Dissertação Cloreto

ISEL
INSTITUTO SUPERIOR DE ENGENHARIA DE LISBOA

REA DEPARTAMENTAL DE ENGENHARIA QUMICA
Teor crtico de cloretos para iniciao da corroso do

ao no beto. Influncia do estado de superfcie da
armadura
ANDREI SADOVSKI
(Licenciado em Engenharia Qumica e Biolgica Ramo Qumica)
Trabalho Final de Mestrado para obteno do grau de Mestre

em Engenharia Qumica e Biolgica Processos Qumicos
Orientador (es):
Doutora Elsa Vaz Pereira
Doutor Nelson Guerreiro C. Nunes
Jri:
Presidente: Prof Doutora Isabel Joo
Vogais:
Doutora Rute Fontinha
Prof. Doutor Ruben Leito
Doutora Elsa Pereira
Novembro de 2014
O trabalho apresentado nesta dissertao foi
realizado no mbito do 2 Ciclo em Engenharia
Qumica e Biolgica ramo de Processos
Qumicos do Instituto Superior de Engenharia
de Lisboa, no Ncleo de Materiais Metlicos do
Laboratrio Nacional de Engenharia Civil, sob a
orientao da Doutora Elsa Vaz Pereira e do
Doutor Nelson Cortez Nunes.
Agradecimentos
Acredito que Agradecer nunca demais, sendo que por vezes no existam palavras
suficientes que descrevam a gratido sentida. Por isso, quero dizer um Muito
Obrigado! a todas as pessoas que contriburam direta ou indiretamente na realizao
deste trabalho, e no esquecendo, que para chegar a esta etapa da minha vida foi
necessrio percorrer um caminho, com as dificuldades sentidas, mas que com o vosso
apoio foi possvel ultrapassar todos os obstculos. Por isso, Obrigado mais uma vez,
pelo apoio e confiana que tiveram em mim, obrigado por existirem e fazerem parte da
minha vida, sem vocs nada seria possvel.
Agradeo aos meus orientadores Doutor Nelson Nunes e Doutora Elsa Vaz Pereira
pelo apoio e pela constante disponibilidade, assim como, pela confiana que em mim
depositaram ao longo da realizao deste trabalho, pelas sugestes durante a
realizao do trabalho experimental e durante o perodo de escrita. Muito Obrigado!
Um agradecimento especial famlia que compe o Ncleo de Materiais Metlicos do

LNEC, pelo carinho e pelo apoio prestado ao longo do tempo da realizao do TFM.
Um sincero e especial obrigado Paula Melo, pelo apoio incansvel ao longo da

realizao deste trabalho, pela sua amizade e carinho!
Como no poderia deixar de ser, um Obrigado minha Famlia e Amigos, em especial

minha querida Me, pelos sacrifcios que tens feito e por confiares e fazeres de mim
o homem que sou hoje, obrigado por Tudo!
Obrigado aos Colegas e Amigos Iselianos, pela amizade, companheirismo e ajuda

que ao longo destes anos partilhamos. Pelos bons momentos passados fora e dentro
do ISEL e pelos estmulos nas alturas de desnimo, Muito Obrigado.
Por ltimo, aproveito mais uma vez, para a gradecer a todas as pessoas que de
alguma forma contriburam para a realizao deste trabalho e para o meu crescimento
como pessoa. Sou o resultado da confiana e da fora de cada um de vocs.
MUITO OBRIGADO A TODOS VS!
I
Resumo
A corroso das armaduras no beto a principal causa de degradao do beto
armado em ambiente martimo. Com o presente trabalho pretende-se contribuir para o
conhecimento da influncia do estado de superfcie do ao das armaduras no teor
crtico de cloretos (CCrit). Para tal recorreu-se a estudos eletroqumicos (Polarizao
Potenciodinmica e Tcnica do Eletrodo Vibrante de Varrimento SVET) em solues
simulativas do lquido intersticial do beto, com diferentes concentraes de cloretos e
por anlise da superfcie das amostras de ao com vrios acabamentos/estados de
superfcie atravs da observao em microscopia tica (MO) e em microscopia
eletrnica de varrimento, associada a microanlise por disperso de raios-X
(MEV/EDS).
Os ensaios eletroqumicos foram realizados numa soluo que simula a soluo

existente nos poros do beto (SPS), de pH ~ 13.5 e 11.6, com diferentes
concentraes de cloretos. Nos estudos de polarizao potenciodinmica utilizou-se
um varrimento de potencial entre -0.2 V, em relao ao EOC, e +0.6 V, em relao ao
Eref, a uma velocidade de 0.5 mV/s, em amostras de ao montadas em resina
epoxdica e com diferentes estados de superfcie: tal e qual (T), espelhada (D), polida
(P500) e pr-oxidada (DH). Verificou-se, da polarizao potenciodinmica, que, a pH ~
13.5, o estado de superfcie do ao influencia a resistncia corroso por picada,
sendo esta sequenciada por > > 500 > . Verificou-se tambm que a
resistncia do ao corroso por picada inferior quando o pH da SPS diminui de
13.5 para 11.6.
Por SVET, verificou-se que a formao de zonas ativas quase imediata para teores
de cloretos elevados (5 e 7%) e a diminuio de correntes andicas com o tempo para
teores inferiores pode ser explicada com a repassivao do ao, enquanto que nas
zonas catdicas a diminuio da corrente pode ser atribuda precipitao de
produtos de corroso.
Por MEV/EDS e MO verificou-se que a corroso se inicia, frequentemente, na zona de

interface ao-resina, visto que nessa zona existem fendas e vazios, condies
favorveis ocorrncia de corroso intersticial.
Palavras-Chave: Corroso no beto armado, Polarizao potenciodinmica, Soluo

simulativa dos poros do beto, Teor crtico de cloretos, SVET, MEV
II
Abstract
The reinforcement corrosion in concrete is the main cause of degradation of reinforced

concrete for marine environment. This work is intended as a contribution to the
understanding of some aspects of the steel surface finishing to determine the threshold
chloride level (Cth), so we resorted to the electrochemical studies (potentiodynamic
polarization and Scanning Vibrating Electrode - SVET ) in simulative pore solution and
the surface analysis of steel samples with various surface finishes and chloride
concentrations by observation under an optical microscope (OM) and scanning
electron microscopy associated with microanalysis X-ray dispersion (SEM/EDS).
The electrochemical tests were performed in a simulative concrete pore solution (SPS),
at pH ~ 13.5 and 11.6, with different chloride concentrations. Electrochemical studies
were conducted on steel samples with a potential scanning between -0.2 V vs EOC to
+0.6 V vs Eref. with a rate of 0.5 mV/s, which were impregnated in epoxy resin with
different surface states: as received (T), polished (D), grinded (P 500) and pre-oxidized
(DH). It was found, through the potentiodynamic polarization curves, that, at pH of 13.5,
the chloride content above which can initiate the formation of pit is sequenced by D >
DH > P500 > T. It was also found that the steel's resistance to pitting corrosion is lower
when the pH of the SPS decreased from 13.5 to 11.6.
From the SVET technique, it was found that the formation of active areas is almost
immediate and the decrease in anode current with time can be explained with the
repassivation, while the cathode areas are affected with precipitation of corrosion
products and thus causing the same result.
From SEM/EDS and OM was found that corrosion frequently begins in steel-resin
interface, attributed to the existence in that zone of cracks and voids, favoring
conditions to the occurrence of crevice corrosion.
Keywords: Corrosion in reinforced concrete, Potentiodynamic polarization, Simulative

concrete pore solution (SPS), SEM, SVET, threshold chloride level
III
ndice
Agradecimentos ................................................................................................................. I
Resumo............................................................................................................................. II
Abstract ............................................................................................................................ III
ndice de Figuras ............................................................................................................ VII
ndice de Tabelas ...........................................................................................................XV
Lista de Abreviaturas .................................................................................................... XVI
Reviso Bibliogrfica ........................................................................................................ 2
1 Beto.............................................................................................................................. 2
1.2 Constituintes do beto ........................................................................................... 5
1.2.1 Cimento .............................................................................................................. 5
1.2.2 Agregados .......................................................................................................... 8
1.2.3 gua de amassadura ....................................................................................... 10
1.2.4 Adjuvantes ....................................................................................................... 11
1.3 Fabrico de beto .................................................................................................. 12
1.4 Trabalhabilidade .................................................................................................. 14
1.5 Armaduras para beto armado ........................................................................... 15
1.6 Corroso no beto armado ................................................................................. 17
1.6.1 Tipos de corroso ............................................................................................ 28
1.6.1.1 Corroso induzida por cloretos .................................................................... 30
Corroso por picada ................................................................................................... 32
Corroso intersticial .................................................................................................... 35
1.6.1.2 Corroso induzida por carbonatao........................................................... 36
1.7 Fatores que influenciam o teor crtico de cloretos () .................................. 38
Estado de superfcie do ao ....................................................................................... 40
pH da soluo porosa................................................................................................. 42
Interface ao-beto..................................................................................................... 44
1.8 Influncia dos xidos no teor crtico de cloretos ................................................. 45
2 Mtodos ..................................................................................................................... 48
IV
2.1 Introduo ............................................................................................................ 48
2.2 Mtodos eletroqumicos ...................................................................................... 49
2.2.1 Potencial de corroso ...................................................................................... 49
2.2.2 Polarizao potenciodinmica ......................................................................... 50
2.2.3 Tcnica do eltrodo vibrante de varrimento (SVET) ....................................... 56
2.2.4 Microscopia tica ............................................................................................. 62
2.2.5 Microscopia eletrnica de varrimento (MEV) .................................................. 63
2.3 Preparao metalogrfica ................................................................................... 67
Seleo da amostra e escolha do local da amostra a observar seccionamento da

amostra ....................................................................................................................... 67
Corte ........................................................................................................................... 68
Impregnao ............................................................................................................... 69
Polimento .................................................................................................................... 71
Ataque qumico (contrastao) .................................................................................. 74
3 Procedimento Experimental ...................................................................................... 77
3.1 Introduo ............................................................................................................ 77
3.2 Reagentes e auxiliares ........................................................................................ 78
3.3 Material ................................................................................................................ 78
3.4 Equipamento........................................................................................................ 79
3.5 Procedimento Experimental ................................................................................ 83
3.5.1 Preparao das amostras................................................................................ 83
3.5.2 Preparao das solues ................................................................................ 85
3.5.3 Identificao das amostras para ensaio .......................................................... 87
3.6 Estudos Eletroqumicos ....................................................................................... 88
3.6.1 Polarizao Potenciodinmica (curvas de polarizao) ................................. 88
3.6.2 SVET ................................................................................................................ 89
3.7 Observao ao microscpio eletrnico de varrimento (MEV) ............................ 92
Apresentao e Discusso de Resultados .................................................................... 93
4. Apresentao e Discusso de Resultados ............................................................... 94
V
4.1 Introduo ............................................................................................................ 94
4.2 Monitorizao do potencial em circuito aberto (E OC) .......................................... 94
4.3 Polarizao Potenciodinmica ............................................................................ 99
4.3.1 Representao ....................................................................................... 99
4.3.2 Representao .............................................................................. 104
4.4 Tcnica do eltrodo vibrante de varrimento (SVET) ........................................ 114
4.5 Microscopia ........................................................................................................ 120
4.5.1 Microscopia tica ........................................................................................... 120
4.5.2 Microscopia eletrnica de varrimento (MEV-EDS) ....................................... 124
Consideraes Finais ................................................................................................... 152
Referncias Bibliogrficas ........................................................................................... 156
VI
ndice de Figuras
Figura 1: Fotografias do processo de produo do beto, onde A Cimento, B -

Agregado fino (Areia), C Agregado grosso (pedra ou brita), D Pasta de cimento e
gua, E Argamassa e F Beto. [7] ............................................................................. 4
Figura 2: Clnquer antes do processo de moagem 1[7] 2[11]. .......................................... 6
Figura 3: Desenvolvimento da resistncia nos compostos puros de cimento Portland
[10]. ................................................................................................................................... 8
Figura 4: Esquema de classificao dos agregados quanto a sua dimenso [6]. .......... 9
Figura 5: Agregados Artificiais - Brita (1 e 2); Agregados Naturais (3 Areia e 4
Seixo Rolado) [7]. ............................................................................................................. 9
Figura 6: Variao da tenso de rotura do beto com a relao A/C [6]. ..................... 12
Figura 7: Esquema do ensaio de abaixamento do cone de Abrams (adaptado de [9]).
........................................................................................................................................ 15
Figura 8: Disposio das nervuras de uma armadura do tipo A500 NR SD [5]. .......... 16
Figura 9: Disposio das nervuras indicando o fabricante e o pas produtor [5]. ......... 16
Figura 10: Corroso de um metal, M, num eletrlito que contem oxignio (adaptado de
[18]) ................................................................................................................................. 18
Figura 11: Potencial de Equilbrio Catdico (Eoc), Potencial de Equilbrio Andico
(Eoa), Potencial Real (E) e sobretenso catdica (c) e andica (a) (adaptado de
[18]). ................................................................................................................................ 19
Figura 12: Diagrama de equilbrio (E vs pH) do sistema ferro-gua a 25C
(considerando Fe, Fe3O4 e Fe2O3 substncias slidas) (adaptado de [26]). ................ 21
Figura 13: Curva de polarizao dum ao passivo. Definio do potencial de corroso
(Ecorr), potencial de picada (Epit) e influncia do oxignio e dos ies cloretos nos
mesmos (adaptado de [19]). .......................................................................................... 22
Figura 14: Gamas tpicas de potenciais do ao no beto [19]. ..................................... 23
Figura 15: Representao esquemtica da corroso da armadura (adaptado de [30]) 24
Figura 16: Esquema representativo dos produtos formados durante o processo de
corroso [31] ................................................................................................................... 25
Figura 17: Efeito do aumento de volume das armaduras na fendilhao do beto [32].
........................................................................................................................................ 26
Figura 18: Influncia da humidade relativa (%) no coeficiente de difuso de gases e
ies (adaptado de [19]) .................................................................................................. 27
Figura 19: Interao entre o beto e os agentes agressivos [33]. ................................ 28
Figura 20: Principais tipos de corroso, agrupados de acordo com a sua forma de
identificao/reconhecimento [18].................................................................................. 29
VII
Figura 21: Tipos de corroso e fatores que provocam[37]. ........................................... 29
Figura 22: Definio do Teor Critico de Cloretos, segundo o modelo Tuutti (adaptado
de [39]). ........................................................................................................................... 31
Figura 23: Representao esquemtica da corroso por picada induzida pelos cloretos
(adaptado de [19,28]). .................................................................................................... 33
Figura 24: Esboo de uma picada no ferro, com potenciais referentes ao SHE [18]. .. 34
Figura 25: Corroso por crevice, onde a) e b) correspondem ao estado inicial e
posterior, respetivamente [18]. ....................................................................................... 36
Figura 26: zonas envolvidas no mecanismo de carbonatao e variao do pH ao
longo da profundidade do beto [36]. ............................................................................ 37
Figura 27: Medio da frente de carbonatao [23]. ..................................................... 38
Figura 28: Valores de teores crticos de cloretos [9]. .................................................... 40
Figura 29: Imagem de um ao (tal e qual) tirado no MEV antes da exposio a soluo
porosa [57]. ..................................................................................................................... 45
Figura 30: Influncia do recobrimento das armaduras nas leituras de potencial de
corroso [33]. .................................................................................................................. 50
Figura 31: Ilustrao esquemtica de um sistema de medio com trs eltrodos [18].
........................................................................................................................................ 51
Figura 32: Representao grfica da informao fornecida pelas curvas andicas e
catdicas [31].................................................................................................................. 52
Figura 33: Curva de Potencial log (i), para uma reao de eltrodo simples, com b a e
bc correspondente ao declive de Tafel da componente andica e catdica,
respetivamente. Ia = ic = io corresponde a = 0 (adaptado de [18,28])......................... 54
Figura 34: Curvas de polarizao e as respetivas curvas de sobrepotencial [18]. ....... 54
Figura 35: Curva de polarizao catdica em condies diferentes, com a) beto ao ar
livre, b) beto molhado ou hmido e c) beto imerso em gua [21]. ............................ 55
Figura 36: Curva de polarizao andica da armadura no beto [21]. ......................... 56
Figura 37: Representao esquemtica do fluxo inico, corrente inica e diferena de
potencial no eletrlito (adaptado de [61])....................................................................... 57
Figura 38: a) densidade de corrente local calculada a partir da SRET e b) medida pela
SVET [65]. ...................................................................................................................... 59
Figura 39: Evoluo da corroso de um ao macio durante as primeiras 24 horas de
imerso em 0.05M NaCl [65].......................................................................................... 60
Figura 40: Tipos de resposta de acordo com as intensidades de corrente detetados
pela SVET, onde 1) Correntes baixas em A1 e A2; 2) Corrente em A1 maior que em
A2; 3) Correntes de mdia intensidade em A1 e A2; 4) Correntes altas em A1 e A2
(adaptado de [63]. .......................................................................................................... 60
VIII
Figura 41: Esquema de algumas das limitaes da corrente medida pela SVET [65]. 61
Figura 42: Fotografia do Microscpio tico usado neste trabalho para fotografar as
amostras [36]. ................................................................................................................. 62
Figura 43: Partes de um microscpio tico de reflexo [36,67]. ................................... 63
Figura 44: Interao do feixe eletrnico com a amostra e origem de alguns sinais [66].
........................................................................................................................................ 64
Figura 45: Imagem de um ao no MEV, onde a esquerda corresponde a imagem em
eletres retrodifundidos e a direita a imagem em eletres secundrios. ...................... 65
Figura 46: Representao esquemtica dos componentes do MEV [66]. .................... 66
Figura 47: A- corte sem lubrificao; B corte com lubrificao insuficiente; C corte
com refrigerao reduzida; D corte com lubrificao adequada, mas com excessiva
variao de presso na alavanca da mquina [69]. ...................................................... 69
Figura 48: Amostra impregnada em resina, com dimenses x e y mm (adaptado de
[70]) ................................................................................................................................. 70
Figura 49: Impregnao da amostra em moldes de plstico (A e B) e resultado final
aps desmoldagem (C). ................................................................................................. 70
Figura 50: Representao esquemtica do polimento com recurso a lixas de polimento
de diferentes granulometrias, onde a orientao para o polimento: A-A direo de
polimento na primeira lixa e B-B direo na lixa seguinte, repetindo sempre a
sequencia AA-BB (adaptado de [67,69]). ...................................................................... 73
Figura 51: Fotografias de uma amostra de cobre polidas com granulometrias de A
180, B 400, C 800 e D 1200 [70]. ......................................................................... 73
Figura 52: Mquina de corte Struers - Labotom-3 (Spindle speed: 2845 rpm 50Hz ou
3450 rpm 60Hz). ............................................................................................................. 79
Figura 53: Mquina de corte automtica de preciso Struers....................................... 79
Figura 54: Equipamento utilizado no polimento das amostras [42]. ............................. 80
Figura 55: Microscpio tico Olympus PMG3 acoplado a mquina fotogrfica Olympus
DP-20. ............................................................................................................................. 80
Figura 56: Microscpio tico usado para a observao das amostras. ........................ 81
Figura 57: Potencistato Reference 600 Potentiostat/Galvanostat/ZRA da Gamry
Instruments. .................................................................................................................... 81
Figura 58: Equipamento de recobrimento para a visualizao no MEV-EDS. ............. 82
Figura 59: Microscpio Eletrnico de Varrimento (MEV). ............................................. 82
Figura 60: Equipamento para a realizao da tcnica SVET da Princeton Applied
Research Scanning Electrochemical Workstation Modelo 370............................... 83
IX
Figura 61: Procedimento do polimento com recurso a lixas de SiC (A), com recurso a
pano de polimento (B) e as suspenses de diamante utilizadas (C) (adaptado de [36]).
........................................................................................................................................ 84
Figura 62: Amostras impregnadas em resina, em que A amostra polida corretamente
e B amostra polida incorretamente, com vrios planos de polimento [69]. ............... 85
Figura 63: Imagem de uma amostra que sofreu polimento com lixa de SiC de
granulometria 500 (imagem da esquerda) e amostra que sofreu corte na mquina de
corte automtico de preciso Struers (imagem da direita). ........................................... 85
Figura 64: Clula eletroqumica utilizada para a realizao dos ensaios eletroqumicos
(polarizao potenciodinmica). .................................................................................... 88
Figura 65: Contra eltrodo usado nos ensaios. ............................................................. 89
Figura 66: Amostra usada para a anlise SVET. .......................................................... 89
Figura 67: Imagem da clula eletroqumica utilizada nos ensaios SVET. .................... 90
Figura 68: Representao esquemtica da clula eletroqumica usada em ensaios
SVET [73]. ...................................................................................................................... 91
Figura 69: Imagem da janela de medio do sinal, a realizar antes de qualquer
medio. ......................................................................................................................... 91
Figura 70: Potencial em circuito Aberto (E OC) da condio D, correspondente a uma
amostra que teve um acabamento de superfcie com polimento de suspenso de
diamante de 1 m. .......................................................................................................... 95
Figura 71: Potencial em circuito Aberto (E OC) da condio T, correspondente a uma
amostra que no sofreu nenhum polimento, apos corte foi usada tal e qual, ou seja,
apresenta a rugosidade obtida da mquina de corte. ................................................... 96
Figura 72: Potencial em circuito Aberto (E OC) da condio P500, correspondente a uma
amostra que teve um acabamento de superfcie at um polimento com lixa de SiC de
granulometria 500........................................................................................................... 96
Figura 73:Potencial em circuito Aberto (E OC) da condio DH, correspondente a uma
amostra que teve um acabamento de superfcie com polimento de suspenso de
diamante de 1 m, sendo posteriormente pr-oxidada com gua destilada. ............... 96
Figura 74: Curva de polarizao andica do ao, com polimento diamante (condio
D), na soluo SPS com diferentes concentraes de cloretos. ................................ 100
Figura 75: Curva de polarizao andica do ao, com polimento lixa 500 (condio
P500), na soluo SPS com diferentes concentraes de cloretos. ............................. 101
Figura 76: Curva de polarizao andica do ao, sem polimento (condio T), na
soluo SPS com diferentes concentraes de cloretos. ........................................... 102
Figura 77: Curva de polarizao andica da amostra oxidada (condio DH) na soluo
SPS com diferentes concentraes de cloretos. ......................................................... 103
X
Figura 78: Curvas de polarizao, da amostra com polimento diamante (condio D)
em soluo SPS, com diferentes concentraes de cloretos. (Representao
log i vs E). ...................................................................................................................... 104
Figura 79: Curvas de polarizao, da amostra pr-oxidada (condio DH) em soluo
SPS, com diferentes concentraes de cloretos. (Representao log i vs E). ............ 105
Figura 80: Curvas de polarizao, da amostra polida com uma lixa de granulometria
500 (condio P500) em soluo SPS, com diferentes concentraes. (Representao
log i vs E). ...................................................................................................................... 106
Figura 81: Curvas de polarizao, da amostra que no sofreu polimento (tal e qual)
(condio T) em soluo SPS, com diferentes concentraes. (Representao
log i vs E). ...................................................................................................................... 107
Figura 82: Curvas de polarizao potenciodinmica do ao em soluo porosa, de pH
11.6, com diferentes concentraes de ies cloreto. .................................................. 112
Figura 83: Precipitado observado aps polarizao potenciodinmica das amostras em
soluo porosa com ies cloreto, de pH 11.6, onde A- vista lateral e B- vista superior.
...................................................................................................................................... 112
Figura 84: Imagem SVET da zona de ao, 1x1 mm, em soluo sem cloretos, ao fim
de 25 minutos. .............................................................................................................. 115
Figura 85: Imagens SVET da soluo de hidrxido de sdio com 3% de ies cloreto.
...................................................................................................................................... 116
...................................................................................................................................... 117
...................................................................................................................................... 118
Figura 88: Imagem ao microscpio tico da amostra que sofreu o ensaio, em soluo
alcalina com diferentes concentraes de cloretos, recorrendo a SVET. .................. 119
Figura 89: Observao ao microscpio tico de uma amostra de ao, aps polarizao
potenciodinmica em soluo SPS com 0% de cloretos. A) com polimento 500 (P 500) ;
B) polimento diamante direita. Ampliao 10X. ........................................................ 120
Figura 90: Observao ao microscpio tico de uma amostra de ao, com polimento
diamante (D), aps polarizao potenciodinmica em soluo SPS com 7% de
cloretos. Com ampliao 7.5X imagem esquerda e 15X direita. .......................... 121
Figura 91: Observao ao microscpio tico de uma amostra de ao, polida com lixa
granulomtrica 500 (P500), aps polarizao potenciodinmica em soluo SPS com
5% de cloretos. Com ampliao 10X imagem esquerda e 15X direita. ................ 121
XI
Figura 92: Observao ao microscpio tico de uma amostra de ao, sem polimento
(T), aps polarizao potenciodinmica em soluo SPS com 5% de cloretos. Com
ampliao 10X imagem esquerda e 15X direita. ................................................... 122
Figura 93: Observao ao microscpio tico de uma amostra de ao, que sofreu pr-
oxidao (DH), antes da polarizao potenciodinmica em soluo SPS com 5% de
cloretos. Com ampliao 10X imagem esquerda e 15X direita. ........................... 123
Figura 94: Observao ao microscpio tico de uma amostra de ao, que sofreu pr-
oxidao (DH), aps polarizao potenciodinmica em soluo SPS com 5% de
cloretos. Com ampliao 10X imagem esquerda e 15X direita. ........................... 123
Figura 95: Micrografia da superfcie do ao em modo ER, com polimento diamante (D),
aps polarizao potenciodinmica em soluo SPS com 7% de cloretos e respetivos
espetros EDS correspondentes a zona marcada na imagem. .................................... 127
Figura 96: Micrografia da superfcie do ao, onde A - modo ER, B- modo ES e C- zona
ampliada de B, com polimento diamante (D), aps polarizao potenciodinmica em
soluo SPS com 7% de cloretos e respetivos espetros EDS correspondentes a zona
marcada na imagem. .................................................................................................... 128
Figura 97: Micrografia da superfcie do ao, onde A - modo ER e B- modo ES, com
polimento diamante (D), aps polarizao potenciodinmica em soluo SPS com 7%
de cloretos e respetivos espetros EDS correspondentes a zona marcada na imagem.
...................................................................................................................................... 129
Figura 98: Micrografia da superfcie do ao, com A) a imagem ao microscpio tico
com B) correspondente a imagem em modo ER e C) em modo ES da imagem em A,
polida com lixa de granulometria 500 (P500), aps polarizao potenciodinmica em
soluo SPS com 5% de cloretos e respetivos espetros EDS correspondentes a zona
marcada na imagem. .................................................................................................... 130
Figura 99: Micrografia da superfcie do ao, em modo ES, polida com lixa de
granulometria 500 (P500), aps polarizao potenciodinmica em soluo SPS com
5% de cloretos e respetivos espetros EDS correspondentes a zona marcada na
imagem. ........................................................................................................................ 131
imagem. ........................................................................................................................ 132
Figura 101: Micrografia da superfcie do ao, em modo ER, polida com lixa de
imagem. ........................................................................................................................ 133
XII
imagem. ........................................................................................................................ 134
imagem. ........................................................................................................................ 135
Figura 104: Micrografia da superfcie do ao, com A) a imagem ao microscpio tico
com B) correspondente a imagem em modo ER e C) em modo ES da imagem em A,
sem polimento (T), aps polarizao potenciodinmica em soluo SPS com 5% de
cloretos. ........................................................................................................................ 136
Figura 105: Micrografia da superfcie do ao, com A) imagem em modo ER e B) em
modo ES, sem polimento (T), aps polarizao potenciodinmica em soluo SPS
com 5% de cloretos e respetivos espetros EDS correspondentes a zona marcada na
imagem. ........................................................................................................................ 137
Figura 106: Micrografia da superfcie do ao, em modo ER, sem polimento (T), aps
polarizao potenciodinmica em soluo SPS com 5% de cloretos e respetivos
imagem. ........................................................................................................................ 139
imagem. ........................................................................................................................ 140
Figura 109: Micrografia da superfcie do ao, em modo ER, sem polimento (T), aps
Figura 110: Micrografia da superfcie do ao, em modo ES, sem polimento (T), aps
Figura 111: Micrografia da superfcie do ao, em modo ES, polida e pr-oxidada (DH),
XIII
Figura 112: Micrografia da superfcie do ao, A) em modo ER e B) em modo ES, polida
e pr-oxidada (DH), aps polarizao potenciodinmica em soluo SPS com 5% de
cloretos e respetivos espetros EDS correspondentes a zona marcada na imagem. . 144
XIV
ndice de Tabelas
Tabela 1: Componentes qumicos formados no processo de cozimento da argila e

calcrio (adaptado de [10])............................................................................................... 7
Tabela 2: Caractersticas dos Componentes do Clnquer Portland (adaptado de [5]). .. 7
Tabela 3: Teores crticos de cloretos totais (% mssica de cimento), mostram a
variabilidade dos teores crticos de cloretos totais em funo do pH da soluo
simulativa (adaptado de [46]). ........................................................................................ 43
Tabela 4: Estados de corroso do ao no beto e respetivos potenciais eletroqumicos
(adaptado de [31]). ......................................................................................................... 49
Tabela 5: Composio qumica da SPS (adaptado de [56]). ........................................ 86
Tabela 6: Quantidade de NaCl usado na preparao das solues............................. 86
Tabela 7: Condies de exposio e tipo de condio de superfcie das amostras
utilizadas em estudo. ...................................................................................................... 87
Tabela 8: Valores de potenciais em circuito aberto, E OC, para os diferentes estados de
superfcie com varias concentraes de cloretos medidas as 23 h. ............................. 97
Tabela 9: icorr e Ecorr para cada estado de superfcie em soluo SPS com diferentes
concentraes de cloretos. .......................................................................................... 108
Tabela 10: Teor de cloretos, CCl-, acima do qual ocorre rotura do filme de passivao
no intervalo entre Ecorr e 500 mV vs. SCE para os vrios estados de superfcie
estudados. .................................................................................................................... 109
Tabela 11: Parmetros de polarizao para o estado de superfcie em soluo
simulativa de pH 11.6, com diferentes concentraes de cloretos. ............................ 113
XV
Lista de Abreviaturas
C3S Silicato Triclcico

