Volume 15, Oktober 2013 ISSN 1411-1349

SIMULASI KURVA PASCHEN PADA PLASMA ENHANCE

CHEMICALLY VAPOUR DEPOSITION (CVD) UNTUK APLIKASI
DEPOSISI DIAMOND-LIKE CARBON (DLC) COATING
Alfia Hanim*, Emy Mulyani**, Tjipto Sujitno**
*Ilmu Fisika FMIPA Universitas Gadjah Mada
**Pusat Teknologi Akselerator dan Proses Bahan (PTAPB), Badan Tenaga Nuklir Nasional (BATAN)
E-mail: emymulya@batan.go.id

ABSTRAK
SIMULASI KURVA PASCHEN PADA PLASMA ENHANCE CHEMICALLY VAPOUR DEPOSITION (CVD)
UNTUK APLIKASI DIAMOND-LIKE CARBON (DLC). Kurva Paschen gas argon-metana menjadi penting
untuk diketahui karena menjadi acuan pada saat pengoperasian sistem plasma CVD untuk aplikasi DLC.
Penentuan kurva Paschen secara semi empirik dilakukan dengan program Matlab. Eksperimen menggunakan gas
argon-metana (ArCH4) dengan komposisi campuran gas argon 63% dan metana 37% mendapatkan data tegangan
dadal, tekanan gas serta jarak antar elektroda. Data tersebut digunakan sebagai masukan pada program Matlab,
hasil keluaran program Matlab berupa kurva Paschen dengan range variabel yang lebih luas dibandingkan data
hasil ekperimen.
Kata Kunci: simulasi, kurva Paschen, argon-metana, plasma CVD, DLC

ABSTRACT
PASCHEN CURVE SIMULATION ON PLASMA ENHANCE CHEMICALLY VAPOUR DEPOSITION (CVD)
FOR DIAMOND-LIKE CARBON (DLC) APPLICATION. Paschen curve of argon-methane gas is important to
be known as a reference when operating the plasma CVD system for DLC applications. Determination of semi-
empirical Paschen curve was carried out using Matlab program. The experiment was done with composition of
63% argon and 37% methane, the information such as gas pressure, breakdown voltage and also distance between
the electodes were recorded. This data is used as an input on Matlab matlab program, then the output is Paschen
curve with more variable range than Paschen curve from experiment.
Keywords: simulation, Paschen curve, argon-methane, plasma CVD, DLC

PENDAHULUAN dibandingkan dengan suhu yang dibutuhkan dalam

proses termokimia. Pada proses deposisi dengan

D iamond-like carbon (DLC) merupakan kondisi

metastabil dari karbon amorf yang
mengandung fraksi yang signifikan dari ikatan
sp3 (struktur intan) dan ikatan sp2 (struktur grafit)[1],
memiliki kekerasan mekanik yang tinggi, inertness
kimia, transparansi optik dan memiliki band gap
semikonduktor yang lebar. DLC film memiliki aplikasi
luas sebagai lapisan pelindung di berbagai bidang
seperti penyimpanan disk magnetik, bagian mobil,
pelapis biomedis dan sebagai perangkat mikro-
elektromekanis (MEMS)[2]. DLC dapat dideposisikan
menggunakan physically vapour deposition (PVD) dan
plasma enhance chemically vapour deposition (plasma
CVD)[1]. Sifat DLC yang dihasilkan bergantung pada
metode deposisi, jenis gas dan keadaan deposisi.
Plasma CVD merupakan proses deposisi
menggunakan bantuan plasma untuk meningkatkan
reaksi kimia yang terjadi pada suatu bahan.
Penggunaan plasma pada metode plasma CVD
mengijinkan suhu deposisi menjadi lebih rendah
plasma CVD harus diperhatikan beberapa parameter
yang berpengaruh yaitu jenis dan tekanan gas, suhu,
tegangan serta geometri tabung reaktor plasma.
PTAPB telah mengembangkan rancangbangun
plasma double chamber yang prototipnya akan selesai
pada tahun 2014. Dalam rangka uji fungsi maka perlu
dilakukan pengendalian terhadap keadaan deposisi
untuk mengembangkan teknik deposisi dan
pengoptimalan sifat DLC yang dihasilkan. Pada
penelitian ini dilakukan optimasi parameter proses
terbentuknya plasma yaitu dengan mengetahui kurva
Paschen dari campuran gas yang digunakan (Argon-
Metana). Kurva Paschen merupakan kurva yang
menunjukkan perubahan tegangan dadal gas sebagai
fungsi jarak elektroda dan tekanan gas[3]. Nilai
tekanan dan tegangan dadal minimum yang diperoleh
melalui eksperimen kemudian disimulasikan dengan
software Matlab sehingga menghasilkan kurva Paschen
yang merupakan kurva semi-empiris hubungan
perubahan tekanan gas terhadap tegangan dadal gas

