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La adhesin de los selladores dentales al esmalte

con autograbable adhesivos en condiciones de


contaminacin salivales: Influencia del protocolo de
fotocurado.
RESUMO
Objetivos:
Evaluar la influencia del tiempo de dos sistemas adhesivos de curado autograbable,
los valores de resistencia de adhesin de un sellado de fisuras a esmalte en
condiciones de contaminacin saliva.
Materiales y Mtodos: El sellador de grietas (Delton, Dentsply) se aplic despus de la
contaminacin la saliva en el esmalte labial incisivos humanos sesenta acondicionado
con Xeno III (Dentsply) o Prompt L-Pop (3M / ESPE).
Estos dos grupos eran ms dividido en dos subgrupos (n = 15) de acuerdo con el
tiempo de fotopolimerizacin el sistema adhesivo:
1) el sistema adhesivo se cura la luz junto con el Sellador (co-polimerizacin), y
2) el sistema adhesivo y sellador se curaron luz independientemente (polimerizacin
independiente). Las muestras se almacenaron en agua (37 C-24 hr) y posteriormente
sometido a termociclado.
Los ensayos de resistencia adhesivo se llevaron a cabo en una mquina de ensayo
universal. Los resultados fueron estadsticamente analizada ANOVA de dos vas.
Resultados:
No hubieron diferencias estadsticamente significativas (p = 0,267) entre los sistemas
adhesivos utilizados. Los grupos copolimerizados obtuvieron valores de resistencia
Adhesivo mayor (33,3 9,4 MPa) para los grupos en los que la polimerizacin se llev
a cabo de forma independiente (28,2 4,7 MPa). Incluso en la presencia de
contaminacin salivar, sistemas adhesivos de autograbado probados valores de
resistencia obtenidos alto pegamento.
Conclusiones:
En las condiciones ensayadas, la co-polimerizacin del sistema adhesivo con el
sellador Se origin valores de resistencia adhesiva al esmalte ms alta con respecto a
la polimerizacin Independientemente de estos dos materiales.
Palabras clave :
Grietas sellantes
la contaminacin de la saliva
sistemas adhesivos de autograbado
fotopolimerizacin

Introduccin
Las superficies oclusales de los dientes posteriores son recin brotadas
particularmente susceptibles a las lesiones de caries debido a las
condiciones locales tales como la maduracin incompleta del esmalte, infraoclusin y muy compleja anatoma oclusal. Extraccin de la bacteriana placa
bajo tales condiciones es difcil, y estas superficies son, en consecuencia, los
ms afectados por la caries.1,2
Los selladores dentales han demostrado ser una ayuda muy eficiente en la
prevencin de la caries dental en pacientes susceptibles. 3,4
Sin embargo, la aplicacin de sellado de fisuras debe ser incluido en una
programa de prevencin general que abarca una correcta higiene
instruccin y motivacin del nio y de los padres, una dieta controlada y un
control profesional regular.3
La tcnica clsica para la aplicacin de los selladores incluye el pulido de la
superficie del diente con piedra pmez y agua, acondicionado esmalte con
gel de cido fosfrico 35 a 37% durante 30 s, enjuagar y secar, y de aplicar
el sellador. Sin embargo, aclarado el diente puede ser desagradable y puede
contribuir a un perjudicial comportamiento, especialmente en nios
pequeos. 4,5
Por lo tanto, principalmente cuando el aislamiento completo no es posible,
la contaminacin debida a la saliva se produce fcilmente y la energa
superficial del esmalte disminuye, comnmente conduce a la insuficiencia
de sellador. 6-8
Algunos estudios han demostrado que en la contaminacin saliva
condiciones, la aplicacin de un sistema adhesivo antes del sellador
aumenta la resistencia al cizallamiento y reduce al mnimo micro filtracin,
comparativamente con la tcnica clsica. 2,4,6,7,9-14
La aplicacin de sistemas de adhesivo antes de que el sellante haya sido
describir desde 1992. Esta tcnica depende de la mecnica promovida por
la retencin de acondicionamiento cido del esmalte y la adhesin qumica
entre el adhesivo y el sellador. 9 Adems, con la auto-adhesivos de grabado
y el tiempo complejidad del tratamiento se reduce considerablemente. 15
Sin embargo, encontramos en la literatura slo un estudio sobre el momento
ideal para adhesivo de curado por luz y sellador. 4 En 2005, Torres et
Alabama. 4 lleg a la conclusin de que en las condiciones de contaminacin
salivales, cizalla resistencia de la unin no se vio afectada por el protocolo
de fotocurado.
No obstante, en el mismo estudio, el co-polimerizacin entre el adhesivo y
el sellador, en condiciones secas, dando mayores valores de resistencia de
adhesin que la polimerizacin independiente de los componentes.

El objetivo del presente estudio fue evaluar la influencia de dos sistemas


adhesivos de autograbado y dos cadenas ligeras la curacin de protocolos
en la resistencia al cizallamiento de un sellador de llenadoal esmalte, en
condiciones de contaminacin salivales.