C2S Silicato Biclcico
(A/C) ou (w/b) Relao gua/cimento
M(OH)2 Hidrxido metlico
2+
M Ies metlicos
SCE Eltrodo saturado de calomelano
SHE Eltrodo padro de hidrognio
Cu/CuSO4 Eltrodo de cobre/sulfato de cobre
EOC Potencial em circuito aberto
Ecorr Potencial de corroso
Sobretenso (ou sobrepotencial)
E Potencial
Eeq Potencial de equilbrio
Eoc Potencial de equilbrio catdico
Eoa Potencial de equilbrio andico
Icorr Corrente de corroso
Epit Potencial de picada
Ca(OH)2 Hidrxido de clcio
NaOH Hidrxido de sdio
KOH Hidrxido de potssio
Ca(OH)2 Hidrxido de clcio
CaSO4 .H2 O Sulfato de clcio hidratado
NaCl Cloreto de sdio
KNO3 Nitrato de potssio
CO2 Dixido de carbono
CaCl2 Cloreto de clcio
CaCO3 Carbonato de clcio
Fe2O3.nH2O xido de ferro tri-hidratado
Fe(OH)3 Hidrxido de ferro

Fe3 O4 Magnetite
-FeOOH Lepidocrocite
XVI
-FeOOH Goethite
-Fe2 O3 Hematite
(SO4)2- Ies sulfatos
Cl- Ies cloreto
c Concentrao de cloretos
t Tempo
s Segundos
D Coeficiente de difuso
x Profundidade
nm Nanmetros
m Micrmetros
A Microampere
HR Humidade relativa
Ccrit Teor crtico de cloretos
CCl- Teor de cloretos
Cllab Teores crticos cloretos em laboratrio

C(field) Teores crticos de cloretos em ambiente externo
j Densidade de corrente em soluo
E Diferena de potencial
Amplitude de vibrao
Condutividade da soluo
SVET Tcnica do Eltrodo Vibrante de Varrimento (do ingls Scanning Vibrating
Electrode Technique)
SRET Tcnica do Eltrodo de Referncia Varrimento (do ingles Scanning Reference
Eletrode Technique)
MEV Microscopia eletrnica de varrimento (do ingls Scanning Electron Microscopy,
SEM)
BEI ou ER Imagem em eletres retrodifundidos (do ingls Backscattered Electron
Imaging, BEI)
SEI ou ES Imagem em eletres secundrios (do ingls Secondary Electron Imaging,
SEI).
EDS Espetroscopia de Disperso de Energia de raios-X
W Eltrodo de trabalho
R Eltrodo de referncia
C Contra eltrodo
Constante de Tafel
XVII
Fator de barreira de energia,
F Constante de Faraday
icorr Densidade de corrente de corroso
SPS Soluo simulativa dos poros no beto (do ingls Simulative Pore Solution)
T Estado de superfcie tal e qual
D Estado de superfcie espelhado
DH Estado de superfcie pr-oxidada
P500 Estado de superfcie polido com lixa de granulometria 500
MIX Cloretos adicionados durante a amassadura
DIF Penetrao de cloretos por difuso
CAP Penetrao de cloretos por capilaridade
NR No referenciado
Na Io sdio
OPC Cimento Portland
FA Cinzas volantes
RIB Ao nervurado
CL Ao limpo/desengordurado
SM Ao sem nervura
LPR Resistncia por polarizao linear
PC Controlo potenciosttico/polarizao
VI Inspeo visual
AR Ao como recebido (tal e qual)
OBS Observaes
XVIII
Captulo I
Reviso Bibliogrfica
Captulo I Reviso Bibliogrfica
Reviso Bibliogrfica
1 Beto
A utilizao do beto muito antiga tendo a sua origem na Grcia, onde empregavam
a mistura de pedras, areia, cal e gua na construo de grandes obras pblicas como
aquedutos e pontes. No entanto s comeou a ter uma aplicao mais ampla quando
o ingls Joseph Apsdin obteve, em 1824, a primeira patente para o fabrico do cimento
Portland, assim chamado pela semelhana da sua cor com a do calcrio da regio de
Portland [1].
Lambot, em 1848 associou beto com ao dando origem ao material estrutural

denominado por beto armado, o que com a interveno do arquiteto Auguste Perret
em 1898, foram os pontos de partida para a utilizao de um material de construo
que veio imprimir um novo rumo a construo do sculo XX [1].
No final do sculo XIX so vrios os estudos publicados sobre o beto armado, tendo
sido criada a primeira disciplina de Beto Armado na ENPC (cole National de Ponts
et Chausses) [2].
Em Portugal a Industria do cimento iniciou-se em 1894 com a fbrica de cimento Tejo

em Alhandra [3].
No que diz respeito a documentos normativos, em 1906 so publicadas as primeiras

instrues francesas (Regulamento), traduzidas e publicadas em 1907 pela Revista de
Obras Pblicas e Minas da Associao Portuguesa dos Engenheiros Civis, com o
ttulo As Instrues Francesas para o Formigo Armado [2,4].
Em 1911 so entretanto criadas em Portugal as Universidades de Lisboa e Porto e,

em 1918, aprovado o 1 Regulamento Portugus no domnio do beto armado
Instrues Regulamentares para o Emprego do Beton Armado, realizadas com base
nas normas francesas de 1906. Onde, no regulamento (1918), do-se indicaes
quanto composio a adotar num beto normal (dosagem tipo: 300 kg de cimento;
400 litros de areia e 800 litros de brita) [2].
Hoje em dia a definio das propriedades dos materiais a adotar em projeto e em obra
est contemplado na norma NP EN 1992-1-1 (Eurocdigo 2) e na norma NP EN 206-
2
1:2007/Emenda 2:2010, esta ltima refere os aspetos associados ao comportamento,

produo, colocao e critrios de conformidade do beto [4,5].
O beto, tal como fabricado atualmente, um material formado pela mistura de

cimento, de agregados grossos e finos e de gua, resultante do endurecimento da
pasta de cimento. Para alm destes componentes, pode tambm conter adjuvantes e
adies. Isto , o beto um material definido pela mistura corretamente
proporcionada de pedras e areias, com um ligante hidrulico, gua e, em alguns
casos, adjuvantes e aditivos, onde a coeso e resistncia so concedidas mistura
pela propriedade de endurecimento resultante da reao do ligante com a gua [6].
Para alm de uma boa colocao e compactao, exige-se uma dimenso mnima do
agregado de 4 mm, caso contrrio o material resultante denominado argamassa.
Depois da compactao deve apresentar uma estrutura fechada, onde o ar
aprisionado deve conter um teor em volume menor que 3%, quando a mxima
dimenso dos agregados superior ou igual a 16 mm e, 4%, quando a dimenso
mxima de agregados inferior a 16 mm.
Designa-se por pasta a mistura de cimento com gua, por argamassa a mistura de
pasta com areia e por beto a mistura de argamassa com pedra ou brita [7].
Na Figura 1 podemos ver componentes do processo de produo do beto.
O endurecimento do beto comea poucas horas aps o seu fabrico, atingindo cerca
de 60 a 90% da sua resistncia final aos 28 dias, dependendo do tipo de cimento e
cura utilizado [5].
caracterizado por possuir alta resistncia a compresso, porem a sua resistncia a

trao baixa, devido a esse facto incorporado ao ao beto de modo a resistir a
esforos de trao, formando-se assim o beto armado [8].
3
Figura 1: Fotografias do processo de produo do beto, onde A Cimento, B - Agregado fino

(Areia), C Agregado grosso (pedra ou brita), D Pasta de cimento e gua, E Argamassa e F
Beto. [7]
4
1.2 Constituintes do beto

1.2.1 Cimento
O cimento um material inorgnico, tambm designado por ligante hidrulico, em que,

a designao ligante provm da propriedade deste material em poder aglomerar uma
proporo elevada de materiais (areias, britas, etc.), concedendo ao mesmo tempo
elevada coeso e resistncia. A designao hidrulico vem da capacidade deste
material em adquirir elevadas resistncias mesmo debaixo de gua [6,9].
Os cimentos, que podem ser utilizados no beto simples, armado ou pr-esforado,

so definidos pela norma NP EN 1971-1, na qual o cimento designado por CEM.
Nesta norma esto afixadas as caractersticas mecnicas (resistncia de referncia,
resistncias aos primeiros dias), fsicas (tempo de incio do presa, expansibilidade),
qumicas (perda ao fogo, resduo insolvel, teor de sulfatos e cloretos, pozalinicidade)
e de durabilidade [9]. Esto tambm especificados os cinco tipos de cimentos Portland
existentes, em que a designao CEM I corresponde a um cimento Portland, CEM II
a um cimento Portland Composto, CEM III a um cimento de Alto-forno, CEM IV a
um cimento Pozolnico e CEM V a um cimento Composto. Dentre estes cinco
cimentos, os cimentos CEM I, CEM II e CEM III so os mais utilizados, sendo que o
CEM II o mais utilizado em Portugal [6].
O cimento composto por clnquer e por adies, sendo o clnquer o principal

componente, presente em todos os tipos de cimento. Este obtido a temperaturas da
ordem de 1400 a 1600C, pelo cozimento em alto-forno, da mistura devidamente
proporcionada de carbonato de clcio (calcrio) e silicatos de alumnio e ferro (argila),
em que se formam novos compostos, que ao arrefecerem, aglomeram-se em pedaos
com dimenses de 2 a 20 mm. A propriedade bsica do clnquer este ser um ligante
hidrulico que endurece em contato com a gua [5,7,10].
Devido elevada temperatura atingida no forno, as matrias-primas, aps perda de

gua e dixido de carbono, contm xido de clcio (cal), alumina, xidos de ferro,
metais alcalinos, titnio, fosforo, magnsio e sulfatos [9].
Na figura 2 podemos ver o aspeto do clnquer (arrefecido) antes de ser modo.
5
1 2
1 2
Figura 2: Clnquer antes do processo de moagem [7] [11].
Aps o arrefecimento, o clnquer modo juntamente com adjuvantes e adies.
Os adjuvantes facilitam a moagem, reduzindo o consumo de energia (de 10% a 15%)

[11]. Por sua vez, as adies, como o gesso (3 a 5%), serve para regular o tempo de
presa, e outros, para modificar as propriedades dos diferentes tipos de cimento, como
pozolanas, escrias de alto-forno, cinzas volantes, slica de fumo, etc. [5,7,11].
A pozolana definida como um material silicioso ou silcio-aluminoso, que em si

mesmo possui pouco ou nenhum valor ligante mas que, numa forma finamente
dividida e na presena de humidade, reagem quimicamente com o hidrxido de clcio
a temperaturas normais para formar compostos que possuem propriedades de ligantes
[10].
As propriedades do beto, nomeadamente o seu comportamento mecnico,

dependem da composio qumica do cimento e da finura obtida na moagem. A finura
do cimento medida pela superfcie especfica, esta tem um efeito direto sobre a
percentagem de cimento hidratado. Cimentos mais finos hidratam mais rapidamente,
causando uma rpida libertao de calor e maior resistncia mecnica, especialmente
durante o perodo inicial de hidratao [5,10].
Os cimentos com a finura mais usual apresentam uma superfcie especfica da ordem
dos 370 m2/kg (Blaine), sendo que o cimento CEM III geralmente o mais fino que
outros tipos, com uma finura que normalmente excede os 500 m 2/kg (5000 cm2/g) [10].
Devido a ao da temperatura, as reaes ocorridas a partir da matria-prima formam,

como foi referido, o clnquer, que deve ter a seguinte composio qumica [10,11]:
6
Tabela 1: Componentes qumicos formados no processo de cozimento da argila e calcrio

(adaptado de [10]).
Nome Formula Qumica Notao Abreviada

Silicato Triclcico 3CaO.SiO2 C3S
Silicato Biclcico 2CaO.SiO2 C2S
Aluminato Triclcico 3CaO.Al2O3 C3A
Aluminoferrato
4CaO.Al2O3.Fe2O3 C4AF
Tetraclcico
Na seguinte Tabela 2 quantificam-se as propores tpicas dos principais

componentes de cimento:
Tabela 2: Caractersticas dos Componentes do Clnquer Portland (adaptado de [5]).
Componentes do
C3S C2S C3 A C4AF
Clnquer
Propores mdias
60 20 8 12
(% mssica)
Desenvolvimento da
Rpido e Lento e Muito Muito Rpido e de Lento e Pouco
Resistncia
Prolongado Prolongado Curta Durao Significativo
Mecnica
Resistncia ao
Pequena Moderada Muito Pequena Grande
Ataque Qumico
Verifica-se que os componentes que contribuem para uma resistncia do cimento so

fundamentalmente o C3S (Silicato Triclcico) e C2S (Silicato Biclcico). O C3S, por
reagir rapidamente com a gua, contribui para as resistncias iniciais, enquanto que o
C2S contribui em maior grau para as resistncias a longo prazo, dado a sua reao ser
bastante mais lenta [5].
De modo a compreender melhor, podemos verificar, na Figura 3, que o C3S ganha a

maior parte da fora desenvolvida durante as primeiras 2/3 semanas. C 2S contribui
para a resistncia a longo prazo, enquanto que C 3A e C4AF contribuem principalmente
para uma resistncia precoce. A presena de gipsite (CSH2 ) na composio do cimento
controla a hidratao, dificultando o processo de hidratao e com uma cura
prolongada reduz o grau de hidratao e a resistncia [10,12].
7
Figura 3: Desenvolvimento da resistncia nos compostos puros de cimento Portland [10].
1.2.2 Agregados
Os agregados, tambm conhecidos como inertes, podem ser definidos como
partculas de rochas com dimenses que variam entre 0,1 mm e 200 mm, destinadas a
serem dispersas pela pasta de cimento, constituindo o seu volume 70 a 80 % do
volume total de um beto [13]. Estes podem ser de origem natural, artificial ou
reciclados de materiais anteriormente usados na construo.
No desenvolvem reao qumica considervel, agem principalmente pelo processo

fsico auxiliado na nucleao dos produtos de hidratao do cimento [14]. No entanto,
alguns destes materiais podem apresentar reatividade qumica importante que, em
certas circunstncias, conduzem deteriorao do beto, razo pela qual a
designao foi alterada para agregados [5].
No que toca origem, estes podem ser de origem natural (por exemplo: areias, godos)
ou obtidos por britagem de materiais naturais (por exemplo: britas, areias britadas)
(Figura 5). Existem tambm agregados obtidos industrialmente, i.e., aqueles que
passaram por algum processo para obter as caractersticas finais, designados por
agregados artificiais (por exemplo: argila ou xisto expandido) e ainda os agregados
reciclados (Figura 5). Quanto dimenso, so classificados como agregados grossos
aqueles que ficam retidos no peneiro com malha de 5 mm, sendo os restantes
denominados de areias (Figura 4) [6,7].
8
Figura 4: Esquema de classificao dos agregados quanto a sua dimenso [6].
Figura 5: Agregados Artificiais - Brita (1 e 2); Agregados Naturais (3 Areia e 4 Seixo Rolado) [7].
Do ponto de vista da textura de superfcie e forma dos gros, esta tem influncia
significativa nalgumas propriedades do beto, visto que os agregados arredondados e
lisos conferem maior trabalhabilidade e os agregados britados aumentam a resistncia
a trao do beto. Enquanto a resistncia compresso do beto pode ser
influenciada atravs da composio granulomtrica do agregado, da resistncia e da
ligao cimento-agregado [5].
Os agregados arredondados, tendo menor superfcies especfica e

consequentemente, devido a sua forma, provocam menor atrito entre os vrios
constituintes do beto, necessitando assim de uma menor quantidade de gua para a
obteno da mesma trabalhabilidade [1].
9
Quanto qualidade dos agregados, estes devem estar previamente lavados e isentos
de impurezas. A eventual presena de impurezas pode interferir com os restantes
constituintes, qumica ou fisicamente, nomeadamente partculas que do origem a
reaes qumicas expansivas com o cimento; partculas com dimenses iguais ou
inferiores as do cimento, interferindo com a estrutura do material hidratado,
enfraquecendo-o, ou partculas com resistncia reduzida [6].
1.2.3 gua de amassadura
A gua tem um papel fundamental nas caractersticas do beto, para possibilitar as

reaes de hidratao, que garantiro as propriedades de resistncia, durabilidade e
trabalhabilidade [5,7]. As guas utilizadas na amassadura do beto podem ser todas
as guas potveis e as que se apresentem isentas de cheiro e sabor. importante
referir que no se deve utilizar gua salgada (gua do mar), porque os ies cloro
promovem a corroso das armaduras [6].
A quantidade de gua a utilizar fundamental nas caractersticas do beto. Se a

quantidade de gua for diminuta, obtm-se um beto muito seco e,
consequentemente, um elevado atrito entre as partculas, tornando difcil o
desenvolvimento de uma compactao aceitvel, comprometendo a trabalhabilidade
do beto [6]. Contudo, se a quantidade de gua for em excesso, esta evapora-se
criando no beto uma rede de poros capilares que prejudicam a sua resistncia e
durabilidade [5].
Atualmente possvel utilizar quantidades muito pequenas de gua no fabrico do

beto sem prejudicar a trabalhabilidade e sem prejudicar o processo de hidratao. Tal
possvel com o uso de plastificantes/superplastificantes. Estes permitem, para alm
da reduo da gua, a reduo da dosagem de cimento da mistura, sem alterar a
tenso de rotura do beto endurecido [13].
A dosagem efetiva de gua inclui, para alm da gua de amassadura, a gua presente
na superfcie dos inertes, nos adjuvantes e nas adies [13].
A gua para o fabrico do beto, as especificaes para a amostragem, o ensaio e

avaliao da aptido da gua, incluindo a gua recuperada nos processos da indstria
de beto, esto indicados na NP EN 1008:2003.
10
1.2.4 Adjuvantes
Um adjuvante pode ser definido como uma substncia utilizada em pequenas

quantidades, durante o processo de mistura do beto, numa percentagem inferior a
5% da massa do cimento, com o intuito de aperfeioar diversas caractersticas deste
na fase fluida, slida ou durante o perodo de transio entre elas [6,13].
Do ponto de vista prtico, interessa conhecer os efeitos que se procuram obter com a
utilizao de adjuvantes, sendo que os feitos mais desejados so para melhorar a
trabalhabilidade, diminuir a permeabilidade, retardar/acelerar a presa e inibir a
corroso de armaduras [6].
De um modo geral, as caractersticas dos adjuvantes mais utilizados resumem-se [6]:

Plastificantes: tm como efeito o aumento do ndice de consistncia, definido
como coeso, e a possibilidade da reduo da gua de amassadura;
diminuindo o consumo de cimento para determinada trabalhabilidade e
resistncia mecnica.
Superplsatificantes: tm como efeito um aumento elevado do ndice de
consistncia e possibilitam uma reduo maior da gua de amassadura, em
comparao com os plastificantes.
Retardadores de presa: tm como efeito o aumento do tempo de incio de
presa, mantendo a trabalhabilidade a temperaturas elevadas, retardando a
elevao do calor de hidratao e prolongam os tempos de aplicao.
Aceleradores de presa: tm como efeito uma maior velocidade de presa e
resistncia inicial mais elevada. Apresenta um ganho de resistncia a baixas
temperaturas.
Introdutores de ar: tm como efeito a incorporao de pequenas bolhas de ar
no beto, proporcionando uma melhor trabalhabilidade e durabilidade e,
tambm, um aumento de resistncia do beto aos ciclos de gelo/degelo.
11
1.3 Fabrico de beto
Como vimos anteriormente, o beto formado pela mistura de cimento, de agregados

grossos e finos, de adjuvantes e de gua, resultante do endurecimento da pasta de
cimento.
As caractersticas do beto dependem da proporo dos diversos materiais que o

constituem. A relao gua/cimento (A/C) e o tipo e a quantidade dos adjuvantes
adicionados constituem parmetros de grande relevncia na obteno de um beto de
uma adequada resistncia, durabilidade e trabalhabilidade [6].
Quanto maior o valor da relao A/C, menor a resistncia e maior sensibilidade do

beto a agentes agressivos, devido a maior porosidade e permeabilidade da pasta de
cimento a agentes agressivos que originam a deteriorao do beto. Assim, limitando
a razo A/C a valores baixos obtm-se betes de boa qualidade [5]. No entanto uma
maior quantidade de gua, apesar de diminuir a sua compactao , aumenta a
trabalhabilidade do beto [15].
Figura 6: Variao da tenso de rotura do beto com a relao A/C [6].
Na Figura 6 podemos verificar a influncia da relao A/C na resistncia a compresso

do beto, onde um aumento para o dobro da razo A/C reduz a resistncia na ordem
dos 50%. Assim sendo, para a obteno de betes com elevada qualidade e altas
resistncias necessrio utilizar uma razo A/C baixa, onde a trabalhabilidade pode
ser obtida recorrendo a utilizao de adjuvantes plastificantes/superplastificantes [6].
12
Durante muito tempo, considerava-se que a resistncia mecnica de um beto era o

fator que lhe dava maior durabilidade por perodo de tempo ilimitado, concentrando os
estudos do beto no sentido de obter resistncias compresso cada vez maiores.
Contudo, o aumento de manifestaes de patologias nas estruturas de beto, levaram
a estudos mais pormenorizados, que tm tendido em adaptar o beto, em cada
situao particular, as necessidades (funes) do mesmo [16].
atualmente consensual que para uma boa resistncia e durabilidade, necessrio

uma cura adequada, juntamente com uma composio, compactao e recobrimento
apropriado das armaduras. Vrios autores defendem que a cura um dos
procedimentos fundamentais para se obter um beto de boa qualidade, uma vez que
nesta fase que ocorre a hidratao do cimento e que se obtm uma elevada
resistncia e durabilidade superficial e uma minimizao da retrao plstica [15].
A cura tem como finalidade evitar a evaporao prematura da gua necessria para a
hidratao do cimento. Deste modo, curar o beto significa proporcionar as condies
ideais para uma hidratao adequada e esta deve ser iniciada duas a trs horas aps
a colocao do beto [6].
O beto um material poroso, que apresenta poros abertos ou fechados, algumas de

pequenas dimenses (dezenas de nanmetros). A porosidade absoluta definida
como a soma da porosidade fechada e aberta. Estas resultam da evaporao do
excesso de gua de amassadura, da existncia de ar entre os componentes do beto
(resultante do processo de amassadura e de ar que no conseguiu libertar-se durante
a fase de compactao), da porosidade dos agregados e das contraes de volume da
pasta de cimento depois da sua hidratao [9,15].
A existncia de porosidade no beto facilita a penetrao da gua e de agentes

