
tornando-se vivel como substituto para os leos minerais,
uma vez que fornecem substanciais vantagens em relao
ao uso, desempenho, flexibilidade de processo, toxicidade,
biodegradabilidade e inflamabilidade.
O desempenho de polmeros aquosos dependente
da temperatura do banho, agitao e concentrao. Portanto,
solues de polmeros no podem substituir diretamente
os leos minerais sem que adaptaes sejam feitas no
tanque, proporcionando melhores condies de agitao
e controle da temperatura do banho. Entretanto, com essas
adaptaes apropriadas, a substituio poder ser efetuada
com enormes vantagens.
Os polmeros como fluidos de tmpera h muito j
vm sendo usados para a produo de componentes de
aos de alta e baixa temperabilidade e tambm em ligas de
alumnio. O uso desses fluidos, embora ainda no amplamente
aceito, j encontra especificao em muitas normas, como,
por exemplo, AMS 2759, AMS 2770 e AMS 2771.
Em decorrncia de suas vantagens associadas ainda
ao cumprimento de regulamentaes governamentais
relacionadas aos problemas de emisso de ar, gua e

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toxicidade, espera-se que a utilizao de polmeros como

fluidos de resfriamento continue a crescer no futuro.

Referncias Bibliogrficas
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quenching technology. ASM, 1993. p. 161-190.
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