MATERIALES Y MTODOS
Las muestras utilizadas en este estudio se prepararon al azar seleccionando
incisivos permanentes no cariosas en humanos.
Tabla 1 Sellantes y adhesivos materiales usados en el estudio
Material
Lote
Prompt-L-Pop
Sistema Adhesivo

Composicin
Funcin

N de

Lquido A:

290226

HEMA, agua purificada, etanol,


BHT, dixido de silicio altamente
disperso.
Lquido B:
El cido fosfrico metacrilato
modificado, metacrilato de
Mono- fluoro fosfaceno
modificada, Dimetacrilato de
uretano, BHT, canforoquinona,
etil 4 dimetilaminobenzoato.
Xeno III

Lquido A:
steres de cido fosfrico,

608000376

Sistema Adhesivo
metacrilados Bis-GMA,
iniciadores basados en
canforquinona, estabilizadores
Lquido B:
Agua, HEMA, cido polialquenoico
Estabilizadores
Delton
70125

Monmeros de baja viscosidad,


Sellador
de dimetacrilato de trietilenglicol,
Bis -GMA, dixido de titanio,
El fluoruro de sodio, bario aluminio
fluroboro vidrio de silicato (38%),
iniciador de la polimerizacin,
Estabilizador

Tabla 2 - Diseo experimental


Grupo 1
Co- Polimerizacin
Polimerizacin

Grupo 2
Independiente De
1. Application of the self-etching adhesive system XIII
2. Salivary contamination

3. Aplicacin De Sellador
10 S
4. Co - polimerizacin de 20 s
polimerizacin de 20 s

Grupo 3
Co- polimerizacin
Independiente De Polimerizacin

3. Aplicacin De Sellador
10 S
4. Co- polimerizacin 20 s

3. Polimerizacin Adhesivo
4. Aplicacin Sellante
5. Sellador de

Grupo 4

1. La aplicacin del PLP sistema adhesivo de autograbado


2. La Contaminacin Salival
3. Polimerizacin Adhesivo
4. Aplicacin Sellante
5. Sellador de polimerizacin

de 20 s

Despus extraccin, utilizados en este estudio sesenta dientes que fueron


almacenados en solucin de cloramina 0,5% hasta por 15 das y se
almacena en de agua destilada, a 4 C, hasta el comienzo del estudio. 16
Los sistemas de adhesivos y sellantes usados en este estudio son
enumerados en la tabla 1, junto con la composicin, nmeros de lote y
cdigos. Todos los materiales se utilizaron de acuerdo con el fabricante de
las instrucciones.
Los dientes fueron instalados en la placa A de un solo plano Watanabe
ensayo de corte regazo utiliza para realizar las pruebas de resistencia
adhesiva. 17 En cada placa, una pelcula de plstico (Mylar, Dupont,

Wilmington, DE, EE.UU.) con orificio de un dimetro de 3 mm fue adaptada


para estandarizar la rea de adhesin. se coloc La superficie vestibular de
cada diente en la pelcula con su eje largo paralelo al eje largo de la plato.
A continuacin, se inicia el protocolo de adhesin, la aplicacin de uno de
los sistemas adhesivos de autograbado sin llenar de luz de curado
estudiados, para el esmalte de la superficie vestibular de los dientes. Xeno
III (Dentsply, Konstanz, Alemania) se aplic sobre 30 dientes y se utiliz
prompt-L-Pop (3M / Espe, Seefeld, Alemania) en otros 30 dientes.
Todas las muestras fueron sometidas a continuacin a la contaminacin con
1 ml de saliva fresca del operador. Despus de este procedimiento, cada
grupo fue dividido en otros dos grupos de acuerdo a la luz protocolo de
curado utilizado (Tabla 2). De este modo, los 60 dientes eran al azar
divididos en cuatro grupos experimentales (n = 15).

El sellador (Delton, Dentsply, Konstanz, Alemania), se aplic en la superficie


del esmalte con una cilndrico polyvinylsiloxan (ETS expreso, / Espe 3M) con
3,1 mm de molde dimetro y altura 3 mm. La altura de sellado en el interior
del molde era de aproximadamente 1 mm y el resto del molde se llen con
la resina Z100 (3M / Espe, mucho 3021A2) y fotocurado durante 40 s (20 s
con el molde y 20 s sin ella), con una luz de curado unidad (3M / Espe, XL
3000) con 450 mW / cm2.
Las muestras se almacenaron a 37 C, en ambiente de humedad, para 12
h, y luego ciclado trmico en 500 ciclos (5.5 C-55 C). Despus de estos
procedimientos de la placa B del aparato de ensayo de corte se estableci.
En esta placa, Z100 se aplic alrededor del cilindro (Sellador + Z100) y se
cur durante 40 s. El espacio alrededor de la dental espcimen se llen de
escayola tipo IV (Gilstone, BK Giulini, Ladenburg, Alemania).
Las muestras se almacenaron durante otros 12 h, en las mismas
condiciones descritas anteriormente. Las pruebas de resistencia al
cizallamiento eran hecho usando una mquina de ensayo universal (Instron
Corp. 4502, Canton, MA, EE.UU.) con una velocidad de la cruceta de 5 mm /
min. modo de fallo se analiz con un microscopio estereoscpico (Meiji
Techno, Saitama, Japn) a 20 aumentos.
Los fracasos fueron clasificados en uno de tres tipos: Tipo 1, menos de 30%
de sellador en el rea de adhesin; escriba 2-30% a 70% de sellador en el
rea de adhesin; tipo 3 - ms de
70 % de sellador en el rea de
adhesin.
Los datos se analizaron con ANOVA de dos vas , y Tukey prueba post -hoc
Kramer ( Statview , versin 5.0 , SAS Institute , Cary , NC , EE.UU. ) .
RESULTADOS
Los resultados de este estudio in vitro en - se presentan en la figura 1. Se
obtuvieron los valores de adhesin media ms alta cuando Prompt - L -Pop