agressivos (ex.: Cl- e CO2), em consequncia pode ocorrer corroso nas armaduras e,
consequentemente, diminuir o tempo de vida do beto armado. Deste modo, para
colmatar os poros, so adicionados adies, com propriedades pozolnicas, como as
cinzas volantes e a slica fumo que permitem melhorar a compactao [9]. Estas
adies ao reagirem com o hidrxido de clcio do origem a silicatos de clcio
hidratados, por sua vez, um menor teor de hidrxido de clcio melhora a compactao
e aumenta a resistncia deteriorao do beto [5].
13
1.4 Trabalhabilidade
A trabalhabilidade do beto pode ser definida atravs da facilidade ou plasticidade

suficiente de enchimento completo de moldes e envolvimento de armaduras, no
devendo existir a possibilidade de ocorrncia de segregao [15].
A trabalhabilidade de um beto pode ser medida atravs da consistncia. Esta pode

medir-se atravs de vrios processos, sendo o ensaio de abaixamento o mais utilizado
(Figura 7). Este ensaio realizado segundo a NP EN 12350-2 [15].
No ensaio de abaixamento, um cone, designado por cone de Abrams cheio em trs

camadas sensivelmente iguais. Com um varo de compactao de 16 mm de
dimetro, cada camada compactada por 25 pancadas uniformemente distribudas.
De seguida o cone rasado com uma rgua de modo a nivelar o beto na boca.
Posteriormente retira-se o cone e deixa-se o beto deformar naturalmente, havendo
uma diminuio de altura, que traduz o abatimento (abaixamento) deste, o qual est
relacionado com a trabalhabilidade [15]. A diferena de altura, h, medida atravs da
diferena entre a altura do molde e a altura do centro do topo do cone de beto. Pela
diferena possvel classificar o tipo de trabalhabilidade [9].
A trabalhabilidade plstica tem um valor de abaixamento associado entre 0 e 40 mm,
a trabalhabilidade mole um abaixamento de 40 a 150 mm e a trabalhabilidade fluida
um abaixamento superior a 150 mm [9].
O valor de abaixamento pretendido depende do tipo e processo de colocao. Por

exemplo, para um beto usado numa estrada, em que a compactao feita com
cilindros, o abaixamento pode ser zero. Enquanto que para um beto que precise de
ser bombeado, o abaixamento ideal da ordem dos 100 mm. Por sua vez, os betes
que apresentem um abaixamento inferior a 10 mm no so diferenciados atravs do
ensaio de abaixamento, sendo classificados, quanto a sua consistncia, como betes
muito secos, secos ou terra-hmida [15].
14
Figura 7: Esquema do ensaio de abaixamento do cone de Abrams (adaptado de [9]).
Uma das propriedades internamente ligada a trabalhabilidade a coeso. Um beto

com coeso insuficiente degrada-se e abate de forma irregular, por sua vez um beto
coeso abate de forma gradual mantendo a sua forma. Assim sendo, uma coeso e
trabalhabilidade adequada tornam o beto ideal [6].
.
1.5 Armaduras para beto armado
O beto, por si s j apresenta alta resistncia a compresso, no entanto este

apresenta uma baixa resistncia a trao (aproximadamente 10% da sua resistncia a
compresso). Assim, de modo a aumentar a sua resistncia a trao adicionado um
material que lhe fornea esta caracterstica, normalmente vares de ao (armaduras),
embora haja um aumento de utilizao cada vez maior de armaduras em carbono e
fibra de vidro. Para alm da resistncia a trao conferida pela armadura, essencial
que exista uma boa aderncia entre a armadura (varo) e o beto [7,15].
A superfcie do ao, pode ser lisa ou rugosa. As superfcies rugosas podem ser
nervuradas (salincias) ou indentadas (reentrncias). Os aos nervurados conferem
maior aderncia, dai serem os mais utilizados. Na figura abaixo podemos verificar as
disposies mais frequentes das nervuras [5].
15
Figura 8: Disposio das nervuras de uma armadura do tipo A500 NR SD [5].
As nervuras, para alm de conferirem aderncia ao beto, servem para identificar a

classe do ao, o pas de origem e a fbrica produtora. Esta identificao feita atravs
da disposio da direo e do espessamento de certas nervuras. Na figura abaixo
podemos ver um exemplo de tipo de marcao de vares nervurados.
Figura 9: Disposio das nervuras indicando o fabricante e o pas produtor [5].
Os dimetros dos vares variam de pais para pais, onde em Portugal os mais
utilizados so de 6,8,10,12,16,20,25 e 32 mm. No que se refere ao comprimento, os
mais usados variam entre 12 e 18 m [5].
As armaduras devem estar livres de ferrugem e substncias que possam afetar

negativamente o ao, o beto ou a aderncia entre ambos.
Em termos de composio qumica da armadura, as chamadas armaduras passivas

(armaduras comuns) podem conter um teor na ordem dos 0.15 a 0.20% de carbono.
Por sua vez, uma armadura com um teor de 0.50 a 0.80% designada por ativa
(armaduras pr-esforadas) [5,6].
16
1.6 Corroso no beto armado
A corroso do ao no beto armado uma das causas mais comuns na deteriorao

da sua estrutura. So muitos os fatores que influenciam a corroso do beto armado,
no entanto os mais importantes so a presena dos ies cloretos e a carbonatao do
beto. Para alm disso, a mineralogia dos materiais usados, as condies de
exposio local, as prticas de construo, a mistura e as condies de cura, so
fatores que influenciam no processo de corroso [17].
A corroso no beto um processo eletroqumico e ocorre quando h a existncia de

um eletrlito, diferena de potencial e a presena de oxignio. um processo que
engloba uma reao andica (equao 1) e catdica (equao 2). Na zona andica
ocorre a oxidao do metal, onde este dissolvido e h a transferncia de ies para a
soluo, que sero consumidos na reao catdica (reduo) [18,19].
As principais reaes de oxidao-reduo na presena de gua e oxignio esto

representadas nas seguintes equaes:
2+ + 2 (1)
1
2 + 2 + 2 2 (2)
2
1
+ 2 + 2 ()2 (3)
2
A reao 3, representa a reao global, onde ()2 , um dos possveis produtos

de corroso, sendo este dependente do meio envolvente [19].
De um modo geral, para um dado metal, os ies metlicos 2+ so conduzidos em

direo aos ies e ambos formam um hidrxido metlico, ()2 , que poder
depositar-se na superfcie do metal (Figura 10). Este processo eletroqumico cria uma
diferena de potencial entre o nodo e o ctodo [18].
17
Figura 10: Corroso de um metal, M, num eletrlito que contem oxignio (adaptado de [18])
O potencial de eltrodo ou a diferena de potencial medido em relao a um eltrodo

de referncia, como o eltrodo saturado de calomelano (SCE), eltrodo padro de
hidrognio (SHE) ou o eltrodo de cobre/sulfato de cobre, entre outros, visto que este
potencial de eltrodo no poder ser medido de modo absoluto [20]. Quando no
existem interferncias eltricas externas, o potencial passa a chamar-se de potencial
em circuito aberto ( ) ou, se este se encontrar num ambiente potencialmente
corrosivo, passa a chamar-se de potencial de corroso ( ) [20].
Um potencial de eltrodo mais alto mostra uma tendncia para ocorrer reduo,
enquanto com um potencial mais baixo mostra uma tendncia para ocorrer oxidao.
Embora estes valores nos permitam saber qual o sentido mais favorvel para uma
determinada reao eletroqumica, tal conhecimento permite saber se o metal tem ou
no tendncia para se oxidar num determinado meio, no entanto, do ponto de vista
prtico, o metal pode ter tendncia para se oxidar, mas no existir perda considervel
de metal se a velocidade do processo de oxidao for desprezvel [21].
Se existirem outras reaes possveis sobre o eltrodo ou a aplicao de uma

diferena de potencial externa e se o potencial do eltrodo for alterado em relao ao
potencial de equilbrio, este desvio do potencial de equilbrio (aumento ou diminuio)
chama-se polarizao. A medida da polarizao dada pela sobretenso (ou
sobrepotencial) (), definido pela diferena entre o potencial real (E) e o potencial de
equilbrio ( ), ou seja, um fenmeno resultante da alterao do potencial de
equilbrio [18,20,21]:
= (4)
Quando ocorre o processo de corroso sobre uma superfcie, o valor real de potencial
( = ) adota um valor entre o potencial de equilbrio catdico (Eoc ) e andico
(Eoa ), como podemos verificar na Figura 11 [18].
18
Figura 11: Potencial de Equilbrio Catdico (), Potencial de Equilbrio Andico (), Potencial
Real () e sobretenso catdica ( ) e andica ( ) (adaptado de [18]).
O beto protege a armadura tanto a nvel fsico como a nvel qumico. A proteo
fsica devida a camada de recobrimento promovida pelo beto envolvente. Por sua
vez, a proteo qumica devido existncia de um filme (pelicula) de xidos (Fe3O4
e/ou Fe2O3) na superfcie do ao, designada por camada de passivao, formada
durante a hidratao do beto no momento em que o ao envolvido pela pasta de
cimento [16,22].
Entende-se por passivao como a capacidade de um metal ou liga se recobrir por

uma pelicula de xido (por vezes muito fina), que o isola do meio exterior, reduzindo
desta forma a velocidade de corroso para valores desprezveis [21].
A alcalinidade do beto (pH entre 13-14) conferida pela existncia do hidrxido de

clcio (Ca(OH)2), hidrxido de potssio (KOH) e hidrxido de sdio (NaOH) (no interior
dos poros da pasta de cimento hidratado), e aos alcalis que esto agrupados como
sulfatos, no clnquer [23,24]. O Ca(OH)2 em contacto com o dixido de carbono (CO 2)
transformado em carbonato de clcio (CaCO 3) que faz baixar o pH do beto para
valores de ordem de 9, sendo este valor reduzido para um pH de 8 quando todo o
carbonato de clcio estiver carbonatado [25] .
De modo a compreender melhor o comportamento termodinmico da passivao do

ao necessrio recorrer ao diagrama de equilbrio termodinmico que relaciona o
potencial com o pH. Para o sistema Ferro-gua, a 25C, o diagrama de Pourbaix
permite-nos identificar em que estado de corroso se encontra o metal, isto , permite
19
identificar se o ao se encontra numa regio ativa (corroso), passiva (passivao) ou

numa regio de imunidade; permite prever a composio dos produtos a diferentes pH
e potencial; mostra em que condies de pH e variao de potencial se pode reduzir
ou prevenir o fenmeno de corroso [18,20].
Na Figura 12, possvel observar o diagrama de Pourbaix, onde as linhas a e b

delimitam a estabilidade termodinmica da gua temperatura de 298 K e presso de
1 atm. Acima de b e abaixo de a a gua instvel. Acima de b d-se a evoluo do
oxignio (a gua tende a oxidar), enquanto abaixo de a d-se a evoluo do
hidrognio (a gua tende a decompor-se por reduo) [21,26]. Entre as linhas a e b a
gua est em equilbrio com os respetivos ies hidrolisveis, + e .
As equaes 5 e 6 correspondem a evoluo de hidrognio. A equao 5 associada
a ambientes com fraca quantidade de oxignio ou com um pH baixo (por exemplo
dentro de uma picada por corroso), por sua vez, a equao 6 pode ocorrer a
potenciais baixos ou em meios neutros at alcalinos [19].
Abaixo da linha a: 2 + + 2 2 (5) ou

22 + 2 2 + 2 (6)
Acima da linha b: 22 2 + 4 + + 4 (7)
20
Figura 12: Diagrama de equilbrio (E vs pH) do sistema ferro-gua a 25C (considerando Fe, Fe 3O4 e
Fe2O3 substncias slidas) (adaptado de [26]).
De um modo geral, para um metal exposto a um eletrlito com um determinado valor

de pH, o diagrama de Pourbaix indica-nos em que gama de potencial o metal se
encontra na regio de imunidade, corroso ou passivao [18].
A regio de imunidade para o Fe corresponde a potenciais muito baixos, onde o metal

no reativo, no se dissolve em soluo nem reage com a gua para formar o filme
de xidos. Por sua vez, a potencias baixos e pH altos, pode ocorrer corroso quando a
concentrao de oxignio extremamente baixa, de acordo com a seguinte equao:
+ 22 2 + 3 + + 2 (8)
21
A passivao do ferro numa soluo aquosa, em termos de densidade de corrente e

potencial, i-E, representado esquematicamente na Figura 13. medida que o ferro
dissolvido da superfcie, livre de xidos, a corrente andica aumenta rapidamente com
o potencial, por sua vez, com o aumento do filme de passivao, a corrente diminui
rapidamente. Na regio de passivao, o ferro pode continuar a dissolver, mas a uma
velocidade muito baixa, nesta situao o ferro encontra-se sob controlo andico. O
filme de passivao, de xidos de ferro (3 4 , , , ,
2 3 ), tem uma espessura de 1 a 5 nm. Podendo atingir, com o tempo, no caso
do ferro em contacto com materiais cimenticios, uma camada porosa de xidos de
ferro intercaladas com ()2 da ordem dos 50 200 [19][27].
Figura 13: Curva de polarizao dum ao passivo. Definio do potencial de corroso (),
potencial de picada ( ) e influncia do oxignio e dos ies cloretos nos mesmos (adaptado de
[19]).
Corroso por picada (ou pitting) ocorre quando o potencial de corroso (Ecorr ) excede
um valor de potencial crtico na regio de passivao da curva de polarizao. O
potencial crtico denominado por potencial de picada (E ) e este diminui com a
concentrao de espcies agressivas, tais como ies cloretos [19].
Como j foi referido, o Ecorr medido em relao a um eltrodo de referncia. A

diferencia de potencial entre o eltrodo de referncia e o eltrodo de trabalho depende
do tipo de eltrodo de referncia e do estado do ao, i.e., se este se encontra ativo ou
passivo. De um modo geral a gama de potenciais que pode ser encontrada em betes
a diferentes condies pode ser vista na Figura 14.
22
Figura 14: Gamas tpicas de potenciais do ao no beto [19].
Na ausncia de cloretos, o potencial de um ao no ligado pode ir de +200 mV a -700

mV relativamente a SCE e com um pH de 13. Mas em betes arejados o potencial
situa-se entre +100 mV e -200 mV vs SCE [19,28].
A estabilidade do filme depende essencialmente da disponibilidade de oxignio que

controla a reao de reduo catdica, do pH, da microestrutura e da composio da
soluo intersticial na interface ao/beto, da temperatura e da concentrao de sais
no meio ou da composio e acabamento de superfcie do ao [19,21,29].
A perda de passividade pode ser atribuda a um dos trs tipos de mecanismos,

mecanismo de penetrao, mecanismo de rutura do filme de passivao ou
mecanismo de adsoro.
Pelo mecanismo de penetrao, os cloretos existentes no eletrlito penetram atravs
da camada de passivao para a superfcie do metal devido a elevadas diferenas de
potencial ao longo do filme de passivao.
Por sua vez, o mecanismo de rutura do filme de passivao ocorre devido a
descontinuidades existentes no filme de passivao, tais como fendas. Estas podem
formar-se devido a alteraes bruscas no potencial de corroso, permitindo assim o
acesso direto dos ies cloro superfcie do metal.
O mecanismo de adsoro envolve a adsoro de ies cloreto, levando a diminuio

progressiva do filme at a dissoluo completa do mesmo [19].
Como vimos mais acima, a corroso um processo que engloba uma reao andica
e catdica. Na regio andica ocorre a oxidao do metal e na regio catdica a
23
reduo. Tal se pode verificar na Figura 15, no caso do beto armado, o hidrxido de
ferro, ()2 que se forma (equao 3), no estvel e, com o acesso de oxignio
e gua, oxida, formando-se um xido de ferro tri-hidratado, Fe2O3.nH2O, ou hidrxido
de ferro, Fe(OH)3, conhecida como a ferrugem comum de cor vermelha (ou castanha).
Por sua vez, se o acesso de oxignio limitado, como o caso de estruturas imersas
ou enterradas, forma-se Fe3O4, sendo que o Fe3O4 na presena de gua apresenta
uma cor verde e na ausncia desta apresenta uma cor negra [18].
Figura 15: Representao esquemtica da corroso da armadura (adaptado de [30])
Na Figura 16, possvel observar os produtos de corroso formados durante o

processo de corroso, dependendo do acesso de gua e oxignio [31].
24
Figura 16: Esquema representativo dos produtos formados durante o processo de corroso [31]
A corroso no beto armado pode dar-se por despassivao localizada, devido

penetrao dos ies cloreto, ou despassivao completa, devido acidificao da
soluo intersticial em consequncia de reaes da matriz de cimento com o dixido
de carbono presente na atmosfera (carbonatao) [29].
A presena de ies cloreto no beto pode ser devido ao uso de matria-prima

contaminada na produo da argamassa, como o uso de aceleradores de presa que
contm CaCl2, areia, gua de amassadura, ou resultante de uma contaminao
externa posterior construo. Este d-se por exposio do beto armado a
ambientes martimos ou, em climas frios, devido ao uso de sais de desgelo (NaCl,
CaCl2 e MgCl2) [24,25,29].
Um pH do meio entre 12.5 e 13.5 e na ausncia de cloretos favorece a formao da

camada de passivao. No entanto, foi demonstrado que, para um pH de 13.2
necessrio uma concentrao de 8000 ppm de ies cloreto para iniciar o processo de
25
despassivao e consequente corroso. Quando o pH baixa para um valor de 11.6, a

corroso inicia-se com apenas 71 ppm de ies cloreto [25].
Aps a iniciao do processo de corroso, a acumulao de produtos de corroso,
como xidos e hidrxidos de ferro que, ocupam um volume superior ao original dos
vares metlicos, podem expandir 600% do volume original do metal e causar
presses que podem atingir valores de at 40 MPa, resultando uma fragmentao e
fissurao da superfcie do beto (Figura 17) [8,29].
Figura 17: Efeito do aumento de volume das armaduras na fendilhao do beto [32].
Com a fissurao, a penetrao dos cloretos favorecida, sendo a velocidade

dependente da abertura das fissuras e da qualidade do beto. A penetrao de
cloretos pode ocorrer por vrios mecanismos de transporte, entre os quais se
destacam a difuso, absoro e permeao. Para existir transporte por difuso
necessrio a existncia de gua nos poros.
O transporte e fixao da humidade, ies e gases relevantes para o processo de
corroso dependente da permeabilidade, isto , da quantidade de poros capilares e
da interconectividade entre eles [19].
A estrutura dos poros, por sua vez, depende do tempo de cura ou da relao A/C,
sendo que estes podem ser de trs tipos: poros gel (1 a10 ), poros capilares (10
a 10 ), macrporos e vazios (a partir 10 at vrios milmetros).
Num beto armado submerso, o mecanismo de transporte de cloretos por difuso,
sendo um fenmeno que ocorre devido ao gradiente de concentrao [19,25].
Em condies de no estacionaridade, como no caso do beto, onde o gradiente de
concentrao vria com o tempo, o fluxo pode ser descrito de acordo com a segunda
lei de Fick:
2
= 2 (9)

26
Onde, a concentrao de cloretos, o tempo, o coeficiente de difuso e a

profundidade.
O processo de transporte fortemente influenciado pela humidade relativa ().

Enquanto que os ies cloreto necessitam duma fase lquida continua no sistema
poroso para se difundir, ou seja, a taxa de difuso de cloretos no beto tanto mais
alta quando a = 100% e insignificante quando a se encontra abaixo dos 50%.
Por sua vez, o transporte de oxignio mais alto quando a baixa, a sua
difusividade diminui drasticamente quando a > 70%, visto que a difuso em fase
lquida muito mais lenta do que em vazios [19].
A Figura 18, monstra esquematicamente a influncia da humidade relativa na difuso
dos cloretos e oxignio.
Figura 18: Influncia da humidade relativa (%) no coeficiente de difuso de gases e ies (adaptado
de [19])
Deste modo, a porosidade do beto est diretamente relacionado com o mecanismo

de transporte de agentes agressivos. Na Figura 19 podemos verificar a interao entre
o beto e os agentes agressivos.
27
Figura 19: Interao entre o beto e os agentes agressivos [33].
Assim sendo, a quantidade e tipo de cimento, relao A/C, compactao , porosidade,

resistncia penetrao de gua e tempo de cura so fatores decisivos na qualidade
do beto e, consequentemente, na proteo e resistncia a corroso do beto armado,
tendo estes parmetros uma relao direta com a penetrao de cloretos e com o
fenmeno de carbonatao. Do mesmo modo, uma armadura em que a espessura da
camada de recobrimento menor, a intensidade da corroso maior [33,34].
1.6.1 Tipos de corroso
A corroso pode ser classificada de acordo com o tipo de processo que lhe deu
origem, isto , a corroso pode ser classificada de vrias formas, dependendo da sua
aparncia. Existindo assim vrios tipos de corroso que podem ser identificados de
vrias formas. Esta pode ser feita por inspeo visual, com recurso a ferramentas
especiais de inspeo ou ainda atravs da visualizao microscpica.
A Figura 20 nos mostra os vrios tipos de corroso, agrupados de acordo com a sua
forma de inspeo.
28
Figura 20: Principais tipos de corroso, agrupados de acordo com a sua forma de
identificao/reconhecimento [18].
No entanto, possvel estabelecer uma classificao em termos da morfologia de

corroso, tal como corroso generalizada (uniforme), localizada ou localizada sob
tenso (fissurante) [18,23,35,36]. Na Figura 21 possvel verificar o tipo de corroso
de armaduras no beto.
Figura 21: Tipos de corroso e fatores que as provocam [37].
A corroso generalizada, que se d, por exemplo, quando ocorre carbonatao, ocorre

preferencialmente em materiais homogneos com baixa tendncia para passivao,
isto verifica-se devido a uma perda generalizada do filme de passivao, causando
assim uma perda uniforme de espessura.
29
A corroso localizada (ex.: pitting ou intersticial), tipicamente provocada por cloretos,

forma-se por dissoluo localizada do filme de passivao. Os cloretos podem ter
origem externa ou interna, como j foi referido. Interna devido ao uso de matria-prima
contaminada na produo da argamassa, como o uso de aceleradores de presa que
contm CaCl2 ou resultante de uma contaminao externa posterior a construo, quer
perto de zonas martimas ou mesmo em contacto com a mesma.
A corroso sob tenso ocorre normalmente em estruturas pr-esforadas, no entanto

podem ocorrer em estruturas de beto armado, resultante de elevadas tenses sobre
o metal, onde se formam microfissuras que vo progredindo rapidamente, levando a
rutura brusca e frgil do metal. um fenmeno bastante perigoso, visto romper
bruscamente e sem deformaes significativas e sem sintomas visveis de corroso
[23,35,37].
1.6.1.1 Corroso induzida por cloretos

Devido a condies de exposio a ambientes martimos e um uso extensivo de sais
de desgelo em muitos pases, a corroso induzida por cloretos uma das causas mais
comuns da degradao das estruturas de beto armado.
Sendo a quantidade e tipo de cimento, relao A/C, compactao , porosidade,

resistncia penetrao de gua e tempo de cura fatores decisivos na qualidade do
beto e, consequentemente, na proteo e resistncia corroso do beto armado,
tendo estes parmetros uma relao direta com a penetrao de cloretos, bem como
com o fenmeno de carbonatao.
Apesar de muitos estudos efetuados ao longo de vrios anos, continua a existir uma
certa dificuldade em estabelecer a quantidade de ies cloretos necessria para romper
a camada de passivao e iniciar o processo de corroso. A quebra do filme s se d
quando atingido um valor crtico, embora este valor ou limite no seja fixo, existem
algumas normas que recomendam valores indicativos. Na Amrica do Norte, bem
como na Europa, prtica comum aceitar um teor crtico de cloretos por volta de 0.4%
por massa de cimento [23,38,39].
Na Figura 22 apresenta-se o modelo de vida til de Tuutti. Este modelo divide o

processo corrosivo em duas fases, a iniciao e a propagao. A iniciao
30
compreende o acesso de agentes agressivos at ao ao e posterior despassivao. O

tempo que o perodo de iniciao da corroso poder durar esta dependente da
agressividade do ambiente a que o beto est sujeito e da facilidade com que os
agentes agressivos penetram no beto at atingirem o filme de passivao. Por sua
vez, a propagao consiste no aparecimento e progresso da corroso, levando
degradao da estrutura [16,35,40].
Figura 22: Definio do Teor Critico de Cloretos, segundo o modelo Tuutti (adaptado de [39]).
Os cloretos, mesmo em condies de elevada alcalinidade podem danificar as

armaduras, isto porque estes s participam na reao e no so consumidos no
processo de corroso, formando um xido expansivo, sendo posteriormente libertados
e assim permanecendo disponveis para participar em novas reaes [16,19]. As
reaes que descrevem o efeito dos cloretos na corroso podem ser as seguintes [16]:
3+ + 3 3 (10)
3 + 3 3 + ()3 (11)
31
De um modo geral, o ataque por cloretos progride da seguinte forma [24]:

1) penetrao de cloretos, os quais em comparao com outros ies, penetram
mais facilmente at ao ao atravs de poros ou defeitos no filme de
passivao;
2) os ies cloretos so adsorvidos na superfcie do metal em competio com o
oxignio dissolvido ou ies hidroxilo;
3) os cloretos competem com ies hidroxilo para ligao aos ies ferrosos
produzidos na corroso e formado um complexo solvel de cloreto de ferro,
que pode difundir-se e continuar o processo de corroso, destruindo a camada
protetora de ()2 .
A corroso induzida por cloretos leva a uma corroso localizada, que pode ser por
picada ou intersticial. Ambos os processos so autocatalticos, isto quer dizer que uma
vez iniciado o processo de corroso, este progride de tal modo que se auto sustenta
[18,28].
Corroso por picada
Como foi visto anteriormente, a corroso por picada (ou pitting) ocorre quando o
potencial de corroso (Ecorr ) excede um valor de potencial crtico na regio de
passivao da curva de polarizao. O potencial crtico denominado por potencial de
picada (E ) e este diminui com a concentrao de espcies agressivas, tais como
ies cloretos.
O processo global da corroso por picada, induzida por cloretos, pode ser descrito
esquematicamente atravs da Figura 23.
32
Figura 23: Representao esquemtica da corroso por picada induzida pelos cloretos (adaptado
de [19,28]).
Aps despassivao formada uma picada e, consequente, dissoluo do ferro

segundo a equao 1, havendo a transferncia de eletres do nodo para o ctodo
(corrente eletrnica), onde ocorre a reduo do oxignio (equao 2). De modo a
manter a electro-neutralidade e o balano de cargas positivas produzidas no nodo, h
transferncia de anies ( , ) para o nodo e caties (+ , + , 2+ ) para o
ctodo. No interior da picada ocorre a hidrlise de ies ferro, causando acidificao do
meio, levando a possvel evoluo da reao catdica do hidrognio (equao 5). A
hidrlise pode ser descrita de acordo com as seguintes reaes:
33
2+ + 22 ()2 + 2 + (12)
2 2+ + 32 2 3 + 6 + + 2 (13)
3 2+ + 42 3 4 + 8 + + 2 (14)
Em ambientes alcalinos, ies hidroxilo migram para a picada de modo a equilibrar a

formao de + (equaes acima) que poder resultar na neutralizao do meio e
possvel repassivao [18,19]. Adicionalmente, pode-se formar uma capsula porosa
composta de produtos de corroso e remanescentes do filme de passivao,
reduzindo significativamente o transporte mssico para dentro e fora da picada. No
entanto, cria um meio interno cido e agressivo, levando continuao da corroso.
Devido a diferenas de pH entre o exterior e o interior da picada, h tambm uma
diferena de potencial, tal como se verifica na Figura 24.
Figura 24: Esboo de uma picada no ferro, com potenciais referentes ao SHE [18].
De entre vrios fatores que podero influenciar a corroso por picada, destacam-se
[18][28]:
pH e concentrao de cloretos. O potencial de picada e a resistncia picada
aumentam com o aumento do pH e diminuem com a concentrao de cloretos.
Um pH elevado d-nos uma elevada resistncia para a formao de novas
picadas volta de picadas existentes;
Propriedades metalrgicas. Onde impurezas e incluses so fatores
importantes, visto que volta e no topo da incluso o filme de xidos fraco e
fino, tais incluses so ctodos eficientes, o que resulta numa maior velocidade
de corroso;
34
Rugosidade das superfcies. Onde a tendncia a obteno de poucas

picadas mas largas para superfcies lisas, enquanto superfcies rugosas obtm-
se picadas mais pequenas mas em maior quantidade.
Capacidade de isolamento dos xidos. Se estes isolarem de uma forma
eficiente a superfcie do metal, esta torna-se inativa como ctodo, ou seja, os
xidos tm uma elevada eficincia catdica, onde num par galvnico exibem
um valor de potencial mais nobre, resultando numa maior velocidade de
corroso galvnica do metal ligante.
Ies 3+ favorecem a iniciao da picada e aceleram o seu crescimento,
porque estes levam ao aumento do potencial (so oxidantes).
De um modo geral, as picadas podem surgir devido a diferentes condies, sendo as

mais relevantes o pH do meio, o teor de cloretos, o estado de superfcie do ao e a
temperatura. Sendo que a corroso por picada considerada uma das mais
destrutivas de entre os outros tipos de corroso, visto ser uma das mais imprevisveis
[41].
Corroso intersticial
A corroso intersticial (fenda) um tipo de corroso que ocorre em fendas ou falhas

suficientemente amplas de modo a que o lquido possa penetrar e, simultaneamente,
suficientemente estreitas para que o lquido possa estagnar [18,41].
Na Figura 25 podemos observar, uma junta de um flange de um metal M exposta a
gua que contem oxignio e NaCl, com dois estados de corroso por intersticial em
desenvolvimento. Inicialmente o metal corri segundo a reao andica (equao 1) e
a catdica (equao 2) mesma velocidade dentro e fora da fenda, representado por
(a). O oxignio gradualmente consumido dentro da fenda. Quando este consumido
por completo, ies deixam de ser produzidos. Por outro lado, a dissoluo do
metal no interior da fenda continua, suportado pela reduo de oxignio fora desta. A
concentrao de ies metlicos aumentam dentro da fenda e, com a ausncia da
produo de dentro da fenda, faz com que ies migrem para o interior de
modo a manter o equilbrio de cargas (neutralidade eltrica), representado por (b) na
Figura 25. Deste modo, h um aumento de + dentro da fenda e esta espcie
reage com gua (hidrolise):
+ + 2 + + (15)
O hidrxido metlico deposita e o cido clordrico formado dentro da fenda,
provocando uma reduo gradual do pH. Consequentemente, quando o meio se torna
35
suficientemente agressivo, o filme de xidos superfcie atacado, aumentando a

velocidade de corroso superfcie da fenda. O aumento da velocidade de corroso
faz aumentar a migrao de cloretos, contribuindo assim para a acelerao do
processo de corroso [18].
Figura 25: Corroso intersticial, onde a) e b) correspondem ao estado inicial e posterior,

respetivamente [18].
1.6.1.2 Corroso induzida por carbonatao
O processo de carbonatao do beto, ocorre deste que exista dixido de carbono e

gua. Apesar de ser um processo mais lento e no to intenso como a corroso
induzida por cloretos, este apresenta uma deteriorao perigosa para as estruturas de
beto, isto porque o CO2 penetra nos poros e, na presena de hidrxido de clcio e
gua, forma carbonato de clcio, o que resulta numa diminuio do pH da soluo
intersticial existente nos poros. Esta diminuio de alcalinidade faz com que se altere a
estabilidade qumica do filme de passivao da armadura, dando inicio ao processo de
corroso generalizada.
Esta vai progredindo, segundo a equao abaixo, da superfcie para o interior. O

mecanismo de penetrao do dixido de carbono ocorre por difuso.
36
()2 2+ + 2 ( ) (15)
2 + 2 3 2 + 2 ( 2 ) (16)
2+ + 3 2 3 () (17)
()2 + 2 3 + 2 (18)
Dependendo da qualidade e condies de cura do beto, a carbonatao pode ter

diferentes profundidades. Podendo ser dividido em trs zonas distintas com valores de
pH distintos: zona carbonatada (()2 , foi convertido em 3 ), frente de
carbonatao (onde se desenvolve a carbonatao) e zona no carbonatada, como se
pode verificar na Figura 26.
Figura 26: zonas envolvidas no mecanismo de carbonatao e variao do pH ao longo da

profundidade do beto [36].
Como foi mencionado anteriormente, a carbonatao diminui o pH e,

consequentemente, possvel recorrer a um indicador de pH, como a fenolftalena,
para estimar a profundidade de carbonatao. Em zonas no carbonatadas o
indicador muda de cor para vermelho ou roxo enquanto que em zonas carbonatadas
este mantem-se incolor (Figura 27) [20,23,24,35,36,42].
37
Figura 27: Medio da frente de carbonatao [23].
1.7 Fatores que influenciam o teor crtico de

cloretos ( )
Como j foi referido, a quebra do filme s se d quando atingido um valor crtico,

este valor crtico corresponde ao limite de cloretos abaixo do qual seja possvel afirmar
que no ir haver ataque s armaduras, ou seja, pode ser definido como o teor de
cloretos requerido para a despassivao do ao. O teor crtico de cloretos um
parmetro importante na vida til de estruturas de beto expostos a ambientes que
contenham cloretos [9,43].
Como j foi referido anteriormente, existem vrios fatores que podem influenciar o teor
crtico de cloretos ( ). A quantidade e tipo de cimento, a relao A/C, a
compactao , a porosidade, a resistncia penetrao de gua e tempo de cura so
fatores decisivos na qualidade do beto e, consequentemente, na proteo e
resistncia a corroso do beto armado tendo estes parmetros uma relao direta
com a penetrao de cloretos e com o fenmeno de carbonatao, e,
consequentemente, com o , dai existir uma grande variabilidade de valores de teor
critico de cloretos relatados na literatura (Figura 28) [39].
O teor crtico de cloretos, , normalmente expresso em termos do teor total de

cloretos relativamente a massa de cimento ou massa do beto. No entanto, pode ser
expresso tambm em termos do teor de cloretos livres relativamente a massa de
cimento, ou beto ou em termos de [ ]/[ ].
Em termos de cloretos livres assumindo que os cloretos combinados no beto so

totalmente removidos da soluo porosa e somente os cloretos livres apresentam risco
38
para a iniciao da corroso. No entanto esta abordagem, no muito bem aceite

[44], visto que os cloretos combinados podem se tornar livres devido ao fenmeno de
carbonatao.
Por sua vez, em termos da razo [ ]/[ ] relacionada a atividade do io cloreto
com o pH da soluo porosa, onde o interesse a ao inibidora dos ies hidrxido,
[19,39,4446]. Foi demonstrado por Hy et al. [47] que tanto possvel expressar o
em termos de [ ]/[ ] ou em [ ] em solues que simulem a soluo
porosa do beto.
Meira et al. [45] conseguiram chegar a uma expresso que relaciona os valores de
teores crticos cloretos em laboratrio ( ) com os teores crticos de cloretos em
ambiente externo (() ):
() = 0.786 0.373 (19)
Esta expresso tem a vantagem de reduzir o tempo despendido para a obteno de
valores de teores crticos de cloretos, sendo vlida para teores de cloretos totais ou
cloretos livres.
O teor crtico de cloretos depende essencialmente da disponibilidade de oxignio que

controla a reao de reduo catdica do oxignio, do pH da interface ao/beto, da
microestrutura e da composio da soluo intersticial na interface ao/beto, da
temperatura e da concentrao de sais no meio ou da composio, tipo de ao,
acabamento de superfcie do ao, fonte de cloretos, catio que acompanha o io cloro,
inibidores e tratamento eletroqumico [19,39].
No entanto nesta seco sero apenas referidos alguns fatores que influenciam o
, tais como o estado de superfcie do ao, interface beto-ao e o pH da soluo
intersticial (porosa), por serem os fatores relevantes para o trabalho experimental que
foi desenvolvido.
39
Figura 28: Valores de teores crticos de cloretos [9].
Estado de superfcie do ao
O estado de superfcie do ao um fator que influencia bastante o processo de

despassivao, consequentemente o teor crtico de cloretos, visto que o estado de
superfcie do ao influencia as caractersticas da microestrutura da interface com o
beto. A resistncia corroso de um metal depende da quantidade de impurezas
(incluses) ou defeitos na camada de xidos frricos (mill scale), tais variaes
composicionais podem formar zonas andicas e catdicas superfcie do ao. Tais
diferenas fazem com que algumas zonas sejam mais ativas electroquimicamente que
outras e assim gerar gradientes de potencial [19].
Dados relatados na literatura [46,4850], demonstram que o estado de superfcie do

ao tem uma grande influncia no teor crtico de cloretos. As experiencias relatadas
envolveram vares de ao preparados antes dos ensaios, sendo estudadas vrias
condies de acabamento superficial: polidos (vrios polimentos, desde a remoo s
da camada de xidos at ao polimento de diamante, na ordem dos micrmetros), tal e
40
qual (com a calamina (mill scale) e deformidades, denominado por as-received)) ou

em que os vares de ao so preparados com jatos de areia.
Mammoliti et al. [50] demonstraram que, para um ao exposto a solues alcalinas e

com diferentes estados de superfcie, a iniciao da corroso por picada iniciou-se a
concentraes de cloretos trs vezes superiores para o acabamento de superfcie em
qua amostra tinha sido polida em comparao com aquela que apresentava um
polimento suave. Ou seja, para um varo muito polido e uma soluo de pH elevado,
no foi possvel observar a iniciao da corroso aps a exposio da amostra a uma
concentrao de cloretos que normalmente encontrada na gua do mar.
Foi demonstrado por Li e Sagus [46] que para aos preparados com jatos de areia
(designados por sandblasted), em meios alcalinos, a concentrao de cloretos
necessrio para iniciar a corroso era duas vezes superior necessria para aos
sem nenhum tratamento de superfcie (tal e qual). Foi verificado que a remoo da
camada de xidos (mill scale) era benfica no aumento do teor crtico de cloretos, no
entanto, uma vez iniciada a corroso, esta era mais severa em comparao com as
outras condies de superfcie.
De modo a ter uma maior perceo da influncia do estado de superfcie do ao, foi
demonstrado por Ghods et al. [49], que o teor ctrico de cloretos, numa soluo
simulativa dos poros do beto de = 13.3, para um varo tal e qual era
aproximadamente 0.1 M, enquanto que, para um varo polido, era de 2 M.
Por sua vez, foi demonstrado por Mohammed e Hamada [51] que a existncia de
corroso pode conferir proteo ao ao, no entanto tem que ter uma espessura
suficiente que proteja o ao, caso contrrio esta no to favorvel. Nesta experincia
usaram-se cinco estados de superfcie do ao: P (polida), M (com a mill scale), BR
(corroso castanha, provm de Brown-Rusted) e BL (corroso negra, provem de
Black-Rusted). PP corresponde a uma pr-passivao do ao, em que este coberto
com uma pasta de cimento antes de impregnao no beto. A condio BR foi criada
atravs da molhagem e secagem durante 4 semanas em gua, formando uma
espessura de xidos de 2 e a BL foi criada da mesma maneira mas com mais
tempo e formando uma espessura de ferrugem 14 . Os autores concluram que o
teor critico de cloretos sequenciada por > > > > . Tendo-se verificado
que a condio PP apresentava uma interface ao-beto muito densa, em
comparao com outras condies.
41
Um estudo mais recente, realizado por Doubitsas e Tang [48], demonstrou que o
estado de superfcie do ao tem uma elevada influncia na iniciao da corroso no
beto armado, definindo como o parmetro mais decisivo e provvel atribudo a
variabilidade dos valores de teor crtico de cloretos relatados em [39]. Uma superfcie
limpa quimicamente, em acido sulfrico de acordo com ASTM G109, apresentou
valores de elevados em comparao com uma superfcie tal e qual. Verificou-se
que nenhum varo limpo quimicamente apresentou incio de corroso, com uma
exposio de um ano a um teor de cloretos entre 1.5% e 2.1% por massa de cimento.
pH da soluo porosa
A estabilidade do filme de passivao aumenta com o aumento do pH. Uma soluo

porosa de um beto composta por hidrxido de clcio saturado ( = 12.5) com uma
pequena quantidade de outros alcalis (+ , + ) que faz aumentar o pH para valores
de 13.5. No entanto no totalmente entendido como a composio da soluo
porosa afeta a qualidade da camada oxida de proteo, mas foi demonstrado que a
natureza e estrutura dos xidos no filme de passivao formado, numa soluo
alcalina contendo sulfatos, era afetada pela adsoro dos ies sulfatos, (SO 4)2- [19,52].
Foi verificado por Haleem et al. [27], que os ies sulfatos so mais corrosivos que os
ies cloretos. O que quer dizer que a composio da soluo intersticial afeta a
formao e a degradao do filme de passivao. Por sua vez, foi verificado por
Valcarce e Ormellese et al. [53,54], que a existncia de ies 2 podem ajudar,
inibindo a propagao da picada.
Foi verificado por Sagus [46], que para alm do estado de superfcie, o depende
fortemente do pH da soluo intersticial (Tabela 3). Verificou-se que o efeito inibidor
dos ies [ ] era mais elevado a pH altos e que para um pH de 13.6 da soluo
intersticial, verificou-se corroso ativa, no entanto no sustentada, mesmo quando a
[ ] atingiu um valor de 3 M.
42
Tabela 3: Teores crticos de cloretos totais (% mssica de cimento), mostram a variabilidade dos
teores crticos de cloretos totais em funo do pH da soluo simulativa (adaptado de [46]).
Estado de pH da soluo simulativa dos poros no beto

superfcie do ao 12.6 13.3 13.6
Jato de areia
0.10~0.65 1.25~2.8 3.2~6*
(sandblasted)
Tal e qual ou Pr-
0.05~0.45 0.6~2.1 1.8~4.2
oxidada
* O limite superior menos preciso, devido a limitao da quantidade de dados a tais
nveis de cloretos.
Foi verificado por Huet et al. [55] que a diminuio do pH do eletrlito promove a
corroso ativa da superfcie do ao, isto porque esta diminuio direcionada no
sentido de formar uma grande quantidade de xidos de ferro que no protegem o ao.
Verificou-se tambm que em eletrlitos de carbonato de clcio, os produtos de
corroso maioritrios eram compostos por magnetite (3 4 ) e lepidocrocite (
).
Estudos realizados por Yu et al. [47], onde foram usados solues intersticiais com
vrios pH e duas condies de estado de superfcie do ao, permitiram verificar que,
para as duas condies de estado de superfcie usadas (jato de areia e pr-corroda),
com o aumento do pH da soluo intersticial aumentava o teor crtico de cloretos para
todos os casos. O que indica que aumentando o pH da soluo intersticial, possvel
aumentar a resistncia corroso. No entanto, verificou-se uma maior resistncia a
corroso do ao que sofreu tratamento por jato de areia.
A capacidade de proteo do filme de passivao contra a corroso do ao aumenta

com o pH. Visto que a composio do filme de passivao independente do pH da
soluo alcalina, a espessura do filme aumenta com o aumento do pH [56].
Assim sendo, conclui-se que o estado de superfcie e o pH da soluo intersticial so

fatores muito importantes no teor crtico de cloretos.
43
Interface ao-beto
bem conhecido que a interface beto-armadura no uniforme, variando de zonas

impermeveis densas at zonas com micro e macro vazios. A presena de vazios
pode contribuir para uma fcil formao de picada, sendo este um parmetro que no
poder ser ignorado, visto que, dependendo da densidade da interface ao-beto,
pode ser maior ou menor a resistncia do ao a cloretos [45,51].
Mohammed e Hamada [51] verificaram para um ao que foi coberto com uma pasta de
cimento antes de impregnao no beto, que apresentava uma interface ao-beto
muito densa, em comparao com outras condies e, consequentemente, um maior
. Por sua vez, para a condio em que o ao foi inserido no beto, sem pr-
tratamento, foi verificado, uma grande quantidade de vazios perto da armadura, no
entanto verificou-se que existia uma camada fina de hidratos entre os vazios e a
armadura, o que previne a iniciao da corroso. Esta camada limita fisicamente o
acesso do oxignio e cloretos a superfcie do ao e facilita a repassivao, restringindo
a tendncia da diminuio do pH local devido a consumo de na reao andica
dentro das picadas superfcie do metal [19,43].
Estudos realizados por Silva [19], em que tanto o estado de superfcie do ao bem
como a interface ao-beto foram estudados, demonstram que ao longo da interface
se pode esperar uma grande gama de concentraes de cloretos, com valores
superiores nas zonas de corroso ativa.
A existncia de vazios pode ser uma consequncia do estado de superfcie do ao, o

que quer dizer que o estado de superfcie pode ser um dos fatores mais relevantes a
ser estudado e, consequentemente, que este influencia a compactao do ao-beto e
o teor crtico de cloretos.
A microestrutura da interface ao-beto tem um papel importante nos nveis iniciais da
corroso por picada: antes de despassivao, controla o transporte de cloretos para os
stios de acumulao preferencial e, posteriormente, atravs da regulao do fluxo de
ies para dentro e fora da picada [19].
44
1.8 Influncia dos xidos no teor crtico de

cloretos
A calamina (do ingls Mill scale) uma camada de xido de ferro (magnetite (3 4 ),
hematite ( 2 3 ) e goethite ( )) [27,57] que se forma sobre a superfcie
do ao durante o processo de laminagem a quente no processo de produo do ao.
Esta camada depende de vrios fatores, como a temperatura de laminagem, entre
outros. Tendo-se verificado, por Ghods et al. [57], para o mesmo ao, a calamina
apresentava no uniformidades e a existncia de fissuras (cracks), vazios (voids) e
interstcios (crevice) (Figura 29).
Figura 29: Imagem de um ao (tal e qual) tirado no MEV antes da exposio a soluo porosa [57].
Ghods et al. desenvolveram um estudo [57] que teve como objetivo estudar de que
forma a camada de xidos (calamina) torna a armadura mais suscetvel para a
iniciao da corroso. Verificou-se que a corroso se inicia nas zonas de interstcios
entre a superfcie do ao e a calamina, o que sugere que sem a existncia da camada
de xidos e interstcios, a corroso teria maior dificuldade em se iniciar. Assim sendo,
do mesmo modo que foi verificado anteriormente, o estado de superfcie do ao um
parmetro importante, visto que modificando a superfcie do mesmo, como a remoo
da calamina, de modo que seja uniforme em toda a superfcie, reduzem-se
variabilidades e flutuaes nas medidas eletroqumicas, o que poder aumentar a vida
til do beto armado em ambientes com elevados teores de cloretos [57].
Estudos microscpicos realizados por Ghods e al. [49], tambm sugerem que a
iniciao da corroso, em ao tal e qual, devido a existncia de interstcios na
interface ao/calamina.
45
Num outro estudo, realizado por Novak et al. [58], onde vares de ao foram expostos
a condies ambientais exteriores, onde a espessura da camada de xidos era de
aproximadamente de 50 micrmetros, verificando-se velocidades de corroso
elevadas. Uma das explicaes possveis foi a existncia de sulfatos na composio
da ferrugem formada durante a exposio atmosfrica e tambm devido ao facto de a
ferrugem poder atuar como interstcio.
Segundo Haleem et al. [59], a taxa de crescimento da espessura do filme de xidos

diminu com o aumento do pH e temperatura, em solues de hidrxido de clcio.
46
Captulo II
Mtodos
Captulo II Mtodos
2 Mtodos
2.1 Introduo
A avaliao da influncia do estado de superfcie da armadura no teor crtico de

cloretos para a iniciao da corroso do ao no beto foi feita atravs de estudos
eletroqumicos (Polarizao Potenciodinmica e a Tcnica do Eltrodo Vibrante de
Varrimento - SVET) em solues simulativas do lquido intersticial e por anlise da
superfcie das amostras de ao atravs da observao em microscpia tica (MO) e
em microscopia eletrnica de varrimento associado a microanlise de raios X por
disperso em energias (MEV/EDS).
Para a aplicao dos mtodos de anlise mencionados acima, foi necessrio preparar
as amostras com as condies necessrias, descritas neste captulo.
48
Captulo II Mtodos
2.2 Mtodos eletroqumicos

2.2.1 Potencial de corroso
A tcnica do potencial de corroso um mtodo eletroqumico bastante utilizado para

monitorizar e avaliar a evoluo dum sistema, sem impor qualquer perturbao no
mesmo. Esta tcnica baseia-se na medio do potencial eletroqumico da armadura
relativamente a uma referncia (eltrodo de referncia), ( ). Como eltrodos de
referncia utiliza-se o eltrodo saturado de calomelano (SCE), o eltrodo padro de
hidrognio (SHE) ou o eltrodo de cobre/sulfato de cobre (Cu/CuSO4), sendo que os
potenciais dos eltrodos de referncia ( ) devem ter um potencial definido.
Quando no existem interferncias eltricas externas, o potencial passa a chamar-se

de potencial em circuito aberto ( ) ou, se este se encontrar num ambiente
potencialmente corrosivo, passa a chamar-se de potencial de corroso ( ),
adotando um valor entre o potencial de equilbrio catdico (Eoc ) e o andico (Eoa ).
Em termos da evoluo da corroso, a informao extrada apenas qualitativa,

indicando a maior ou menor probabilidade de o fenmeno corrosivo estar a ocorrer,
no dando informao sobre a velocidade de corroso. No entanto uma tcnica que
tem algumas vantagens, visto ser no destrutiva, revelando sensibilidade na deteo
de mudanas da condio das armaduras, como se pode verificar na tabela abaixo:
Tabela 4: Estados de corroso do ao no beto e respetivos potenciais eletroqumicos (adaptado

de [31]).
Potenciais de ao
Estado de corroso do ao no beto no beto, (mV)
( = )
Beto arejado +100 200

Passivo
Beto desarejado +200 600
Corroso por picada 200 500
Ativo Corroso
450 600
generalizada
Ativo, velocidades de corroso baixas 1000
49
Captulo II Mtodos
O potencial eletroqumico da armadura torna-se mais negativo medida que a

armadura se vai despassivando, ou seja, medida que o ferro se vai dissolvendo nos
poros do beto [18,20,21,31,33,42].
Existem vrios fatores que influenciam as medidas de potencial de corroso, tais como
as caractersticas do beto (a espessura de recobrimento (Figura 30) (potencial menos
negativo para espessuras maiores)); a carbonatao e a ao dos cloretos.
Figura 30: Influncia do recobrimento das armaduras nas leituras de potencial de corroso [33].
2.2.2 Polarizao potenciodinmica
A polarizao potenciodinmica fornece-nos informao acerca do comportamento e

da velocidade de corroso do ao a potenciais diferentes dos obtidos em potencial de
circuito aberto.
As curvas de polarizao (curvas de potencial-log corrente) so obtidas com recurso a
um potencistato. As medidas so realizadas atravs de um sistema acoplado a trs
eltrodos: eltrodo de trabalho (W), eltrodo de referncia (R) e contra eltrodo (C).
aplicada uma diferena de potencial, diferente do potencial em circuito aberto, entre o
contra eltrodo e o eltrodo de referncia, polarizando-se assim a amostra. A
50
Captulo II Mtodos
diferena de potencial resultante entre o eltrodo de trabalho (amostra) e o eltrodo de

referncia medido juntamente com a corrente que flui entre o ao e o contra eltrodo
com um potencistato [18,31].
Na Figura 31, possvel ver uma ilustrao esquemtica de um sistema de medio
com trs eltrodos. Normalmente usada, para obter curvas de polarizao, uma
ponte salina (capilar de Luggin) que diminui a queda hmica entre o eltrodo de
referncia e o eltrodo de trabalho.
Figura 31: Ilustrao esquemtica de um sistema de medio com trs eltrodos [18].
Para estudos do ao em beto, o potencial aplicado normalmente efetuado com um

varrimento andico e depois catdico, tipicamente a uma velocidade de varrimento de
1 mV/s ou abaixo. De modo a minimizar as alteraes da interface ao/beto, o
potencial mantido abaixo da reao de evoluo do oxignio e acima da linha de
evoluo do hidrognio, do diagrama de Pourbaix. O que normalmente efetuado
um varrimento de potencial at se atingir a zona de potencial de evoluo de oxignio
(a gua tende a oxidar) no diagrama de Pourbaix [31].
Como vimos mais acima, pela tcnica de polarizao potenciodinmica obtm-se as

curvas de densidade de corrente logartmica (i) vs potencial (E), sendo possvel
determinar a velocidade de corroso. Estas curvas so obtidas atravs dum
51
Captulo II Mtodos
varrimento contnuo do potencial, iniciando-se em potenciais onde predominam

reaes catdicas (potenciais inferiores ao potencial de corroso) ou no potencial de
corroso (potencial que estabelecido quando o material imerso em soluo,
tambm designado de potencial em circuito aberto). A velocidade de varrimento
constante [36].
A informao obtida da zona andica da curva inclui: a capacidade de passivao do

ao em certos meios e a regio de potencial onde o ao se mantem passivo. A parte
catdica da curva indica qualquer limitao de oxignio durante a reduo do oxignio,
como se pode ver na Figura 32 [31].
Figura 32: Representao grfica da informao fornecida pelas curvas andicas e catdicas [31].
A forma das curvas de polarizao permite-nos retirar informao acerca da

velocidade de corroso ( ) do metal, sobre a cintica das reaes de corroso e a
capacidade de proteo do filme de passivao, sendo que a sua utilizao deve
fornecer resultados reprodutveis e facilmente interpretveis, para que se possa obter
resultados aceitveis.
A velocidade de varrimento, composio da soluo, tempo de imerso anterior ao

varrimento, estado de superfcie, agitao e temperatura do ensaio so condies que
podem influenciar a forma das curvas de polarizao [18,36].
52
Captulo II Mtodos
A relao entre a corrente andica e o potencial permite estimar a perda do metal

dentro do beto, recorrendo equao de Tafel:
2,303
= log ( ) = (20)

onde a constante de Tafel, o fator de barreira de energia, F a constante de
Faraday e a velocidade do processo corrosivo. Para a maior parte das reaes
eletroqumicas a constante de Tafel varia entre 0.05 e 0.15 V [18,21].
Da equao acima, verifica-se que a velocidade de reao logaritmicamente

sensvel s variaes de potencial, o que quer dizer que pequenas variaes de
potencial podem conduzir a elevadas velocidades de reao, Figura 33. As linhas de
Tafel so assimptotas das curvas de polarizao (ver Figura 34), em que a parte linear
da curva de polarizao extrapolada e assim se determinam as curvas de
sobrepotencial (overvoltage) [18,21].
A partir da equao de Tafel, para sobrepotenciais positivos elevados, considerado

apenas a componente andica, obtendo-se seguinte equao:

= 0 (1) (21)
Onde o declive de Tafel da componente andica, ba, corresponde seguinte equao:
2.303
= (22)
(1 )
Por sua vez, para sobrepotenciais negativos elevados, considerado apenas a
componente catdica, obtendo-se seguinte equao:

= 0 () (23)
Onde o declive de Tafel da componente catdica, b c, corresponde seguinte equao:
2.303
= (24)
()
53
Captulo II Mtodos
Figura 33: Curva de Potencial log (i), para uma reao de eltrodo simples, com ba e bc
correspondente ao declive de Tafel da componente andica e catdica, respetivamente. Ia = ic = io
corresponde a = 0 (adaptado de [18,28]).
Figura 34: Curvas de polarizao e as respetivas curvas de sobrepotencial [18].
Como vimos anteriormente, a curva de polarizao de um metal apresenta zonas

denominadas de catdica e andica. Na zona catdica (Figura 35), ou nos potenciais
abaixo do potencial de corroso, a velocidade de dissoluo do metal muito baixa,
devido a predominncia de reaes catdicas, como a da evoluo do hidrognio
(equao 4). Sendo que com o aumento do potencial existe a reverso de corrente no
potencial de corroso e a partir desse ponto inicia-se a regio andica da curva de
polarizao (Figura 36) [36].
54
Captulo II Mtodos
Figura 35: Curva de polarizao catdica em condies diferentes, com a) beto ao ar livre, b)
beto molhado ou hmido e c) beto imerso em gua [21].
Da Figura 35, obtida para ao embebido em beto em diferentes condies, possvel

observar que, para potenciais abaixo de -900 mV vs. SCE, ocorre a libertao de
hidrognio, para alm da reduo de oxignio, aumentando a velocidade do processo.
Visto que a velocidade do processo depende do acesso de oxignio a armadura,
quanto mais gua existir nos poros do beto mais difcil ser a difuso do oxignio at
armadura, diminudo assim a velocidade do processo catdico. Na situao c) onde
no h oxignio disponvel s existe a formao de hidrognio, atravs da equao
[21]:
22 + 2 2 + 2 (25)
A curva de polarizao andica tpica do ferro no beto e na ausncia de

contaminantes, como cloretos ou dixido de carbono, apresentada na Figura 36. Da
figura, pode-se observar a existncia de vrios estados a diferentes potenciais. Em
que, para potenciais abaixo de -1000 mV vs.SCE, o metal est imune corroso, isto
, no tem tendncia para se oxidar. Para potenciais entre -1000 mV e -800 mV, o
estado da armadura ativo, visto que o filme de passivao no estvel ou no se
forma. Para potenciais entre -800 mV e +600 mV, este encontra-se no estado passivo,
apesar de ter tendncia para se oxidar, a velocidade de oxidao muito baixa (< 0.1
mA/m2 = 0.1 m/ano). Por sua vez, acima de +600 mV, o ao diz-se transpassivo e a
velocidade de oxidao pode aumentar para valores de 100 a 1000 vezes superiores
do estado ativo [21].
55
Captulo II Mtodos
Figura 36: Curva de polarizao andica da armadura no beto [21].
Numa curva de polarizao, a ocorrncia de picadas gera um grande aumento de

densidade de corrente e o potencial eletroqumico denominado de potencial de
picada ( ). Quanto mais elevado for o potencial de picada maior a resistncia do
metal a formao de picadas. Ou seja, o corresponde a um potencial abaixo do
qual a superfcie do metal se mantem passiva e acima da qual comea a formao de
picadas. Ao atingir a estabilidade, a picada repassiva e a densidade de corrente
diminui bruscamente [36,60].
De um modo geral, conseguimos obter um vasto leque de informao acerca do

comportamento eletroqumico do metal num determinado eletrlito. No entanto este
mtodo apresenta algumas desvantagens, tais como o tempo necessrio para a
execuo da tcnica, que depender da velocidade de varrimento que pode demorar
horas ou, mesmo, dias e um mtodo destrutivo [31].
2.2.3 Tcnica do eltrodo vibrante de varrimento

(SVET)
Como vimos anteriormente, a corroso localizada um processo eletroqumico que
envolve a oxidao das reas andicas da superfcie metlica, gerando um fluxo
inico que se dirige para as regies catdicas adjacentes atravs do eletrlito (Figura
37). O fluxo inico origina uma corrente inica e um gradiente de potencial no
eletrlito.
56
Captulo II Mtodos
Figura 37: Representao esquemtica do fluxo inico, corrente inica e diferena de potencial no
eletrlito (adaptado de [61]).
A Tcnica do Eltrodo Vibrante de Varrimento (SVET, do ingls Scanning Vibrating

Electrode Technique) utiliza um microelctrodo mvel vibrante capaz de medir os
gradientes de potencial gerado. SVET uma tcnica muito semelhante a SRET
(Scanning Reference Eletrode Technique) que consiste no mapeamento baseada em
eltrodos de referncia no vibrante. So tcnicas que nos permitem determinar a
distribuio da corrente inica que flui atravs das zonas andicas e catdicas da
superfcie corroda atravs da soluo (eletrlito), bem como a determinao da
velocidade de corroso. A corrente inica estimada atravs da medio do gradiente
de potencial, que aparece como queda hmica: = resultante da corrente que flui
atravs do eletrlito. A condutividade do meio um parmetro importante para a
determinao de resultados em SVET, visto que depende da resistncia da soluo
= 1/ (onde a condutividade da soluo) [6264].
A diferena de potencial pode ser convertida em densidade de corrente em soluo, j,
que pode ser calculada usando a seguinte equao,

= = ( ) (26)

Onde o campo eltrico na soluo e a diferena de potencial entre os
extremos de vibrao do eltrodo e a amplitude de vibrao.
57
Captulo II Mtodos
A converso entre o potencial medido e as correntes em soluo feita atravs da

calibrao do equipamento SVET, fornecendo uma corrente I conhecida a uma
distncia conhecida.
Como o sistema mede diferenas de potencial e apresenta os resultados na forma de
densidade de corrente, necessrio uma calibrao prvia para relacionar as duas
quantidades. Normalmente a calibrao feita recorrendo a uma clula que emprega
dois eltrodos de referncia, de platina ou ouro, com posies fixas e amplitude de
vibrao, , em geral entre 10 e 100 m. Com imposio de correntes constantes I,
que poder variar entre 0.2 e 10 A [62]. A diferena de potencial entre os dois
eltrodos dada imediatamente e a densidade de corrente j obtida pela
multiplicao pela condutividade da soluo .
Esta calibrao vlida para a soluo usada enquanto no se alterarem os
microelctrodos, a frequncia e a amplitude da vibrao, sendo apenas necessrio
introduzir o valor correto da condutividade da soluo em uso [61,65].
A tcnica SVET um melhoramento da SRET, em que se reduziu bastante o ruido,

visto que a densidade de corrente dada pela SRET apresenta bastante ruido, e
aumenta a sensibilidade da tcnica devido a converso do gradiente de potencial
medido num sinal AC, conseguido pela vibrao do eltrodo (sonda). Sendo que o
rudo se agrava com o aumento da condutividade do meio [62,65].
Quando fazemos vibrar a sonda (em ingls designada de probe), esta ir subir e
descer consoante a amplitude de vibrao imposta em relao posio inicial
imposta. Por exemplo, se a posio inicial for de 100 m e a amplitude de vibrao for
de 10 m, a sonda ir deslocar-se 10 m para cima e 10 m para baixo. Assim sendo,
as posies que esta atinge sero de 90 m e 110 m e o sistema ir medir uma
diferena de potencial que se estabelece entre duas posies distantes por 20 m.
Na Figura 38 conseguimos observar as alteraes significativas na densidade de

correntes obtidas por SRET e SVET, em que os resultados da SVET apresentam
menor ruido e os valores de corrente medidos experimentalmente muito prximos do
terico.
58
Captulo II Mtodos
Figura 38: a) densidade de corrente local medida a partir da SRET e b) medida pela SVET [65].
O equipamento SVET permite a medio do campo eltrico em duas direes (x e z),

o que permite a apresentao da corrente na forma de vetores 2D. Sendo que em
corroso usual utilizar apenas a componente da corrente perpendicular superfcie
da amostra, isto porque os mapas resultantes do uma boa ideia da distribuio
espacial dos processos andico e catdico.
Amostras homogneas de um mesmo metal puro ou liga podem ser estudas pela
tcnica SVET desde que as regies andicas e catdicas sejam de dimenses
passveis de ser resolvidas pela tcnica. Se a corroso no for muito rpida, possvel
seguir a evoluo espacial e temporal dos processos durante a degradao da
amostra (Figura 39). A figura demonstra claramente uma das vantagens da SVET,
pois esta deteta atividade antes dela se revelar vista desarmada ou ao microscpio
(minuto 5), distinguido as zonas andicas e catdicas e dando uma medida semi-
quantitativa sobre as respetivas atividades. O fluxo ascendente dos caties resultante
do processo andico detetado pela SVET como corrente positiva (cor vermelha nos
mapas) e o fluxo ascendentes de anies (OH -) do processo catdico como corrente
negativa (a azul nos mapas) [65].
59
Captulo II Mtodos
Figura 39: Evoluo da corroso de um ao macio durante as primeiras 24 horas de imerso em

0.05M NaCl [65].
Contudo, esta tcnica apresenta algumas limitaes, pois reas andicas muito
prximas da superfcie podem aparecer como uma nica, dependendo da intensidade
de corrente da regio andica e da preciso das medidas (Figura 40), ou seja, pode
no contabilizar correntes que fluem entre nodos e ctodos abaixo da amplitude
medida, onde correntes abaixo de 1 A/cm2 no so detetadas. As correntes de
grandes reas catdicas apresentam valores dessa grandeza ou mesmo inferiores
[63,65].
Figura 40: Tipos de resposta de acordo com as intensidades de corrente detetados pela SVET,
onde 1) Correntes baixas em A1 e A2; 2) Corrente em A1 maior que em A2; 3) Correntes de mdia
intensidade em A1 e A2; 4) Correntes altas em A1 e A2 (adaptado de [63].
60
Captulo II Mtodos
Outra limitao relativamente corrente que ascende e atravessa o plano de

medio e regressa superfcie atravessando de novo esse plano em sentido
contrrio, onde o regresso poder ocorrer fora da regio mapeada e essa corrente no
ser medida, como se pode verificar pela Figura 41. Tal pode ocorrer em casos de
correntes andicas localizadas e muito intensas rodeadas por reas catdicas bem
maiores e com correntes pequenas [65].
Figura 41: Esquema de algumas das limitaes da corrente medida pela SVET [65].
De um modo geral, a tcnica SVET mede o campo eltrico gerado pelos gradientes de
concentrao gerados pelas alteraes na superfcie em corroso. medida que a
sonda vibrante varre a superfcie da amostra num plano paralelo mesma, os valores
de diferena de potenciais obtidos so convertidos, pela lei de Ohm, em densidades
de corrente locais. Os valores medidos so funo da distribuio de correntes inicas
dos processos que ocorrem na superfcie [61].
Para alm da corroso sob picada, a tcnica SVET tem sido utilizada na anlise de
casos de corroso galvnica, corroso sob tenso, corroso intergranular, corroso
microbiolgica, inibidores de corroso e revestimentos.
61
Captulo II Mtodos
2.2.4 Microscopia tica
A anlise da microestrutura de materiais muito importante, pois esta permite

entender as correlaes microestrutura-defeitos-propriedades e quando estas
correlaes so estabelecidas possvel predizer as propriedades do material. Para
este tipo de anlise recorre-se frequentemente a microscopia tica e/ou eletrnica.
Na microscopia tica, em que o sistema constitudo por elementos mecnicos,
ticos, iluminador e acessrios (Figura 43) (com possibilidade de registo fotogrfico da
amostra) (Figura 42), onde o contraste da imagem o resultado da refletividade da luz
nas vrias regies da microestrutura. No caso dos metais, polmeros e a maioria dos
cermicos, por serem materiais opacos a luz visvel, s possvel observar a
superfcie da amostra e esta precisa de ser cuidadosamente preparada de maneira a
revelar os detalhes da microestrutura [66].
Para alm da preparao da amostra, importante o posicionamento correto da
mesma, pois se esta estiver a grande distncia ou nfima, no possvel o seu
reconhecimento a iluminao adequada e uma tcnica fotogrfica apropriada [36,67].
Na Figura 42 possvel observar o microscpio tico de reflexo usado neste trabalho

e na Figura 43 os elementos constituintes de um microscpio tico de reflexo.
Figura 42: Fotografia do Microscpio tico usado neste trabalho para fotografar as amostras [36].
62
Captulo II Mtodos
Figura 43: Partes de um microscpio tico de reflexo [36,67].
2.2.5 Microscopia eletrnica de varrimento

(MEV)
Uma das limitaes da microscopia tica capacidade mxima de ampliao

conseguida, que fica a volta de 2 000 vezes. Para tal comum recorrer ao MEV para
observar, analisar e explicar corretamente os fenmenos que ocorrem a escala
micromtrica ou submicromtrica. O MEV permite alcanar aumentos muito superiores
microscopia tica, em que, dependendo do material, possvel atingir aumentos de
at 900 000 vezes [66].
O funcionamento a alto vcuo do Microscpio Eletrnico de Varrimento requer que as

amostras sejam isentas de gua, devido a sua evaporao. Em amostras em que no
so condutoras, estas so revestidas a ouro ou carbono para tornar a superfcie
condutora. Conseguindo-se assim uma correspondncia entre imagem e a regio
63
Captulo II Mtodos
observada da amostra, ponto a ponto, atravs do varrimento da superfcie da amostra

com um feixe eletrnico finamente focado, sincronizado com o varrimento de um ecr
de visualizao, modulando o brilho em cada ponto pela intensidade de um sinal
emitido pela amostra. Na Figura 44 possvel observar o tipo de sinal obtido pela
interao entre o feixe eletrnico e a amostra [9,31,36].
Figura 44: Interao do feixe eletrnico com a amostra e origem de alguns sinais [66].
Dois modos de imagem so utilizados no MEV: imagem em eletres retrodifundidos

(do ingls Backscattered Electron Imaging, BEI) e imagem em eletres secundrios
(do ingls Secondary Electron Imaging, SEI).
medida que o feixe de eletres primrios varre a amostra, estes sofrem

modificaes de acordo com as variaes da superfcie. Os eletres secundrios
fornecem uma imagem da topografia da superfcie da amostra e so responsveis
pela obteno de imagens a alta resoluo.
64
Captulo II Mtodos
Por sua vez, uma imagem em eletres retrodifundidos, que requer amostras planas e
polidas, fornecem uma imagem com caractersticas da variao de composio.
Diferentes fases so distinguidas atravs da intensidade dos eletres retrodifundidos
de cada fase, em que determinada pelo nmero atmico mdio da fase. O contraste
aparece em diferentes tons de cinzento, em que parmetros como a rea ou o
dimetro dos constituintes macroestruturais podem ser medidos atravs de uma
anlise quantitativa da imagem produzida [31,66].
De modo a compreender as diferenas, na Figura 45 possvel observar uma imagem

em eletres retrodifundidos e eletres secundrios da mesma zona da amostra.
Figura 45: Imagem de um ao no MEV, onde a esquerda corresponde a imagem em eletres

retrodifundidos e a direita a imagem em eletres secundrios.
Para alm do tipo de imagem possvel de obter, o MEV tem o seu potencial ainda mais
desenvolvido quando este tem adaptado na cmara da amostra detetores de raios-X -
sistema de microanlise EDS (Espetroscopia de Disperso de Energia de raios-X) -
permitindo a realizao da anlise qumica na amostra em observao [66].
Dos raios-X emitidos, captados e analisados pelo detetor possvel obter informao
qualitativa e quantitativa sobre a composio da amostra na regio submicromtrica
de incidncia do feixe de eletres. Isto porque os raios-X so caractersticos para cada
elemento qumico e dependem do seu nmero atmico, possibilitando assim a
identificao de variaes de composio [36,66].
O detetor de EDS um cristal semicondutor Si (Li) com janela de berlio ou polmero

que gera um impulso de corrente eltrica no circuito exterior por cada foto de raios-X
65
Captulo II Mtodos
absorvido. Atravs de um computador, possvel a visualizao em tempo real e o

exame em detalhe do espetro que, com a ajuda de bibliotecas de espetros, torna
possvel o registo e o processamento para anlise quantitativa e qualitativa, atravs do
qual, pela identificao de picos, facilmente se identifica o elemento qumico a que
pertence cada pico [9,36].
A representao esquemtica dos principais componentes do MEV pode ser vista na

Figura 46.
Figura 46: Representao esquemtica dos componentes do MEV [66].
Assim sendo, o Microscpio Eletrnico de Varrimento (MEV) (do ingls Scanning

Electron Microscopy, SEM) tem sido utilizado bastante devido elevada profundidade
de foco (imagem com aparncia tridimensional) e possibilidade de combinar a
anlise microestrutural com a microanlise qumica que, so caractersticas que em
muito contribuem para o amplo uso desta tcnica.
66
Captulo II Mtodos
2.3 Preparao metalogrfica
O principal objetivo da examinao metalogrfica revelar os constituintes, a estrutura

do metal e a sua composio recorrendo a microscopia tica ou eletrnica. A
determinao e o controlo da microestrutura requer o uso de examinao
metalogrfica, sendo a seleo e a preparao adequada da amostra parmetros de
grande importncia [68].
A preparao metalogrfica um procedimento importante e necessrio para a

observao metalogrfica da amostra. Esta deve ter em conta dois fatores que
impem determinados condicionalismos, sendo este o tipo de material e os meios de
observao com que se ir trabalhar.
A amostra metalogrfica deve ser uma amostra representativa, sem riscos de

polimento, sem corroso devido ao ataque qumico e sem manchas. Esta deve ser
polida de forma a preservar as incluses intactas e ser suficientemente plana para
permitir a observao a ampliaes elevadas. Para a obteno de uma amostra com
as caractersticas desejadas, o procedimento de preparao abrange as seguintes
fases [36,69]:
Seleo da amostra e escolha do local da amostra a observar
seccionamento da amostra;
Corte;
Impregnao;
Polimento;
Ataque qumico (contrastao);
Observao e anlise microscpica.
Seleo da amostra e escolha do local da amostra a observar

seccionamento da amostra
Em amostras homogneas, a localizao do corte e do local a observar , em geral,

indiferente. Porm, em amostras heterogneas, a poro metlica a ser extrada deve
ser representativa do metal quanto a composio qumica e condies fsicas, ou pode
apenas evidenciar determinada caracterstica estrutural presente numa zona bem
definida [36,69].
67
Captulo II Mtodos
Corte
A orientao do corte ir depender do processo de fabrico, da forma da pea e do

estudo a ser realizado. Por vezes no necessrio cortar a amostra, no entanto,
quando for necessrio, o corte deve ser feito de maneira a no danificar a amostra e a
obter uma superfcie o mais plana possvel, abrangendo o local e a orientao
desejada. Geralmente efetuado um corte longitudinal ou um corte transversal na
amostra.
O mtodo mais usado para cortar a amostra, para alm de outros mtodos que
possam apresentar particularidades para o seccionamento que os tornem mais
indicados para um determinado material, o mtodo de cut-off (corte por abraso), em
que o tipo de disco e a velocidade de corte dependero do tipo de material e da
finalidade pretendida. Para alm do disco e da velocidade de corte, a estrutura do
material pode ser afetada pelo calor desenvolvido, para tal necessrio recorrer a
refrigerao da amostra durante o corte. O lquido refrigerante (constitudo por uma
soluo de gua e leo inibidor de corroso), para alm de conservar a pea a
temperaturas compatveis, tem a finalidade de lubrificar e remover o material residual
proveniente do corte, evitando assim transformaes estruturais no metal [67,69].
O lquido refrigerante deve ser direcionado diretamente na amostra e no disco de

corte. No caso de mquinas de corte com alavanca, necessrio aplicar uma fora
constante na alavanca, para que no haja a falta de penetrao do refrigerante. Na
Figura 47 possvel observar o aspeto de vares de ao cortados com lubrificao
insuficiente, em que as regies escurecidas denota a queima localizada do material
[69].
68
Captulo II Mtodos
Figura 47: A- corte sem lubrificao; B corte com lubrificao insuficiente; C corte com
refrigerao reduzida; D corte com lubrificao adequada, mas com excessiva variao de
presso na alavanca da mquina [69].
Da operao de corte a superfcie da amostra normalmente contm marcas ou

defeitos (rebarbas) resultante desse corte, devendo ser eliminadas. A operao de
eliminao designada por desbaste, sendo esta a primeira etapa na obteno de
uma superfcie plana, antes do polimento [69].
Impregnao
A impregnao da amostra, para alm de facilitar o manuseamento e evitar a

danificao das lixas, serve para isolar zonas que no so necessrias para o estudo.
A montagem pode ser a quente ou a frio. A montagem ou impregnao a frio feito,
num molde preenchido com resina sinttica de polimerizao rpida, em que
deixada s uma pequena superfcie de rea exposta (Figura 48).
A impregnao feita com resinas autopolimerizveis, em que normalmente so
usadas duas substncias (resina e endurecedor), formando um lquido viscoso quando
misturadas. Este lquido vertido para moldes de plstico onde se encontra a amostra
(Figura 49), polimerizando-se ao fim de 0.2 a 24 horas, dependendo do tipo de resina
e endurecedor usado [67].
69
Captulo II Mtodos
Figura 48: Amostra impregnada em resina, com dimenses x e y mm (adaptado de [70])
Figura 49: Impregnao da amostra em moldes de plstico (A e B) e resultado final aps

desmoldagem (C).
O material usado para a impregnao (resina) no deve danificar a amostra e deve ser
resistente aos solventes que sero usados posteriormente. Em casos em que a
presso e o calor podem danificar ou alterar a amostra, usam-se resinas a frio.
Cuidados a ter na impregnao a frio:

Misturar a resina e o endurecedor lentamente, pois uma agitao rpida
durante a mistura da resina com o endurecedor pode provocar bolhas;
70
Captulo II Mtodos
No ultrapassar a temperatura mxima de cura, visto que uma temperatura

elevada durante o perodo de cura tambm pode provocar bolhas;
Utilizar as propores recomendadas pelo fabricante, uma vez que propores
incorretas podem provocar fissuras e falta de fuso no caso de quantidade
insuficiente de endurecedor [69].
A presso, a temperatura e o tempo de polimerizao da resina so fatores essenciais

no processo de impregnao a quente. A temperatura e a presso devem ser
mantidas constantes, no excedendo os limites mximos aceites, sendo o tempo a
nica varivel no decorrer da operao.
Impregnao a quente tem como vantagens:

A obteno de uma qualidade e resistncia (dureza) da amostra superior
impregnada a frio;
Um mtodo rpido, quando se pretende obter uma nica impregnao;
Elevada exatido no dimetro da impregnao.
No entanto tem como desvantagens:

Custo inicial elevado da aquisio do equipamento;
Amostras frgeis podem ser danificadas devido presso exercida, que
poder variar de 20 30 MPa;
Amostras pouco resistentes ao calor podem ser danificadas, sendo que a
temperatura vria normalmente entre 120 - 200C no cilindro de montagem;
Amostras de grandes dimenses levam mais tempo a ser impregnadas e pode
ainda existir o problema de no encaixarem no cilindro de montagem do
equipamento, ou seja, limitaes do equipamento relativamente ao tamanho da
amostra [71].
Aps desmoldagem, as amostras devem ser armazenadas em exsicadores, evitando

possveis alteraes na amostra (oxidao superficial) provocada pela humidade do
ar.
Polimento
O polimento poder ser dividido em duas etapas, sendo que a primeira fase consiste
num polimento mais grosseiro (em ingls designado de grinding), em que feito
com recurso a lixas de polimento com granulometria varivel e a segunda etapa um
71
Captulo II Mtodos
polimento mais fino (em ingls designado de polishing), para a obteno de uma
superfcie plana escala a que se proceder observao, sendo um processo feito
com a utilizao de abrasivos de granulometria decrescente, tais como solues de
suspenso de diamante [36].
As amostras que necessitam de polimento para a examinao metalogrfica

geralmente no so maiores que 12 a 25 mm em dimetro, para materiais redondos. A
altura da amostra no deve ser superior necessria para o manuseamento
conveniente durante o polimento.
No entanto, nem sempre possvel assegurar as condies descritas anteriormente,
quando o material a ser examinado menor que as dimenses ditas ideais. Por vezes,
devido ao seu pequeno tamanho e forma, as amostras tm que ser montadas
(embutidas/impregnadas) pois, para alm de assegurar a facilidade de observao,
manuseamento e polimento uniforme da amostra, evita-se assim que as arestas
rasguem a lixa ou o pano de polimento [67,68].
Assim sendo, para a obteno do grau de perfeio pretendido no acabamento de

uma amostra metalogrfica, necessrio que cada etapa da preparao seja
executada cautelosamente, sendo um dos processos mais demorado da preparao
de amostras metalogrficas.
A primeira fase de polimento tem como objetivo a remoo de sulcos e riscos

provenientes do corte e/ou desbaste do metal e a obteno de uma superfcie plana
cuja profundidade de deformao seja suficientemente fina que permita o
desaparecimento com a operao de polimento seguinte. O processo geralmente
iniciado com uma lixa de granulometria grossa (120) e finalizado com uma lixa de
granulometria fina (2400) (podendo haver variaes), mudando-se de direo (90) em
cada mudana de lixa (Figura 50) [36,67,69].
72
Captulo II Mtodos
Figura 50: Representao esquemtica do polimento com recurso a lixas de polimento de

diferentes granulometrias, onde a orientao para o polimento: A-A direo de polimento na
primeira lixa e B-B direo na lixa seguinte, repetindo sempre a sequencia AA-BB (adaptado de
[67,69]).
O polimento com lixas abrasivas cria riscos (traos) na superfcie da amostra (Figura
51). S mudada a lixa quando os traos da lixa anterior desaparecerem, ou seja,
necessrio variar a granulao da lixa para ir melhorando o acabamento (rugosidade
superficial).
Figura 51: Fotografias de uma amostra de cobre polidas com granulometrias de A 180, B 400, C
800 e D 1200 [70].
73
Captulo II Mtodos
De acordo com a natureza da amostra, a presso de trabalho e a velocidade de

polimento, surgem deformaes em toda a superfcie por aumento de temperatura e
por esmagamento, dai que para um polimento mais eficaz, necessrio o uso
adequado da tcnica de polimento.
Para minimizar o aquecimento, , normalmente, utilizada gua com inibidores neste
processo de polimento, como foi j referido, sendo que o uso deste liquido tambm
minimiza o empastamento, melhorando o contacto do abrasivo com a amostra. Para
alm disso, o uso de lquido ajuda a remover partculas de abrasivo que podem ficar
aderidas superfcie da amostra e ser confundidas com incluses [67,69].
Aps o processo anterior, a segunda etapa de polimento visa um acabamento

superficial polido plano, isento de marcas (riscos) e com elevada refletividade. Para
esse fim utilizam-se abrasivos como pasta de diamante (ordem dos mcron) ou
alumina.
Antes de iniciar esta etapa de polimento, importante fazer uma limpeza na superfcie
da amostra, com gua ou com lquidos de baixo ponto de ebulio (exemplo: lcool
etlico) para que a secagem seja rpida, sendo este ltimo o mais recomendvel a
usar [67,69].
Para alm da superfcie da amostra estar rigorosamente limpa, durante o polimento

necessrio ter alguns cuidados, tais como [67,69] :
A escolha do material de polimento deve ser a adequada;
Evitar presso excessiva sobre a amostra, em que se deve iniciar o polimento
com uma presso moderada a elevada e ir reduzindo a presso medida que
for polindo, movendo a amostra em forma elptica no sentido contrrio
rotao do prato;
Evitar polimentos demorados, bem como tempos insuficientes de polimento;
Evitar frico excessiva.
Ataque qumico (contrastao)
Para muitos materiais, a microestrutura revelada somente pelo ataque qumico da

superfcie com solues reativas apropriadas, isto porque um polimento correto de um
metal reflete a luz de modo uniforme, no permitindo distinguir os microconstituintes
da mesma.
74
Captulo II Mtodos
No entanto, se o polimento revelar detalhes que apresentem 10% de diferena em

refletividade da luz, possvel observar a superfcie polida sem necessidade de
ataque, recorrendo ao microscpio tico. Com uso de iluminao com contraste de
fases (luz polarizada, iluminao em campo escuro, etc.) possvel observar
constituintes com menor diferena em refletividade, sem a necessidade de ataque.
Antes de aplicar o ataque a amostra deve ser perfeitamente limpa e seca, utilizando
lquidos de baixo ponto de ebulio como o lcool, ter, entre outros [36,69].
As tcnicas desenvolvidas no mbito da metalografia, por vezes com algumas

adaptaes, so adequadas para a observao de outros tipos de materiais que no
apenas metlicos. Este facto tem originado a substituio progressiva do conceito de
metalografia por outro mais abrangente, o de materialografia [36].
75
Captulo III
Procedimento Experimental
Captulo III Procedimento Experimental
3 Procedimento Experimental
3.1 Introduo
Para a realizao do presente trabalho, foram realizados estudos em solues que
simulam a soluo intersticial existente nos poros do beto (SPS do ingls Synthetic
Pore Solution), com o objetivo de avaliar a influncia do estado de superfcie da
armadura no teor crtico de cloretos para iniciao da corroso do ao no beto, bem
como aumentar o conhecimento do sistema ao/beto.
Como foi constatado anteriormente, foram utilizadas diferentes tcnicas

eletroqumicas, nomeadamente a polarizao potenciodinmica e a tcnica do
eltrodo vibrante de varrimento (SVET), em solues simulativas do lquido intersticial
com diferentes concentraes de cloretos e, ainda, diferentes estados de superfcie
das amostras de ao. Posteriormente as amostras foram observadas em microscopia
tica e eletrnica de varrimento (MEV).
Os ensaios eletroqumicos (polarizao potenciodinmica) foram realizados em

soluo simulativa (SPS) constituda por KOH (0.3 M), NaOH (0.1 M), Ca(OH)2 (0.03
M) e CaSO4.H2O (0.002 M), de pH ~ 13.5, com diferentes concentraes de cloretos
em amostras de ao impregnadas em resina epoxdica com diferentes estados de
superfcie: tal e qual (T), espelhada (D), polida (P500) e pr-oxidada (DH).
Onde a condio T - corresponde a uma amostra que no sofreu nenhum polimento.
Aps corte foi usada tal e qual, ou seja, apresenta a rugosidade obtida da mquina
de corte; D corresponde a uma amostra que teve um acabamento de superfcie com
polimento de suspenso de diamante de 1 m; P500 corresponde a uma amostra que
teve um acabamento de superfcie at um polimento com lixa de SiC de granulometria
500; DH corresponde a uma amostra que teve um acabamento de superfcie com
polimento de suspenso de diamante de 1 m, sendo posteriormente pr-oxidada com
gua destilada. Esta pr-oxidao foi feita atravs da pipetao, com uma pipeta de
Pasteur sobre a superfcie, e deixada durante 24h em ambiente laboratorial.
Por sua vez, para a realizao dos ensaios de SVET foi preparada uma soluo de
hidrxido de sdio (NaOH), com pH de 13.5 (idntico a SPS).
77
3.2 Reagentes e auxiliares

Na realizao do trabalho experimental foram utilizados diversas solues a partir dos
reagentes abaixo descriminados:
Soluo SPS:
o hidrxido de sdio () ( 99%) da Merck
o hidrxido de potssio () ( 85%) da Merck
o hidrxido de clcio (()2 ) (p.a.) da Jose M.Vaz Pereira S.A.
o sulfato de clcio hidratado (4 . 2 ) (p.a.) da Panreac
o cloreto de sdio (l) (p.a.) da Merck.
Ponte salina preparada com uma soluo aquosa de nitrato de potssio 1 M

(3 ) (99%) da Riedel-de-Han e agar-agar (agar bacteriolgico tipo
Europeu, da Panreac) numa relao de 10 g de agar-agar por 100 ml de
3 .
3.3 Material
Na impregnao das amostras de ao, foi utilizado uma resina epoxdica da Struers
Specifix Resin e endurecedor da Struers SpeciFix-20, numa proporo de 5.2 ml de
resina para 1 ml de endurecedor.
Foram utilizados provetes de ao de construo nervurados com altura aproximada de

10 mm e 8 mm de dimetro.
No polimento das superfcies das amostras impregnadas foram utilizadas, na primeira

fase do polimento (grinding), lixas de carbonato de slica (SiC) da Struers de
granulometria 120, 220, 320, 500, 800, 1000 e 2400.
Na segunda fase do polimento (polishing) foram utilizadas solues de suspenso de

diamante de 6, 3 e 1 m da marca Struers.
Nos ensaios eletroqumicos foi utilizado como eltrodo de referncia o eltrodo

saturado de calomelanos (SCE) da Radiometer Analytical XR110 e um contra eltrodo
de grafite.
78
3.4 Equipamento
Para as pesagens, na preparao das solues simulativa dos poros do beto,

foi utilizada uma balana analtica Mettler Toledo AB204-S (0.1 mg).
Para o corte dos provetes de ao com uma altura de aproximadamente 10 mm,

utilizou-se a mquina de corte Struers - Labotom-3 (Spindle speed: 2845 rpm
50Hz ou 3450 rpm 60Hz) (Figura 52).
Figura 52: Mquina de corte Struers - Labotom-3 (Spindle speed: 2845 rpm 50Hz ou 3450 rpm
60Hz).
Para a preparao das amostras tal e qual, recorreu-se a mquina de corte

automtica de preciso Struers (Figura 53).
Figura 53: Mquina de corte automtica de preciso Struers.
79
As amostras, usadas na realizao das experiencias eletroqumicas foram

polidas no equipamento Struers - Rotopol-21 (Figura 54).
Figura 54: Equipamento utilizado no polimento das amostras [42].
Para a observao das amostras aps polimento, e para a verificao em cada

estgio de polimento (cada troca da granulometria das lixas), utilizou-se um
microscpio tico Olympus PMG3 acoplado a mquina fotogrfica Olympus
DP-20 (Figura 55).
Figura 55: Microscpio tico Olympus PMG3 acoplado a mquina fotogrfica Olympus DP-20.
80
Na observao das amostras antes e aps de cada experiencia eletroqumica

utilizou-se um microscpio tico Olympus SZH (com uma lupa 1X e com
ampliao 7.5X) acoplado a mquina fotogrfica Olympus DP-20 (Figura 56).
Figura 56: Microscpio tico usado para a observao das amostras.
No estudo em soluo simulativa do beto utilizou-se o potencistato

Reference 600 Potentiostat/Galvanostat/ZRA da Gamry Instruments (Figura 57)
para a realizao das curvas de polarizao.
Figura 57: Potencistato Reference 600 Potentiostat/Galvanostat/ZRA da Gamry Instruments.
81
As superfcies das amostras foram recobertas com material condutor (ouro),

para possibilitar a observao no MEV, para tal foi utilizado o sistema de
preparao de amostras BAL-TEC, SCD 005 Sputler (Figura 58).
Figura 58: Equipamento de recobrimento para a visualizao no MEV-EDS.
A observao ao microscpio eletrnico de varrimento (MEV) foi feita no

equipamento JEOL JSM-6400 complementado com EDS (microanlise de
raios-X por disperso em energia), utilizando um microanalisador de Raios-X
Oxford INCA 300 (Figura 59).
Figura 59: Microscpio Eletrnico de Varrimento (MEV).
82
Para a realizao da Tcnica do Eltrodo Vibrante de Varrimento (SVET) foi

utilizado o equipamento da Princeton Applied Research Scanning
Electrochemical Workstation Modelo 370, acoplado com um eletrmetro, uma
unidade de controlo SCV370 e um Potencistato/Galvanostato Modelo 263A
(Figura 60).
Figura 60: Equipamento para a realizao da tcnica SVET da Princeton Applied Research
Scanning Electrochemical Workstation Modelo 370.
3.5 Procedimento Experimental

3.5.1 Preparao das amostras
Previamente realizao de cada experincia, a superfcie do eltrodo de trabalho foi

preparada, de acordo com o objetivo do trabalho, ou seja, prepararam-se amostras
com diferentes estados de superfcie (tal e qual, pr-oxidada, polida, espelhada).
Para tal cortaram-se troos de cerca de 1 cm de varo de ao (dimetro 8mm) do tipo

A400 NR (LNEC E449-1998). Para garantir a conduo eltrica na realizao dos
diferentes ensaios eletroqumicos, foi soldado um fio de cobre amostra de ao.
Posteriormente foram impregnadas em resina, a frio. Aps impregnao as amostras
foram tratadas de forma a obter o estado de superfcie desejado.
83
As amostras tal e qual, foram impregnadas em resina e aps impregnao sofreram

um corte mnimo (<1mm) expondo a superfcie do metal (na impregnao o ao fica
coberto totalmente com resina, e para obter o estado de superfcie pretendido, foi
necessrio proceder ao corte numa mquina de corte automtica de preciso Struers
(Figura 53).
As restantes amostras foram impregnadas e polidas at diferentes granulometrias, tal

como se pode observar na Figura 61.
Figura 61: Procedimento do polimento com recurso a lixas de SiC (A), com recurso a pano de
polimento (B) e as suspenses de diamante utilizadas (C) (adaptado de [36]).
Como j foi referido, foram utilizadas lixas de carbonato de slica (SiC) de

granulometria de gro mais grosso (lixa 120) at a lixa final de gro mais fino (2400).
Entre cada lixa a amostra foi observada ao microscpio Olympus PMG3 de modo a
verificar se no havia riscos da lixa anterior. Verificou-se que perto da juno (interface
ao-resina) havia maiores dificuldades em eliminar estes riscos, visto o processo ser
semi-automtico, uma vez que se recorre mo para exercer a fora necessria e
segurar a amostra. A fora exercida no uniforme ao longo de toda a superfcie
provocando vrios planos de polimento, tal como se pode verificar na Figura 62. Estas
imperfeies no eram visveis a olho nu, dai se ter recorrido ao microscpio tico.
Aps observao ao microscpio e a obteno de um polimento correto (Figura 62- A).
84
Figura 62: Amostras impregnadas em resina, em que A amostra polida corretamente e B

amostra polida incorretamente, com vrios planos de polimento [69].
Terminado o polimento e a obteno da condio de estado de superfcie pretendido,

a amostra foi fotografada antes e depois da realizao das tcnicas eletroqumicas. Na
Figura 63, podemos verificar dois estados de superfcie, em que um corresponde a
uma amostra que sofreu polimento at uma lixa de granulometria 500, com
designao P500 (imagem da esquerda) e outro que corresponde a uma amostra que
sofreu corte na mquina automtica de preciso, sem qualquer polimento, com
designao de T (imagem da direita).
Figura 63: Imagem de uma amostra que sofreu polimento com lixa de SiC de granulometria 500
(imagem da esquerda) e amostra que sofreu corte na mquina de corte automtico de preciso
Struers (imagem da direita).
3.5.2 Preparao das solues

Para a realizao dos ensaios de polarizao potenciodinmica foi preparada uma
soluo simulativa dos poros no beto (SPS), com um pH~13.5, dissolvendo as
quantidades indicadas na Tabela 5 em gua destilada. Esta soluo corresponde a
uma composio de beto de relao A/C de 0.42 e cimento do tipo I [56].
85
Tabela 5: Composio qumica da SPS (adaptado de [56]).
Composto Concentrao (mol/l) Massa, g

NaOH 0.1 4.0000
KOH 0.3 16.8330
Ca(OH)2 0.03 2.2227
CaSO4.H2O 0.002 0.3443
Para simular a contaminao por ies cloreto, foi dissolvido cloreto de sdio em 1 litro
de soluo, de forma a obter solues com diferentes concentraes de (Tabela
6).
Tabela 6: Quantidade de NaCl usado na preparao das solues.
% Cl- (p/p) Massa de NaCl (g)

3 49.5
4 65.9
5 82.4
7 115.4
10 164.9
Para a realizao dos ensaios de SVET foi preparada uma soluo de hidrxido de
sdio (NaOH), com pH de 13.5 (idntico a SPS). No se utilizou a mesma soluo dos
ensaios de polarizao potenciodinmica devido ao facto de a soluo poder
carbonatar, pois fica exposta ao ar. Tambm se verificou que o hidrxido de clcio,
usado na preparao da SPS, faz com que a soluo no seja suficientemente
transparente para a observao da sonda e colocao/aproximao superfcie da
amostra. Esta aproximao controlada atravs de um microscpio, como se pode
verificar na Figura 60.
Assim sendo, para um litro de soluo de hidrxido de sdio, com pH de 13.5, pesou-
se 12.9092 g de NaOH.
86
3.5.3 Identificao das amostras para ensaio
De modo a facilitar o estudo e a identificao das condies aplicadas, adaptou-se

uma nomenclatura, que conjuga o estado de superfcie e a soluo de ensaio utilizada
(Tabela 7).
Foram estudados quatro estados de superfcie, com a seguinte designao:

T - corresponde a uma amostra que no sofreu nenhum polimento. Aps corte foi
usada tal e qual, ou seja, apresenta a rugosidade obtida da mquina de corte;
DH corresponde a uma amostra que teve um acabamento de superfcie com
polimento de suspenso de diamante de 1 m, sendo posteriormente pr-oxidada com
gua destilada. Esta pr-oxidao foi feita atravs da pipetao, com uma pipeta de
Pasteur sobre a superfcie, e deixada durante 24h em ambiente laboratorial;
P500 corresponde a uma amostra que teve um acabamento de superfcie at um
polimento com lixa de SiC de granulometria 500;
D corresponde a uma amostra que teve um acabamento de superfcie com
polimento de suspenso de diamante de 1 m.
Tabela 7: Condies de exposio e tipo de condio de superfcie das amostras utilizadas em

estudo.
Estado de
Polimento Soluo Designao
superfcie
SPS T
Tal e Qual Nenhum -
SPS + Cl T_ (%Cl)
SPS DH
Pr-Oxidada Diamante -
SPS + Cl DH_ (%Cl)
SPS P500
Polida Lixa500 -
SPS + Cl P500_ (%Cl)
SPS D
Espelhada Diamante
SPS + Cl- D_ (%Cl)
Nota:
D#1 - Polimento de diamante (1 m) sem adio de cloretos.
D_ (3%Cl) #1 - Polimento de diamante (1 m) com adio de 3% de ies cloreto.
O nmero 1 corresponde amostra 1 (realizaram-se 3 repeties da mesma condio de
estado de superfcie da amostra).
87
3.6 Estudos Eletroqumicos

3.6.1 Polarizao Potenciodinmica (curvas de
polarizao)
Nos ensaios de polarizao potenciodinmica foi efetuado um varrimento de potencial

entre -0.2 V em relao ao e +0.6 V em relao ao () , a uma velocidade de
0.5 mV/s.
Antes do varrimento, as amostras ficaram imersas em soluo durante 24h, e antes de

cada curva de polarizao, isto , antes de cada varrimento de potencial, mediu-se o
potencial em circuito aberto durante 60 minutos, de modo a garantir a estabilizao no
meio.
Os estudos foram realizados a temperatura ambiente.
Nos estudos eletroqumicos foi utilizada uma clula eletroqumica (Figura 64) de trs
eltrodos: eltrodo de referncia, contra eltrodo e eltrodo de trabalho. O eltrodo de
referncia utilizado foi o SCE e o contra eltrodo um basto de grafite. O eltrodo de
trabalho uma amostra de ao impregnada em resina epoxdica, e de modo a permitir
o contacto eltrico foi soldado um fio de cobre ao eltrodo de trabalho como foi
referido e se pode verificar na Figura 65.
Figura 64: Clula eletroqumica utilizada para a realizao dos ensaios eletroqumicos (polarizao
potenciodinmica).
88
Figura 65: Eltrodo de trabalho usado nos ensaios.
A rea do eltrodo de trabalho de 0.503 cm 2 (rea transversal do ao calculado

como indicado na referncia [72]).
3.6.2 SVET
Para o estudo, imps-se, recorrendo ao galvanostato, uma densidade de corrente, i,
constante de 10 A e uma distncia do eltrodo vibrante inferior a 100 m com uma
amplitude de vibrao constante de 30 m.
Tal como referido no ponto 2.2.3, a distncia da ponta do eltrodo (sonda) superfcie
da amostra um parmetro importante, visto que esta tem que ser inferior a 100 m.
De modo a facilitar o ensaio e visto que uma tcnica que consegue analisar reas
muito pequenas, na ordem dos micrmetros, a superfcie da amostra foi isolada com
cola de dois componentes, tendo-se deixado uma rea muito pequena para o estudo
(delimitada a vermelho), como se pode verificar na Figura 66.
Figura 66: Amostra usada para a anlise SVET.
89
A amostra foi colocada numa clula (de capacidade de 1litro) (Figura 67) de trs
eltrodos: sonda, contra eltrodo (CE) de grafite e eltrodo de trabalho (WE), como
representado na Figura 68. Antes de aferir com a soluo, a amostra foi nivelada.
O eltrodo de trabalho uma amostra de ao impregnada em resina epoxdica, e, de

modo a permitir o contacto eltrico, foi soldado um fio de cobre ao eltrodo de
trabalho.
Para o estudo utilizou-se uma soluo de hidrxido de sdio, de condutividade

~150 /, com diferentes concentraes de cloretos. As medidas foram feitas ao
fim de 5, 10, 15, 20 e 25 minutos de exposio do ao soluo com concentraes
de 0, 3, 5 e 7% de ies cloreto. A medio foi feita sempre sobre a mesma rea, 1
mm2.
Figura 67: Imagem da clula eletroqumica utilizada nos ensaios SVET.
90
Figura 68: Representao esquemtica da clula eletroqumica usada em ensaios SVET [73].
Antes de qualquer medio, foi medido o sinal atravs da janela do software Uniscan
Instruments Model 370. Clicando no setup lock-in Amplifier aparece a janela Signal
Conditioning, Figura 69. Inicialmente deve-se igualar a Reference Phase a zero e
verificar se, na Vibrating probe output, o sinal est entre 10-70%. Aps esta
verificao vai-se aumentado a fase at que o sinal v a 0%. Atingindo os 0%, tem-se
que decrescer 90 na Reference Phase.
Figura 69: Imagem da janela de medio do sinal, a realizar antes de qualquer medio.
91
3.7 Observao ao microscpio eletrnico de

varrimento (MEV)
Como j foi referido no ponto 2.2.5, a amostra tem de ser condutora, uma vez que o
princpio de funcionamento do MEV se baseia no bombardeamento de eletres contra
o material a ser observado.
Assim sendo, amostras que no sejam condutoras devem ser recobertas com material
condutor, como por exemplo o ouro ou platina. No entanto, o recobrimento no s
feito em amostras no condutoras. Em amostras condutoras, o recobrimento serve
para melhorar o nvel de emisso de eletres, pois facilita e melhora a
construo/obteno da imagem, visto serem emitidos mais eletres [74].
O recobrimento da amostra foi feito com ouro, numa camara de desumidificao e

recobrimento Batlec SCD005, Sputler Coater (Figura 58), a presso baixa entre
101 102 mbar e com ar rarefeito, conseguido com recurso ao gs rgon, para se
obter uma disperso eficaz e uma camada de recobrimento na ordem dos nanmetros.
A disperso do ouro sobre a amostra fez-se durante 20s com uma corrente de 60 mA.
Aps o recobrimento, a amostra foi colocada no suporte e introduzida na cmara do

MEV, que se encontrava em vcuo.
92
Captulo IV
Apresentao e Discusso de
Resultados
Captulo IV Apresentao e Discusso de Resultados
4. Apresentao e Discusso de Resultados

4.1 Introduo
Neste captulo procede-se ao tratamento e discusso dos resultados obtidos na

realizao das tcnicas eletroqumicas, como a monitorizao do potencial das
diferentes amostras com vrios estados de superfcie, bem como as respetivas curvas
de polarizao e os resultados da aplicao da tcnica SVET.
Os resultados obtidos pelas tcnicas eletroqumicas sero comparados com as

observaes efetuadas por microscopia tica e microscopia eletrnica de varrimento
(MEV).
4.2 Monitorizao do potencial em circuito

aberto (EOC)
Como foi referido, as medidas de potencial de corroso foram realizadas aps 24h de
imerso das amostras em soluo, tendo sido medidas uma hora antes da realizao
das curvas de polarizao.
Em ensaios realizados por Guo et al. [75], para a obteno de um potencial de

corroso estvel, as amostras estiveram imersas em soluo durante 40 minutos.
A obteno de curvas de polarizao, por Poursaee [56], em solues contaminadas

com ies cloreto foi feita ao fim de 24 h em imerso.
Por sua vez, Cunha [21] realizou ensaios de polarizao com intervalo de repouso de
uma hora entre cada polarizao.
Nas Figura 70 a Figura 73 apresentam-se os registos no tempo dos potenciais de

eltrodo das amostras imersas em soluo simulativa dos poros do beto (SPS) sem
cloretos (0% Cl-) e contaminadas com cloretos em diferentes concentraes.
94
Potencial (V) vs SCE
-0,2799
-0,2799
-0,2800
0% Cl
-0,2800
-0,2800
0 100 200 300 400 500 600 700
Tempo (s)
Figura 70: Potencial em circuito Aberto (E OC) da condio D, correspondente a uma amostra que
teve um acabamento de superfcie com polimento de suspenso de diamante de 1 m.
95
-0,20
-0,25
Potencial (V) vs SCE -0,30 0% Cl
-0,35 3% Cl
4% Cl
-0,40
5% Cl
-0,45 10% Cl
-0,50
0 600 1200 1800 2400 3000 3600
Tempo (s)
Figura 71: Potencial em circuito Aberto (E OC) da condio T, correspondente a uma amostra que
no sofreu nenhum polimento, apos corte foi usada tal e qual, ou seja, apresenta a rugosidade
obtida da mquina de corte.
-0,20
-0,25
-0,30 0% Cl
-0,35 3% Cl
-0,40 5% Cl
-0,45
10% Cl
-0,50
0 600 1200 1800 2400 3000 3600
Tempo (s)
Figura 72: Potencial em circuito Aberto (EOC) da condio P500, correspondente a uma amostra que
teve um acabamento de superfcie at um polimento com lixa de SiC de granulometria 500.
-0,20
-0,25
-0,30
-0,35 0% Cl
-0,40 3% Cl
-0,45 5% Cl
-0,50
0 600 1200 1800 2400 3000 3600
Tempo (s)
Figura 73:Potencial em circuito Aberto (EOC) da condio DH, correspondente a uma amostra que
teve um acabamento de superfcie com polimento de suspenso de diamante de 1 m, sendo
posteriormente pr-oxidada com gua destilada.
96
As curvas apresentadas referem-se aos primeiros 3600 s. Aps este tempo as

variaes foram pouco significativas. Na Tabela 8 apresentam-se os valores medidos
ao fim de 23 h de imerso e antes de se proceder as curvas de polarizao.
Tabela 8: Valores de potenciais em circuito aberto, EOC, para os diferentes estados de superfcie
com varias concentraes de cloretos medidas as 23 h.
EOC (mV) vs SCE
Concentrao Cloretos (%)

D P500 T DH
0 -280 -320 -295 -242
3 -334 -320 -289
4 -450 -356
5 -292 -394 -362 -487
7 -440
10 -451 -405 -436
Da anlise das curvas obtidas e da Tabela 8 pode verificar-se que, para todos os tipos
de acabamento de superfcie, o potencial diminui, em geral, com o aumento do teor
em cloretos.
Em termos de evoluo da corroso, a informao extrada da Tabela 8 apenas

qualitativa, indicando a maior ou menor probabilidade de o fenmeno corrosivo estar a
ocorrer, no dando informao sobre a velocidade de corroso. Como se verificou
anteriormente, na Tabela 4, o ao num beto desarejado encontra-se no estado
passivo para potenciais entre +200 at -600 mV vs. SCE e no estado ativo, para
potenciais entre -200 at -500 mV vs. SCE.
Encontra-se descrito na literatura que o potencial da armadura torna-se mais negativo

medida que a armadura se vai despassivando. Para a observao da mudana do
estado passivo para ativo utiliza-se como critrio, frequentemente, uma diferena de
potencial. Em geral, utiliza-se uma diferena de potencial de 100 a 150 mV
relativamente ao potencial de corroso medido com 0% de cloretos (critrio usado por
Amaral [9] e por Boubitsas e Tang [48]). Estes autores indicam que, quando se cumpre
este critrio, observa-se corroso nas reas onde o potencial mais baixo. No
97
entanto, importante referir que necessrio ter por base um nmero suficiente de
medidas. de referir tambm, que, por vezes, difcil reproduzir as condies, visto
que as leituras de potencial dependem de vrios fatores, tais como a quantidade de
oxignio disponvel, a corrente de macroclulas (provocada pela distncia que separa
as reas catdicas das reas andicas no processo de corroso), as alteraes de pH
na superfcie, ou, mesmo, devido a diferentes concentraes de cloretos no beto
[9,39].
Da Tabela 8, podemos verificar que potencial diminui, em geral, a partir de uma

determinada concentrao de cloretos e segundo, o critrio acima descrito proposto
por Amaral, Boubitsas e Tang:
Para a condio D verifica-se uma diminuio significativa a partir de 5% de

cloretos, existindo um decrscimo de -292 mV para -440 mV, quando o teor de
cloretos passou de 5% para 7%.
Para a condio P500 verifica-se uma diminuio significativa a partir de 3% de
ies cloreto, existindo um decrscimo de -334 mV para -450 mV, quando o teor
de cloretos passou de 3% para 4%.
Para a condio T verifica-se uma diminuio significativa a partir de 5% de
ies cloreto, existindo um decrscimo de -356 mV para -436 mV, quando o teor
de cloretos passou de 5% para 10%.
Para a condio DH verifica-se uma diminuio significativa de potencial a partir
de 3% de ies cloreto, existindo um decrscimo de -289 mV para -487 mV,
quando o teor de cloretos passou de 3% para 5%.
98
4.3 Polarizao potenciodinmica
Como foi referido no ponto 2.2.2, das curvas de polarizao possvel obter
informao acerca da passivao ou despassivao de um metal imerso em soluo
[75]. A informao obtida da zona andica da curva inclui: a capacidade de passivao
do ao em certos meios e a regio de potencial onde ao se mantem passivo. Por sua
vez, a parte catdica da curva indica qualquer limitao de oxignio durante a reduo
do oxignio [31].
No entanto, existem condies de ensaio que podem influenciar a forma das curvas de
polarizao, dos quais se destacam a velocidade de varrimento, composio da
soluo, tempo de imerso anterior ao varrimento, estado de superfcie, agitao e
temperatura do ensaio [18,36].
Nas Figura 74 a Figura 81 apresentam-se as curvas de polarizao potenciodinmica,

usando soluo simulativa dos poros do beto (SPS) com diferentes concentraes de
cloretos. Para maior facilidade de interpretao apresentam-se os resultados nas
representaes (ponto 4.3.1) e (ponto 4.3.2), onde representa a
densidade de corrente e o potencial aplicado.
A velocidade de polarizao para todas as curvas obtidas foi de 0.5 mV/s,

temperatura ambiente. Os potenciais foram medidos relativamente ao eltrodo de
referncia SCE.
4.3.1 Representao
Os grficos das Figura 74 a Figura 77 apresentam os resultados das curvas de

polarizao andica para cada estado de superfcie estudado, para vrias
concentraes de cloretos, em soluo SPS, a pH ~ 13.5. A Figura 74 mostra o
comportamento do ao, com polimento diamante (D), a Figura 75 o comportamento do
ao com polimento lixa 500 (P500), a Figura 76 o comportamento do ao sem polimento
(T) e a Figura 77 o comportamento do ao, com polimento diamante e oxidado
posteriormente (DH).
99
Condio D:

Figura 74: Curva de polarizao andica do ao, com polimento diamante (condio D), na soluo
SPS com diferentes concentraes de cloretos.
Na Figura 74 possvel observar que na ausncia de contaminao com cloretos (0%

Cl-), bem como na presena de 5% de cloretos, no intervalo -400 e 500 mV vs. SCE
nunca ocorre rotura do filme de passivao. No entanto, verifica-se aumentos bruscos
da intensidade de corrente quando a amostra se encontra em soluo SPS com 7% de
cloretos. Ou seja, medida que o teor de cloretos aumenta, observa-se, para os
teores de cloretos 7% e 10% de cloretos, aumentos bruscos da corrente que se
atribuem rotura do filme de passivao. Estes aumentos ocorrem para valores de
potencial mais baixos medida que o teor em cloretos aumenta.
100
Condio P500:

Figura 75: Curva de polarizao andica do ao, com polimento lixa 500 (condio P 500), na
soluo SPS com diferentes concentraes de cloretos.

nunca ocorre rotura do filme de passivao. No entanto, verifica-se aumentos bruscos
da intensidade de corrente quando a amostra se encontra em soluo SPS com 4% de
cloretos. Ou seja, medida que o teor de cloretos aumenta, observa-se, para os
teores de cloretos 4%, 5% e 10% de cloretos, aumentos bruscos da corrente que se
101
Condio T:

Figura 76: Curva de polarizao andica do ao, sem polimento (condio T), na soluo SPS com
diferentes concentraes de cloretos.

Cl-), no intervalo -400 e 500 mV vs. SCE, nunca ocorre rotura do filme de passivao.
No entanto, verifica-se aumentos bruscos da intensidade de corrente quando a
amostra se encontra em soluo SPS com 3% de cloretos. Ou seja, medida que o
teor de cloretos aumenta, observa-se, para os teores de cloretos 3%, 4%, 5% e 10%
de cloretos, aumentos bruscos da corrente que se atribuem rotura do filme de
passivao. Estes aumentos ocorrem para valores de potencial mais baixos medida
que o teor em cloretos aumenta.
102
Condio DH:
0,600
0,500
0,400
0,300
Potencial ( V) vs SCE
0,200
0% Cl
0,100
0,000 3% Cl
-0,100
5% Cl
-0,200
-0,300
-0,400
0,0 1,0 2,0 3,0 4,0 5,0 6,0 7,0
Intensidade de Corrente, A
Figura 77: Curva de polarizao andica da amostra oxidada (condio DH) na soluo SPS com
diferentes concentraes de cloretos.

nunca ocorre rotura do filme de passivao. No entanto, possvel observar aumentos
bruscos da intensidade de corrente quando a amostra se encontra em soluo SPS
com 5% de cloretos. Ou seja, medida que o teor de cloretos aumenta, observa-se,
para os teores de cloretos 5% de cloretos, aumentos bruscos da corrente que se
De uma maneira geral, verifica-se, para todas as condies estudadas, que ocorre a
formao de um filme de passivao no intervalo de potenciais de -400 a 500 mV vs.
SCE. Na ausncia de contaminao com cloretos (0% Cl-) no intervalo -400 e 500 mV
vs. SCE, para os vrios estados de superfcie (D, P 500, T e DH) nunca ocorre rotura do
filme de passivao. No entanto, medida que o teor de cloretos aumenta, observa-
se, para as vrias condies, aumentos bruscos da corrente que se atribuem rotura
do filme de passivao. Estes aumentos ocorrem para valores de potencial mais
baixos medida que o teor em cloretos aumenta.
A rotura do filme de passivao ser analisado em maior detalhe no ponto 4.3.2.
103
4.3.2 Representao
Nas Figura 78 a Figura 81 apresentam-se as curvas de polarizao obtidas usando

soluo simulativa dos poros do beto (SPS) com diferentes concentraes de
cloretos na representao .
Condio D:
Figura 78: Curvas de polarizao, da amostra com polimento diamante (condio D) em soluo
SPS, com diferentes concentraes de cloretos. (Representao ).
Para a condio D, Figura 78, verifica-se que o ao apresenta passividade com 0% e

5% de cloretos no intervalo desde Ecorr a 500 mV vs. SCE. Quando em soluo SPS
com 7% de cloretos o ao apresenta passividade at 450 mV vs. SCE, acima deste
potencial ocorre um aumento de corrente que se associa quebra do filme de
passivao. Por sua vez, quando a concentrao aumenta para valores de 10% de
cloretos, o intervalo de passivao diminui, ou seja, o ao apresenta passividade at
150 mV vs. SCE. Acima deste valor inicia-se a despassivao.
104
Condio DH:
Figura 79: Curvas de polarizao, da amostra pr-oxidada (condio DH) em soluo SPS, com
diferentes concentraes de cloretos. (Representao ).
Para a condio DH, Figura 79, verifica-se que o ao apresenta passividade com 0% e
3% de cloretos desde Ecorr at 500 mV vs. SCE. Quando em soluo SPS com 5% de
cloretos o ao apresenta passividade at 100 mV vs. SCE. Acima deste potencial
ocorre a quebra do filme de passivao.
105
Condio P500:
Figura 80: Curvas de polarizao, da amostra polida com uma lixa de granulometria 500 (condio
P500) em soluo SPS, com diferentes concentraes. (Representao ).
Para a condio P500, Figura 80, verifica-se que este apresenta passividade com 0% e
3% de cloretos desde Ecorr at 500 mV vs. SCE. Quando em soluo SPS com 4% de
cloretos, o ao apresenta passividade at 250 mV vs. SCE, acima deste potencial
ocorre um aumento de corrente que se associa quebra do filme de passivao.
Quando a concentrao aumenta para valores de 5% e 10% de cloretos o potencial de
passivao diminui, de 150 mV e 0 mV vs. SCE, respetivamente. Acima destes
potenciais inicia-se a despassivao.
106
Condio T:
Figura 81: Curvas de polarizao, da amostra que no sofreu polimento (tal e qual) (condio T)
em soluo SPS, com diferentes concentraes. (Representao ).
Para a condio T, Figura 81, verifica-se que em soluo SPS com 0% e 3% de

cloretos, o ao apresenta passividade at 200 mV vs. SCE. Para teores de cloreto de
4% e 5% o ao apresenta passividade at 250 mV e 300 mV vs. SCE, respetivamente.
Por sua vez, quando a concentrao aumenta para valores de 10% de cloretos este
apresenta passividade at 100 mV vs. SCE. Acima deste potencial ocorre a quebra do
filme de passivao.
Na Tabela 9 apresentam-se os valores da corrente de corroso (icorr) e do potencial de

corroso (Ecorr) retirados das curvas de polarizao (representao ) para as
diferentes condies de ensaio. possvel verificar, que o aumento da concentrao
de cloretos resulta num aumento da densidade de corrente de corroso (icorr) e na
diminuio do potencial de corroso (Ecorr).
107
Tabela 9: e para cada estado de superfcie em soluo SPS com diferentes

concentraes de cloretos.
Concentrao de
icorr Ecorr
Estado de Cloretos
Superfcie
(%) (A/cm2) (mV vs. SCE)
0 0,001 -298
5 0,035 -396
D
7 0,151 -459
10 0,437 -458
0 0,006 -309
DH 3 0,005 -348
5 0,063 -514
0 0,001 -343
3 0,002 -351
P500 4 0,017 -466
5 0,015 -420
10 0,023 -417
0 0,002 -317
3 0,012 -349
T 4 0,013 -401
5 0,029 -403
10 0,156 -447
Segundo os autores Andrade e Alonso. [76] e Song e Saraswathy [77], correntes de

corroso menores que 0.1 A/cm2 correspondem a um ao que est no estado
passivo. Quando a corrente de corroso se encontra entre 0.1 e 0.5 A/cm 2 este
apresenta uma velocidade de corroso baixa a moderada. Por sua vez, para valores
de corrente de corroso entre 0.5 e 1 A/cm 2, apresenta nveis de velocidade de
corroso moderada a alta e quando superior a 1 A/cm 2 a velocidade de corroso
muito elevada.
Das curvas de polarizao e dos respetivos parmetros de polarizao, verifica-se

para a condio D, ocorreu um aumento da densidade de corrente de 0.035 para
0.151 A/cm2, quando a concentrao de cloretos subiu de 5 para 7%, sendo j este
108
valor de 0.151 A/cm2 considerando como correspondendo a velocidade de corroso

baixa a moderada para [76] e [77].
Para as restantes condies estudadas s se obtiveram valores de icorr superiores a

0.1 A/cm2 no caso da condio T para 10% de cloretos no caso de pH de 13.5.
Os teores de cloretos, acima do qual ocorre rotura do filme de passivao no intervalo

entre Ecorr e 500 mV vs. SCE para os vrios estados de superfcie estudados, ,
pode ser observado na Tabela 10.
Tabela 10: Teor de cloretos, , acima do qual ocorre rotura do filme de passivao no intervalo
entre Ecorr e 500 mV vs. SCE para os vrios estados de superfcie estudados.

Estado de superfcie
(% Cl-)
D 5
P500 3
T 0
DH 3
Verifica-se, da Tabela 10, que o ao, em soluo simulativa dos poros do beto (SPS),
com pH ~ 13.5, apresenta maior resistncia a concentraes de cloretos para a
condio D e menor para a condio T, ou seja, o teor de cloretos acima do qual
ocorre a rotura do filme de passivao no intervalo Ecorr a 500 mV vs. SCE
sequenciada por D > DH > P500 > T.
A condio correspondente ao polimento com diamante (D) apresenta um valor de

muito superior ao da condio tal e qual (T). Estes resultados esto de acordo
com os obtidos por Boubitsas e Tang, Ghods et al., Mammoliti et al., Brown et al e
Mohammed e Hamada [4851], que concluram que a iniciao da corroso por picada
se deu a concentraes de cloretos superiores para superfcies polidas, em
comparao com superfcies com polimento suave ou nenhum.
109
Verifica-se que, tanto para a condio correspondente amostra que sofreu pr-
oxidao (DH) como para a condio P500 apresenta um valor de igual 3%. No
entanto, na condio DH, nas curvas de polarizao, com 5% de cloretos, verificam-se
aumentos bruscos de corrente de corroso, mas estes no so to elevados quanto a
condio P500 quando imersa em soluo com 4% de cloretos. Devido a este facto,
considera-se que DH apresenta uma melhor resistncia a cloretos que a condio P500.
Verifica-se, para a condio em que a amostra sofreu pr-oxidao (DH) que este
apresenta um valor de inferior amostra que sofreu polimento (D) e superior as
restantes condies (P500 e T). Visto que a diferena entre a D e D H a existncia ou
no de xidos a superfcie, visto que, DH apresenta um valor de inferior a D, tal
pode ser explicado atravs da existncia da camada de xidos, que poder no
conferir proteo ao ao quando a mesma apresenta uma camada espessa de
ferrugem que pode tornar difcil a formao de um filme de passivao superfcie do
ao por inexistncia de oxignio, o que poder diminuir a resistncia aos cloretos [78].
Por sua vez, a condio DH apresenta um valor de superior P500 e T, tal pode ser
explicado atravs da existncia de xidos superfcie que confere proteo ao ao, ou
seja, a camada de xidos poder aumenta a resistncia para a iniciao da corroso.
Este facto foi verificado tambm por Cox et al., Hansson e Sorensen, Mohammed e
Hamada [51,79,80].
Assim sendo, conclui-se que o estado de superfcie do ao tem uma elevada influncia
na iniciao da corroso no beto armado. Para um polimento de diamante existe uma
maior resistncia ao ataque de ies cloreto, o que pode ser explicado atravs da
formao de um filme de passivao com espessura uniforme superfcie do mesmo
e consequentemente, existe uma reduo de variabilidades e flutuaes nas
caractersticas eletroqumicas da superfcie, reduzindo a formao de pilhas
galvnicas superfcie do ao. Este facto, poder aumentar a vida til do beto
armado em ambientes com elevados teores de cloretos.
No entanto, aps reviso de algumas referncias bibliogrficas, verificou-se que para

alm do estado de superfcie, o pH da soluo simulativa no beto, tem um papel to
ou mais importante que o acabamento de superfcie do ao.
Assim, de modo a perceber a influncia do pH da soluo simulativa dos poros do

beto, fez-se um estudo adicional, para as mesmas condies de estado de superfcie
110
do ao, usando uma soluo simulativa de pH 11.6 com uma concentrao de cloretos
de 0, 1.5 e 3%.
Para a preparao de um litro de soluo, pesou-se 0.0833 g de NaOH e 0.233 g de

KOH, de acordo com Yu et al. [78].
Na Figura 82 podemos observar o comportamento da amostra de ao com polimento

de diamante (D) em soluo de pH 11.6, sem cloretos (0% Cl), com 1.5% e 3% de
cloretos. O comportamento apresentado idntico para os quatro estados de
superfcie (D, DH, P500 e T), visto que, a este pH, todas as amostras sofreram corroso,
independentemente do estado da superfcie, e no fim de cada experincia verificou-se
a formao de um precipitado verde (Figura 83). O precipitado verde um produto
intermedirio da interao do hidrxido de ferro (II) (Fe(OH) 2) com o oxignio, que
posteriormente, na presena de gua produz hidrxido de ferro (III) (Fe(OH)3) de cor
castanha [31].
possvel verificar, da Figura 82, que para o ao em soluo com 3% de cloretos, a

zona de passivao dificilmente observada e que a destruio do filme de
passivao quase imediata.
Da Tabela 11 verifica-se, tal como no caso das experiencias realizadas a pH ~ 13.5,

uma diminuio significativa de potencial de corroso (Ecorr) com o aumento da
concentrao de cloretos e num aumento na densidade de corrente de corroso (icorr).
Constata-se que este aumento de icorr e diminuio de Ecorr muito maior para pH
baixos, podendo concluir-se que com base nos valores de densidade de correntes
mais baixos, verificados na SPS de pH 13.5, que o ao tem uma melhor resistncia a
corroso neste valor de pH do que em condies de pH mais baixos (pH de 11.6).
Do mesmo modo que foi verificado anteriormente, o ao em soluo simulativa sem

cloretos apresenta valores de corrente de corroso de 0.015 A/cm2, inferiores a 0.1
A/cm2 e, quando a concentrao de cloretos aumenta para valores de 1.5% e 3%,
estes apresentam velocidades de corroso elevadas (corrente de corroso superior a
1 A/cm2), 1.24 e 1.79 A/cm 2, respetivamente. Deste modo, podemos concluir que o
pH da soluo porosa uma propriedade bastante importante, visto que para pH mais
elevados o ao apresenta melhor resistncia e, consequentemente, menores
velocidades de corroso.
111
Figura 82: Curvas de polarizao potenciodinmica do ao em soluo porosa, de pH 11.6, com

diferentes concentraes de ies cloreto.
Figura 83: Precipitado observado aps polarizao potenciodinmica das amostras em soluo
porosa com ies cloreto, de pH 11.6, onde A- vista lateral e B- vista superior.
112
Tabela 11: Parmetros de polarizao para o estado de superfcie em soluo simulativa de pH

11.6, com diferentes concentraes de cloretos.
Concentrao de
icorr Ecorr
Estado de Cloretos
Superfcie
(%) (A/cm2) (mV vs. SCE)
0 0.015 -213
D 1.5 1.24 -539
3 1.79 -584
Tal como verificado por Yu et al. [78], o aumento do pH da soluo SPS resulta num
aumento do teor crtico de cloretos para todos as condies de estado de superfcie
(pr-oxidadas e limpas com jato de areia (sandblasted)).
Foi demonstrado por Li e Sagues [46] que, um aumento do pH de 13.3 para 13.6 da
soluo porosa e com as mesmas condies de estado de superfcie (sandblasted e
tal-qual) resulta num aumento mnimo de 150% no teor crtico de cloretos.
Foi verificado por Zhang et al. [81] que, a passivao do ao facilitado pelo pH da
soluo simulativa, quanto maior o pH da soluo mais fcil a formao do filme de
passivao, enquanto que elevadas concentraes de cloretos levam a quebra do
filme de passivao a potenciais relativamente mais baixos.
Segundo Poursaee [56] a espessura do filme de passivao aumenta com o aumento

do pH e este aumento d uma elevada resistncia para a formao de novas picadas
volta de picadas existentes devido ao efeito inibidor dos ies hidrxido ( ) que
mais elevado a pH altos.
Deste modo, conclui-se que o estado de superfcie e o pH da soluo intersticial so

parmetros muito importantes a ter em conta na determinao do teor crtico de
cloretos.
113
4.4 Tcnica do eltrodo vibrante de varrimento

(SVET)
A SVET uma tcnica que mede o campo eltrico gerado pelos gradientes de
potenciais gerados por alteraes na superfcie em corroso. medida que o eltrodo
vibrante varre a superfcie da amostra num plano paralelo mesma, os valores de
diferena de potenciais obtidos so convertidos, pela lei de Ohm, em densidades de
corrente locais. Os valores medidos so funo da distribuio de correntes inicas
dos processos que ocorrem na superfcie [61].
As figuras abaixo, demonstram a evoluo da corroso do ao, com polimento

diamante, em soluo de hidrxido de sdio com diferentes concentraes de cloretos.
As medidas foram feitas ao fim de 5, 10, 15, 20 e 25 minutos de exposio do ao
soluo com concentraes de 0, 3, 5 e 7% de ies cloreto. A medio foi feita sempre
sobre a mesma rea, 1 mm 2.
Das Figura 84 a Figura 87, verifica-se que o aumento de teor de cloretos provoca um
aumento de zonas ativas. possvel observar a passivao de zonas ativas e
iniciao/formao de novas reas ativas. Como era de esperar, em soluo sem
cloretos no h a formao de zonas ativas.
A formao de zonas ativas quase imediata e a diminuio de correntes andicas

com o tempo pode ser explicado com a repassivao, enquanto as zonas catdicas
esto afetadas com a precipitao de produtos de corroso e consequentemente
provocam o mesmo resultado (diminuio de corrente) [62].
Verifica-se que existe um aumento de zonas ativas quando a concentrao de cloretos

superior a 3%. No entanto, para estas concentraes, estas repassivam
rapidamente, o mesmo no se verifica para concentraes de 5 e 7% de cloretos.
Quando comparamos o resultado obtido ao fim de 5 minutos, numa soluo sem

cloretos e com 3% de cloretos (Figura 84 e Figura 85), no se observam diferenas
significativas, no entanto com o decorrer do tempo, na soluo com 3% de cloretos
possvel observar algumas alteraes (zonas ativas) na superfcie do ao, sendo que
estas no so permanentes, mostrando existirem zonas em que se formam picadas
que rapidamente se repassivam. Como se verificou anteriormente, um pH elevado d-
114
nos uma elevada resistncia para a formao de novas picadas volta de picadas
existentes, visto que a espessura do filme de passivao aumenta com o aumento do
pH
Imagens SVET do ao, em soluo de hidrxido de sdio com 0% cloretos
Figura 84: Imagem SVET da zona de ao, 1x1 mm, em soluo sem cloretos, ao fim de 25 minutos.
115
5 min 10 min
15 min 20 min
25 min
116
5 min 10 min
15 min 20 min
25 min
117
5 min 10 min
15 min 20 min
25 min
118
Na Figura 88 possvel observar a superfcie da amostra de ao aps o ensaio da

tcnica SVET. Verifica-se a formao de produtos de corroso junto zona de
interface do ao-resina. Esta uma zona preferencial para a ocorrncia de corroso
uma vez que existem mais vazios e consequentemente maior disponibilidade de
oxignio.
Figura 88: Imagem ao microscpio tico da amostra que sofreu o ensaio, em soluo alcalina com
diferentes concentraes de cloretos, recorrendo a SVET.
119
4.5 Microscopia
4.5.1 Microscopia tica
Aps cada ensaio eletroqumico (polarizao potenciodinmica) as amostras foram

observadas em MO e realizados registos fotogrficos para determinar quais as zonas
preferenciais para a iniciao da corroso, de acordo com o estado de superfcie.
Verificou-se que as amostras ensaiadas nas mesmas condies apresentavam todas
aspetos semelhantes, pelo que s se apresentam algumas imagens a ttulo de
exemplo. No caso das amostras que sofreram pr-oxidao, registaram-se imagens
antes (Figura 93) e aps (Figura 94) da polarizao potenciodinmica. As mesmas
amostras foram posteriormente observados no MEV-EDS.
Na Figura 89 podemos observar duas das amostras de ao ensaiadas, uma polida

com lixa de granulometria 500 (imagem da esquerda) e outra com polimento diamante
(imagem da direita), aps polarizao potenciodinmica numa soluo SPS sem
cloretos. Verifica-se, para estes e para os outros estados de superfcie, a deposio de
um filme na superfcie da amostra, estando a superfcie lisa e sem sinais de corroso,
sugerindo que o ao se encontra em estado de passivao.
A B
Figura 89: Observao ao microscpio tico de uma amostra de ao, aps polarizao
potenciodinmica em soluo SPS com 0% de cloretos. A) com polimento 500 (P 500) ; B) polimento
diamante direita. Ampliao 10X.
Na Figura 90 podemos observar a imagem ao MO de uma amostra de ao, com

polimento diamante (D), aps polarizao potenciodinmica em soluo SPS
(pH~13.5) com 7% de cloretos. Onde possvel verificar a existncia de produtos de
corroso, confirmando assim os resultados obtidos das curvas de polarizao, em que
120
para um teor de 7% de ies cloreto ocorreu uma quebra do filme de passivao

durante a polarizao. possvel constatar que a corroso tem preferncia a iniciar-se
junto interface ao-resina e com uma exposio prolongada esta pode tornar-se
generalizada.
Figura 90: Observao ao microscpio tico de uma amostra de ao, com polimento diamante (D),
aps polarizao potenciodinmica em soluo SPS com 7% de cloretos. Com ampliao 7.5X
imagem esquerda e 15X direita.
Na Figura 91 podemos observar a imagem ao MO de uma amostra de ao, polida com

lixa de granulometria 500 (P500), aps polarizao potenciodinmica em soluo SPS
(pH~13.5) com 5% de cloretos. Onde possvel verificar a existncia de produtos de
corroso, em maior quantidade junto interface ao-resina, confirmando assim os
resultados obtidos das curvas de polarizao, em que para um teor de 5% cloretos
ocorreu a quebra do filme de passivao durante a polarizao.
Figura 91: Observao ao microscpio tico de uma amostra de ao, polida com lixa
granulomtrica 500 (P500), aps polarizao potenciodinmica em soluo SPS com 5% de
cloretos. Com ampliao 10X imagem esquerda e 15X direita.
121
Na Figura 92 podemos observar a imagem ao MO de uma amostra de ao, sem

polimento (T), aps polarizao potenciodinmica em soluo SPS (pH~13.5) com 5%
de cloretos. Onde possvel verificar a existncia de produtos de corroso em maior
quantidade junto interface ao-resina, confirmando assim os resultados obtidos das
curvas de polarizao, em que para um teor de 5% de cloretos ocorreu a quebra do
filme de passivao durante a polarizao.
Figura 92: Observao ao microscpio tico de uma amostra de ao, sem polimento (T), aps
polarizao potenciodinmica em soluo SPS com 5% de cloretos. Com ampliao 10X imagem
esquerda e 15X direita.
No caso das amostras que sofreram pr-oxidao (DH), registaram-se imagens antes
(Figura 93) e aps (Figura 94) da polarizao potenciodinmica em soluo SPS
(pH~13.5) com 5% de cloretos. Onde possvel verificar um aumento da quantidade
produtos de corroso na zona em que j existia corroso, ou seja, nas deformaes
superfcie, ao contrrio das outras condies, em que a corroso, em geral, tem
preferncia em iniciar-se junto interface ao-resina. Uma explicao possvel que
as deformaes superfcie so maiores que os vazios encontrados junto interface
ao-resina e estas deformaes, servem como locais de preferncia para a nucleao.
Tambm a existncia de produtos de corroso superfcie favorecem a acumulao
de ies cloretos e consequentemente a formao de uma clula de arejamento
diferencial na zona de contacto, levando a continuao da oxidao.
122
Figura 93: Observao ao microscpio tico de uma amostra de ao, que sofreu pr-oxidao (DH),
antes da polarizao potenciodinmica em soluo SPS com 5% de cloretos. Com ampliao 10X
Figura 94: Observao ao microscpio tico de uma amostra de ao, que sofreu pr-oxidao (DH),
aps polarizao potenciodinmica em soluo SPS com 5% de cloretos. Com ampliao 10X
De uma forma geral, nas vrias observaes, verifica-se que a corroso se inicia em
zonas caractersticas, tais como junto interface ao-resina ou nas heterogeneidades
existentes superfcie do ao, que atuam como locais preferenciais de nucleao,
sendo que esta pode tornar-se generalizada com uma exposio prolongada aos ies
cloreto.
123
4.5.2 Microscopia eletrnica de varrimento