fue co - polimerizado con el sellador (33.751 10.822 MPa) y los valores


medios ms bajos fueron obtenido cuando Xeno III y el sellador eran
independientemente polimerizado (26.562 5.148 MPa ) .
Tal como se presenta en la tabla 3, el protocolo de curado tena una
influencia significativa en la resistencia de la unin (p = 0,0116). El copolimerizacin del sistema adhesivo y el sellador arrojado valores
estadsticos mayor fuerza de adhesin, de forma independiente del
adhesivo utilizado. No hubo diferencias significativas (P > 0,05 ) entre los
valores de adhesin obtenidos con la dos sistemas adhesivos .
Modos de fallo adhesivo, tipo 1 (65 %) fueron los ms detectados, seguido
de tipo 2 ( 23 %) y, finalmente, de tipo 3 fallos ( 12 %).

Discusin
La eficacia de la correcta aplicacin de selladores de fisuras en la
prevencin de caries oclusales ha sido demostrado por varios autores. 3,18-21
Sin embargo, debido principalmente a la saliva sellador contaminacin
adherencia puede fallar que conduce a la prdida parcial / total de sellante
y, lo que es peor, a la caries secundaria. En la presencia de contaminacin,
los estudios son unnimes relativamente a la ventaja de utilizar un sistema
adhesivo bajo el sellador. 2,6, 7,10-14
Incluso en ausencia de saliva contaminacin, algunos autores llegaron a la
conclusin de que el sistema adhesivo aplicacin es ventajoso, ya que los
valores de resistencia adhesiva logrado es mayor en comparacin con la
tcnica clsica. 11,22
Sin embargo, otros autores consideran que estas diferencias sean
insignificantes e hizo hincapi en el aumento del tiempo clnico de este
procedimiento. 17,23
Con la aparicin de los sistemas adhesivos de 6 generacin, la
procedimiento de adhesin ha vuelto ms rpido. 24
No obstante, seria persisten las dudas sobre la eficacia de esmalte grabado
con estos sistemas debido a su pH ms alto en comparacin con el ortofosfrico cido, aliado a la hipermineralization del esmalte superficial. 15,25

En 2001, Koh et al 26 realizaron un estudio comparativo con varios sistemas


adhesivos generacin 4 y 6. Los resultados de la resistencia al cizallamiento
de esmalte fueron muy similares con los dos tipos de sistemas de adhesivo.
Prompt-L-Pop (pH = 1) y Xeno III (PH <1) se consideran sistemas agresivos,
27
y el esmalte patrn de desmineralizacin producida por ellos es similar a
la promovido por adhesivos de 4 generacin 7,28 con la ventaja de la
simplificacin de la tcnica y la reduccin de tiempo clnico.
Los adhesivos de autograbado utilizados en este estudio permitieron
resistencia de la unin satisfactoria valores entre el sellador y la esmalte
superficial de dientes humanos, sin diferencias entre probaron los dos
sistemas adhesivos. Sin embargo, un resultado relevante fue encontrado.
Con la contaminacin saliva, la co-polimerizacin entre el adhesivo y el
sellador dado mayor adhesin al cizallamiento.
Los valores de resistencia en comparacin con la polimerizacin
independiente de los dos materiales. Esto nos lleva a la sugerencia de copolimerizacin del sellador con un adhesivo de autograbado en pacientes en
los que un aislamiento completo es difcil de lograr.
En el estudio realizado por Torres et al 4, los resultados fueron diferentes
encontr. Llegaron a la conclusin de que, en las condiciones de
contaminacin, la protocolo fotopolimerizable no afect a la resistencia al
cizallamiento.
Sin embargo, se utiliz un sistema adhesivo de 5 generacin y realizado el
contacto con la saliva en el esmalte grabado superficie. Podemos, por lo
tanto, tenga en cuenta que los autores de ese estudio no encontr
diferencias en el curado protocolo, debido a que la contaminacin fue la
variable principal que realmente afectado a la adhesin, ya que se han
utilizado de grabado total sistemas adhesivos. En nuestro estudio hemos
utilizado adhesivos de autograbado y aunque la contaminacin de saliva fue

una constante en todos los grupos, los valores de resistencia de adhesin


obtenidos fueron satisfactorios.
Relativamente al modo de fallo de las muestras en nuestra trabajo, tipo 1
fue el ms detectado (65%), lo que indica que la

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