(MEV-EDS)
De modo a confirmar os resultados obtidos por polarizao potenciodinmica, a

morfologia da superfcie das amostras foi examinada por MEV-EDS.
As amostras foram observadas em modo de eletres secundrios (ES) e em modo de

eletres retrodifundidos (ER), com a mesma escala, de modo a complementar as
observaes efetuadas. Foram observadas zonas com e sem corroso visvel ao
microscpio tico.
Da anlise MEV-EDS, podemos verificar que a corroso se inicia preferencialmente na

zona de interface ao-resina, visto que nessa zona existem fendas e vazios, condies
favorveis ocorrncia de corroso intersticial. Com uma exposio prolongada aos
ies cloretos esta propaga-se e torna-se generalizada.
Dos espetros EDS possvel observar a existncia de ouro (Au), mangans (Mn) e
carbono (C) em todos os espetros, o ouro advm do recobrimento que feito antes da
anlise (como referido no ponto 3.7). Por sua vez, o mangans (Mn) e o carbono (C),
proveem da constituio do ao, como se pode verificar no EDS 1 e 2 marcados na
imagem do ao da Figura 95. Para alm disso, possvel verificar a existncia de ferro
(Fe) em todos os espetros, este advm da constituio do prprio ao e, quando, na
existncia de oxignio (O) este provem dos xidos. A quantidade de oxignio (O) nos
espetros depende da quantidade de xidos existentes na superfcie analisada. Para
alm destes, possvel verificar a existncia de cloro (Cl), sdio (Na), potssio (K) e
clcio (Ca) nalguns espetros, estes advm da soluo SPS.
Nas Figura 95 a Figura 97 possvel observar micrografias da superfcie do ao, com

polimento diamante (D), aps polarizao potenciodinmica em soluo SPS com 7%
de cloretos e respetivos espetros EDS, onde possvel constatar que a corroso se
inicia geralmente junto interface ao-resina (Figura 95 e Figura 96). Na Figura 97
possvel verificar a existncia de fendas e vazios na calamina (referenciado com o
ponto 1 na figura), em que a existncia destas heterogeneidades pode levar a
acumulao de ies cloreto e, consequentemente, a iniciao do processo corrosivo
(corroso intersticial).
124
Em zonas onde no se observa corroso a olho n nem ao microscpio tico, quando

observadas ao MEV-EDS, verifica-se que existe acumulao de cloretos em fendas
(junto interface) e em algumas zonas possvel observar a existncia de produtos
de corroso.
Nas Figura 98 a Figura 103 possvel observar micrografias da superfcie do ao,

polida com lixa de SiC de granulometria 500 (P 500), aps polarizao potenciodinmica
em soluo SPS com 5% de cloretos e respetivos EDS. Nas Figura 98 a Figura 100
possvel verificar que a corroso tem preferncia para se iniciar junto a interface ao-
resina, sendo este o local onde se verifica maior perda de material. No entanto, devido
ao polimento uniforme/homogneo existe uma maior facilidade de deposio de
cloretos (bem como outros constituintes da SPS) superfcie de uma forma
homognea, o que pode levar a posterior oxidao homognea da superfcie, como se
pode verificar na Figura 101 e Figura 102. Ou seja, para um polimento com lixa de
granulometria 500 (P500), em que existem deformaes uniformes (traos contnuos e
uniformes provenientes do polimento), existe a deposio uniforme nos interstcios de
ies cloretos, que com o tempo e com acumulao nos mesmos levam a oxidao
uniforme da superfcie do ao, podendo levar a corroso generalizada.
Nas Figura 104 a Figura 110 possvel observar micrografias da superfcie do ao,
sem polimento (T), aps polarizao potenciodinmica em soluo SPS com 5% de
cloretos e respetivos EDS. Onde nas amostras tal e qual (T), existe maior
concentrao de cloretos nos defeitos encontrados no ao (Figura 106 e Figura 107).
Estes defeitos superfcie do ao atuam como locais preferenciais de nucleao. Para
alm das heterogeneidades existentes na superfcie do ao, do mesmo modo que para
as outras condies de estado de superfcie, a zona de interface ao-resina uma
zona preferencial para a iniciao de corroso (Figura 104, Figura 105, Figura 108 e
Figura 109).
Na Figura 110 possvel verificar a estrutura cristalina dos produtos de corroso, bem
como a combinao deste com os componentes existentes na SPS (Na, K, Ca).
Nas amostras tal e qual (T) verificou-se a existncia de alumnio, este provm do
disco de corte (Figura 106 e Figura 107).
Nas amostras que sofreram pr-oxidao (DH), Figura 111 a Figura 118, verifica-se
uma combinao dos xidos existentes com elementos da soluo simulativa dos
poros do beto (SPS). Esta combinao facilitada pela estrutura cristalina dos xidos
125
(Figura 118). A existncia de vazios na superfcie (Figura 111, Figura 113 e Figura
114) provoca diferenas na disponibilidade de oxignio entre a superfcie e as zonas
adjacentes, cobertas com produtos de corroso, que so suscetveis em favorecer a
acumulao de ies cloretos e consequentemente a formao de uma clula de
arejamento diferencial na zona de contacto, levando a continuao da oxidao [19].
Na Figura 115 e Figura 116 possvel verificar a deposio de constituintes da SPS a

superfcie do ao, onde se verifica que existe uma maior quantidade de ies cloreto na
zona com mais xidos, em comparao com a zona com menos xidos porosos que
tem constituintes da SPS (K, Na e Ca), isto porque os cloretos penetram mais
facilmente at ao ao atravs dos poros ou defeitos no filme de passivao, em
comparao aos outros ies. Os cloretos, mesmo em condies de elevada
alcalinidade podem danificar as armaduras, isto porque estes s participam na reao
e no so consumidos no processo de corroso, formando um xido expansivo, sendo
posteriormente libertados e assim permanecendo disponveis para participar em novas
reaes [16,19].
Para alm disso, a existncia da camada de xidos porosa superfcie do ao (Figura

117 e Figura 118), composta por produtos de corroso e remanescentes do filme de
passivao, reduzem significativamente o transporte mssico para dentro e para fora
da picada, criando um meio interno cido e agressivo, levando continuao da
corroso. Este facto pode ser explicado atravs da diferena de potencial conferido
pelas diferenas de pH entre o exterior e o interior da picada [18].
De um modo geral, o estado de superfcie do ao e a presena de vazios na interface

ao-resina ou ao-beto podem ser considerados como os fatores mais importantes
ou influentes no desenvolvimento de gradientes de potencial ao longo da superfcie do
ao. Conclui-se que a iniciao da corroso, preferencialmente em zonas com
deformaes na calamina e em locais com vazios ou deformaes superfcie do ao,
o que est de acordo com Ghods et al [57], que verificaram que sem a existncia da
calamina e consequentemente, dos defeitos desta, a corroso teria maior dificuldade
em iniciar-se.
126
Condio D:
Figura 95: Micrografia da superfcie do ao em modo ER, com polimento diamante (D), aps
polarizao potenciodinmica em soluo SPS com 7% de cloretos e respetivos espetros EDS
correspondentes a zona marcada na imagem.
127
A B
Figura 96: Micrografia da superfcie do ao, onde A - modo ER, B- modo ES e C- zona ampliada de
B, com polimento diamante (D), aps polarizao potenciodinmica em soluo SPS com 7% de
cloretos e respetivos espetros EDS correspondentes a zona marcada na imagem.
128
A B
Figura 97: Micrografia da superfcie do ao, onde A - modo ER e B- modo ES, com polimento
diamante (D), aps polarizao potenciodinmica em soluo SPS com 7% de cloretos e
respetivos espetros EDS correspondentes a zona marcada na imagem.
129
Condio P500
B C
Figura 98: Micrografia da superfcie do ao, com A) a imagem ao microscpio tico com B)
correspondente a imagem em modo ER e C) em modo ES da imagem em A, polida com lixa de
granulometria 500 (P500), aps polarizao potenciodinmica em soluo SPS com 5% de cloretos
e respetivos espetros EDS correspondentes a zona marcada na imagem.
130
Figura 99: Micrografia da superfcie do ao, em modo ES, polida com lixa de granulometria 500
(P500), aps polarizao potenciodinmica em soluo SPS com 5% de cloretos e respetivos
espetros EDS correspondentes a zona marcada na imagem.
131
132
Figura 101: Micrografia da superfcie do ao, em modo ER, polida com lixa de granulometria 500
133
134
135
Condio T:
B C
Figura 104: Micrografia da superfcie do ao, com A) a imagem ao microscpio tico com B)
correspondente a imagem em modo ER e C) em modo ES da imagem em A, sem polimento (T),
aps polarizao potenciodinmica em soluo SPS com 5% de cloretos.
136
Figura 105: Micrografia da superfcie do ao, com A) imagem em modo ER e B) em modo ES, sem
polimento (T), aps polarizao potenciodinmica em soluo SPS com 5% de cloretos e
137
Figura 106: Micrografia da superfcie do ao, em modo ER, sem polimento (T), aps polarizao
potenciodinmica em soluo SPS com 5% de cloretos e respetivos espetros EDS
138
A B
139
A B
140
Figura 109: Micrografia da superfcie do ao, em modo ER, sem polimento (T), aps polarizao
141
Figura 110: Micrografia da superfcie do ao, em modo ES, sem polimento (T), aps polarizao
142
Condio DH:
Figura 111: Micrografia da superfcie do ao, em modo ES, polida e pr-oxidada (DH), aps
143
Figura 112: Micrografia da superfcie do ao, A) em modo ER e B) em modo ES, polida e pr-
oxidada (DH), aps polarizao potenciodinmica em soluo SPS com 5% de cloretos e respetivos
144
A B
145
146
147
148
149
150
Captulo V
Consideraes Finais
Captulo V Consideraes Finais
Consideraes Finais
Com o presente trabalho pretendeu-se contribuir para o conhecimento da influncia do

estado de superfcie/oxidao do ao das armaduras no teor crtico de cloretos (C Crit).
Dos estudos eletroqumicos em amostras de ao impregnadas em resina epoxdica

com diferentes estados de superfcie: tal e qual (T), espelhada (D), polida (P500) e
pr-oxidada (DH), verificou-se, no potencial em circuito aberto, uma diminuio de
potencial com o aumento da concentrao de cloretos, o que est de acordo com os
resultados publicados por vrios autores que indicam que decrscimos significativos
de potencial so indicativos da iniciao da corroso por picada, devido a
despassivao local do filme de passivao.
Como seria tambm espectvel, verificou-se que o aumento da concentrao de

cloretos resulta num aumento na densidade de corrente de corroso (icorr) e na
diminuio do potencial de corroso (Ecorr).
Das curvas de polarizao potenciodinmica verificou-se que o ao em soluo

simulativa dos poros do beto (SPS), com pH ~ 13.5, apresenta maior resistncia a
concentraes de cloretos para a condio D e menor para a condio T, ou seja, o
teor de cloretos acima do qual se inicia a formao de picadas no intervalo Ecorr a 500
mV vs. SCE sequenciada por D > DH > P500 > T. Para a condio D o teor de cloretos
necessrios para a rotura do filme de passivao superior a 5% de ies cloreto, para
DH superior a 3%, para P500 superior a 3 e inferior a 4% e, para T, o teor de
cloretos superior 0%. A condio correspondente ao polimento com diamante (D)
apresenta maior resistncia corroso do que a tal e qual (T). Estes resultados
esto de acordo com os obtidos por Boubitsas e Tang, Ghods et al., Mammoliti et al.,
Brown et al e Mohammed e Hamada [4851], que concluram que a iniciao da
corroso por picada se deu a concentraes de cloretos superiores para superfcies
polidas, em comparao com superfcies com polimento suave ou nenhum.
Verificou-se, tambm, que as amostras que sofreram pr-oxidao (DH) apresentam
uma resistncia corroso inferiores as amostras que sofreram polimento diamante
(D) e superiores s amostras preparadas nas condies P500 e T. Verificou-se, para a
condio com pr-oxidao (DH) que o ao apresenta um valor de inferior ao das
amostras que sofreram polimento diamante (D), mas superiores as restantes
condies (P500 e T). Visto que a diferena entre a D e D H a existncia ou no de
152
xidos a superfcie, e visto que, DH apresenta um valor de inferior a D, tal pode

ser explicado atravs da existncia da camada de xidos, que poder no conferir
proteo ao ao quando a mesma apresenta uma camada espessa de xidos que
podem tornar difcil a formao de um filme de passivao superfcie do ao por
inexistncia de oxignio, o que poder diminuir a resistncia aos cloretos [78]. Por sua
vez, a condio DH apresenta um valor de superior a T e igual a P500 e, onde
verificou-se que, a condio correspondente amostra que sofreu pr-oxidao (DH)
como para a condio P500 apresenta um valor de igual a 3%. No entanto, na
condio DH, nas curvas de polarizao, com 5% de cloretos, verificam-se aumentos
bruscos de corrente de corroso, mas estes no so to elevados quanto a condio
P500 quando imersa em soluo com 4% de cloretos. Devido a este facto, considera-se
que DH apresenta uma melhor resistncia a cloretos que a condio P 500. Tal pode,
tambm, ser explicado atravs da existncia de xidos superfcie que confere
proteo ao ao, ou seja, a camada de xidos poder aumentar a resistncia para a
iniciao da corroso. Este facto foi verificado tambm por Cox et al., Hansson e
Sorensen, Mohammed e Hamada [51,79,80].
Assim sendo, conclui-se que o estado de superfcie do ao tem uma elevada influncia
na iniciao da corroso no beto armado. Para um polimento de diamante existe uma
maior resistncia ao ataque de ies cloreto, o que pode ser explicado atravs da
formao de um filme de passivao com espessura uniforme superfcie do mesmo
e consequentemente, existe uma reduo de variabilidades e flutuaes nas
caractersticas eletroqumicas da superfcie, reduzindo a formao de pilhas
galvnicas superfcie do ao. Este facto, poder aumentar a vida til do beto
armado em ambientes com elevados teores de cloretos, visto que uma amostra polida
apresenta maior resistncia a maiores concentraes de cloretos que uma que
apresente heterogeneidades a superfcie.
Verificou-se que, para alm do estado de superfcie do ao, o pH da soluo

simulativa dos poros do beto tambm um parmetro bastante importante.
Constatou-se que o aumento de icorr e diminuio de Ecorr muito maior para pH 11.6,
podendo concluir-se, com base nos valores de densidade de correntes mais baixos
verificados na SPS de pH 13.5, que o ao tem uma melhor resistncia a corroso
neste valor de pH do que em condies de pH mais baixos (pH de 11.6). Este facto
poder ser explicado com a espessura do filme de passivao que aumenta com o
aumento do pH, h uma elevada resistncia para a formao de novas picadas volta
de picadas existentes devido ao efeito inibidor dos ies hidrxido ( ) que mais
153
elevado a pH altos [56]. Deste modo, podemos concluir que o pH da soluo porosa
uma propriedade bastante importante, visto que para pH mais elevados o ao
apresenta melhor resistncia e, consequentemente, menores velocidades de corroso.
Da tcnica SVET verificou-se que a formao de zonas ativas quase imediata para
teores de cloretos elevados a pH ~ 13.5 e a diminuio de correntes andicas com o
tempo pode ser explicado com a repassivao, enquanto as zonas catdicas esto
afetadas com a precipitao de produtos de corroso e consequentemente provocam
o mesmo resultado (diminuio de corrente) [62]. Verificou-se um aumento de zonas
ativas quando a concentrao de cloretos superior a 3%. No entanto, para estas
concentraes, estas repassivam rapidamente, o mesmo no se verifica para
concentraes de 5 e 7% de cloretos. Quando comparados os resultados obtidos ao
fim de 5 minutos, numa soluo sem cloretos e com 3% de cloretos, no se
observaram diferenas significativas, no entanto com o decorrer do tempo, na soluo
com 3% de cloretos observaram-se algumas alteraes (zonas ativas) na superfcie do
ao, sendo que estas no so permanentes, mostrando existirem zonas em que se
formam picadas que rapidamente se repassivam.
Aps cada ensaio eletroqumico as amostras foram observadas e realizados registos

fotogrficos de modo a perceber quais as zonas preferenciais para a iniciao da
corroso, de acordo com o estado de superfcie. Verificou-se que as amostras
ensaiadas nas mesmas condies apresentavam todos aspetos semelhantes, mas a
corroso tende a iniciar-se em zonas caractersticas, tais como junto interface ao-
resina, sendo que esta pode tornar-se generalizada com uma exposio prolongada
aos ies cloreto.
Em zonas onde no se observa corroso a olho n nem ao microscpio tico, quando

observadas ao MEV-EDS, verifica-se que existe acumulao de cloretos em fendas
(junto interface) e em algumas zonas possvel observar a existncia de produtos
de corroso, embora em pequena quantidade.
Por MEV-EDS verificou-se, tambm, que a corroso se inicia preferencialmente na

zona de interface ao-resina, visto que nessa zona existem fendas e vazios, condies
favorveis ocorrncia de corroso intersticial. Com uma exposio prolongada aos
ies cloretos esta propaga-se e torna-se generalizada. Ghods et al [57], verificou que,
sem a existncia da calamina, e, consequentemente, dos defeitos desta, a corroso
teria maior dificuldade em iniciar-se.
154
Verificou-se que, em condies em que o ao sofreu um polimento

uniforme/homogneo existia uma maior facilidade de deposio de cloretos (bem
como outros constituintes da SPS) superfcie de uma forma homognea, o que pode
levar a posterior oxidao homognea da superfcie. Ou seja, para um polimento com
lixa de granulometria 500 (P500), em que existem deformaes uniformes (traos
contnuos e uniformes provenientes do polimento), existe a deposio uniforme nos
interstcios de ies cloretos, que com o tempo e com acumulao nos mesmos levam
a oxidao uniforme da superfcie do ao, podendo levar a corroso generalizada.
Nas amostras tal e qual (T), verificou-se uma maior concentrao de cloretos nos
defeitos induzidos pelo corte no ao. Estes defeitos superfcie do ao atuam como
locais preferenciais de nucleao. Para alm das deformaes existentes na superfcie
do ao, do mesmo modo que para as outras condies de estado de superfcie, a zona
de interface ao-resina uma zona preferencial para a iniciao de corroso.
Nas amostras que sofreram pr-oxidao (DH), verificou-se uma combinao dos
xidos existentes com elementos da soluo simulativa dos poros do beto (SPS).
Esta combinao facilitada pela estrutura cristalina dos xidos. A existncia de
vazios na superfcie provoca diferenas na disponibilidade de oxignio entre a
superfcie e as zonas adjacentes, cobertas com produtos de corroso, que so
suscetveis em favorecer a acumulao de ies cloretos e consequentemente a
formao de uma clula de arejamento diferencial na zona de contacto, levando a
continuao da oxidao [19].
Para alm disso, a existncia da camada de xidos porosa superfcie do ao,

composta por produtos de corroso e remanescentes do filme de passivao, reduzem
significativamente o transporte mssico para dentro e para fora da picada, criando um
meio interno cido e agressivo, levando continuao da corroso. Este facto pode
ser explicado atravs da diferena de potencial conferido pelas diferenas de pH entre
o exterior e o interior da picada [18].
Assim sendo, conclui-se que o estado de superfcie e o pH da soluo intersticial so

parmetros muito importantes a ter em conta na determinao do teor crtico de
cloretos no beto armado. Em termos prticos, para alm do estado de oxidao do
ao, um pH baixo dos poros do beto, conferido pela utilizao de diferentes tipos de
cimentos, pode conferir menor capacidade de resistncia corroso do ao no beto
por ao dos ies cloreto.
155
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162

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ISEL

INSTITUTO SUPERIOR DE ENGENHARIA DE LISBOA

Teor crtico de cloretos para iniciao da corroso do

Trabalho Final de Mestrado para obteno do grau de Mestre

Um agradecimento especial famlia que compe o Ncleo de Materiais Metlicos do

Um sincero e especial obrigado Paula Melo, pelo apoio incansvel ao longo da

Como no poderia deixar de ser, um Obrigado minha Famlia e Amigos, em especial

Obrigado aos Colegas e Amigos Iselianos, pela amizade, companheirismo e ajuda

MUITO OBRIGADO A TODOS VS!

Os ensaios eletroqumicos foram realizados numa soluo que simula a soluo

Por MEV/EDS e MO verificou-se que a corroso se inicia, frequentemente, na zona de

Palavras-Chave: Corroso no beto armado, Polarizao potenciodinmica, Soluo

The reinforcement corrosion in concrete is the main cause of degradation of reinforced

Keywords: Corrosion in reinforced concrete, Potentiodynamic polarization, Simulative

Abstract ............................................................................................................................ III

ndice de Figuras ............................................................................................................ VII

ndice de Tabelas ...........................................................................................................XV

Lista de Abreviaturas .................................................................................................... XVI

Reviso Bibliogrfica ........................................................................................................ 2

1.2 Constituintes do beto ........................................................................................... 5

1.2.1 Cimento .............................................................................................................. 5

1.2.2 Agregados .......................................................................................................... 8

1.2.3 gua de amassadura ....................................................................................... 10

1.2.4 Adjuvantes ....................................................................................................... 11

1.3 Fabrico de beto .................................................................................................. 12

1.4 Trabalhabilidade .................................................................................................. 14

1.5 Armaduras para beto armado ........................................................................... 15

1.6 Corroso no beto armado ................................................................................. 17

1.6.1 Tipos de corroso ............................................................................................ 28

1.6.1.1 Corroso induzida por cloretos .................................................................... 30

Corroso por picada ................................................................................................... 32

Corroso intersticial .................................................................................................... 35

1.6.1.2 Corroso induzida por carbonatao........................................................... 36

1.7 Fatores que influenciam o teor crtico de cloretos () .................................. 38

Estado de superfcie do ao ....................................................................................... 40

1.8 Influncia dos xidos no teor crtico de cloretos ................................................. 45

2.2 Mtodos eletroqumicos ...................................................................................... 49

2.2.1 Potencial de corroso ...................................................................................... 49

2.2.2 Polarizao potenciodinmica ......................................................................... 50

2.2.3 Tcnica do eltrodo vibrante de varrimento (SVET) ....................................... 56

2.2.4 Microscopia tica ............................................................................................. 62

2.2.5 Microscopia eletrnica de varrimento (MEV) .................................................. 63

2.3 Preparao metalogrfica ................................................................................... 67

Seleo da amostra e escolha do local da amostra a observar seccionamento da

Ataque qumico (contrastao) .................................................................................. 74

3 Procedimento Experimental ...................................................................................... 77

3.1 Introduo ............................................................................................................ 77

3.2 Reagentes e auxiliares ........................................................................................ 78

3.3 Material ................................................................................................................ 78

3.5 Procedimento Experimental ................................................................................ 83

3.5.1 Preparao das amostras................................................................................ 83

3.5.2 Preparao das solues ................................................................................ 85

3.5.3 Identificao das amostras para ensaio .......................................................... 87

3.6 Estudos Eletroqumicos ....................................................................................... 88

3.6.1 Polarizao Potenciodinmica (curvas de polarizao) ................................. 88

3.6.2 SVET ................................................................................................................ 89

3.7 Observao ao microscpio eletrnico de varrimento (MEV) ............................ 92

Apresentao e Discusso de Resultados .................................................................... 93

4. Apresentao e Discusso de Resultados ............................................................... 94

4.2 Monitorizao do potencial em circuito aberto (E OC) .......................................... 94

4.3 Polarizao Potenciodinmica ............................................................................ 99

4.3.1 Representao ....................................................................................... 99

4.3.2 Representao .............................................................................. 104

4.4 Tcnica do eltrodo vibrante de varrimento (SVET) ........................................ 114