SIMULASI KURVA PASCHEN PADA PLASMA ENHANCE 95

CHEMICALLY VAPOUR DEPOSITION (PLASMA CVD)
UNTUK APLIKASI DEPOSISI DIAMOND-LIKE CARBON
(DLC) COATING
Alfia Hanim, Emy Mulyani, Tjipto Sujitno
Volume 15, Oktober 2013 ISSN 1411-1349

tersebut. Dengan diketahuinya kurva Paschen secara I = I 0 exp (d ) (3)

semi-empiris tersebut maka akan diperoleh gambaran
yang lebih jelas terkait pengaturan tegangan, jarak dengan I0 adalah arus awal pada katoda. Jika proses
elektroda dan tekanan gas pada proses pembentukan tumbukan elektron terjadi berulang-ulang maka total
plasma. elektron yang mencapai anoda dinyatakan oleh [3]

TEORI I 0 exp (d ) (4)

Jika terdapat sepasang elektroda terpisah pada
jarak d dan terhubung dengan medan listrik E = V d
(Gambar 1) maka elektron primer yang terletak di
dekat katoda akan membawa arus awal sebesar i0.
I =
1 [exp (d ) 1]
dengan adalah koefisien ionisasi kedua Townsend.
Saat jarak d semakin lebar maka penyebut pada
persamaan (4) akan sama dengan nol, sehingga

[exp (d ) 1] = 1 . (5)

Persamaan (5) disebut sebagai dadal Townsend

dengan d = ln (1 + 1) . Secara semi-empiris [4] dapat
dinyatakan bahwa = pAi exp( Bi p E ) dengan A, B
adalah konstanta dan indek i adalah kondisi gas
tertentu, sehingga
B p
ln 1 + 1 = pdAi exp( i ), (6)
Gambar 1. Susunan elektroda untuk Town- E

ln ln 1 + 1 = ln ( pdAi ) i
send discharge[3]. B p
E

Berdasarkan Gambar 1 jika diasumsikan n0

elektron diemisikan dari katoda dan ketika satu
elektron bertumbukan dengan partikel netral, maka
akan terbentuk ion positif dan elektron yang disebut
sebagai proses ionisasi tumbukan dengan (koefisien
ionisasi Townsend) adalah rata-rata jumlah ionisasi
tumbukan pertama yang dilakukan oleh elektron per
cm ( bergantung pada tekanan gas p dan E/p). Pada
jarak x dari katoda, jumlah elektron menjadi nx. Ketika
nx elektron bergerak menempuh jarak dx maka akan
terbentuk nxdx elektron. Ketika x=0, nx=n0 dan
dn x dx = n x ; atau n x = n0 exp(x ) maka jumlah
elektron yang mencapai anoda (x=d) dinyatakan oleh
nd = n0 exp (d ) (1)
. menunjukkan bahwa tegangan dadal merupakan fungsi
Jumlah rata-rata elektron baru yang dihasilkan
oleh tiap elektron dinyatakan oleh
Pada kondisi medan gap yang tidak seragam
dan potensial Laplace (yaitu ketika medan yang
dihasilkan oleh elektron dan ion pada gap lebih kecil
dibandingkan dengan medan listrik yang diberikan,
2 = 0 ) maka E = V/d, dengan substitusi E pada
persamaan (6) diperoleh [3]
VBD =
Bi pd
(7)
ln ( pdA1 ) ln ln 1 + 1
j
dengan VBD adalah tegangan dadal. Persamaan (7)
menunjukkan hubungan antara V dan pd, dan
tekanan dan jarak antar elektroda (pd). Parameter A
dan B untuk jenis gas yang berbeda pada E/p = 30-500
V/cmTorr dapat dilihat pada Tabel 1.

exp (d ) 1 =
nd n0 (2) Persamaan (7) dikenal sebagai hukum Paschen
n0 yang telah digunakan untuk eksperimen berbagai
sehingga rata-rata arus pada gap, yang merupakan macam isian gas. Kurva Paschen untuk berbagai isian
jumlah elektron bergerak perdetik dinyatakan oleh gas ditunjukkan pada Gambar 2.

Tabel 1. Parameter A dan B pada perhitungan koefisien Townsend secara semi-empiris.[4]

Gas A (cmTorr)-1 B Gas A (cmTorr)-1 B (cmTorr)-1
(cmTorr)-1
Air 15 365 N2 10 310
CO2 20 466 H 2O 13 290
H2 5 130 He 3 34
Ne 4 100 Ar 12 180
Kr 17 240 Xe 26 350

Prosiding Pertemuan dan Presentasi Ilmiah Teknologi 96

Akselerator dan Aplikasinya
Vol. 15, Oktober 2013 : 95 - 99
Volume 15, Oktober 2013
Gambar 2. Kurva Paschen Kurva Paschen untuk berbagai jenis gas.[4]
Dari kurva Paschen dapat dilihat bahwa
hubungan antara V dan pd tidak linear dan memiliki
nilai minimum untuk tiap gas. Hal ini berarti bahwa
tegangan dadal merupakan fungsi yang tergantung
pada tekanan (p), jarak elektroda (d), isian gas serta
material elektroda yang digunakan.
TATA KERJA
Bahan yang digunakan dalam penelitian ini
adalah gas Argon-Metana (ArCH4) dengan komposisi
campuran gas argon 63% dan metana 37%. Gambar 3
menunjukkan alat plasma CVD yang digunakan untuk
pengambilan data dengan spesifikasi alat diantaranya
tabung reaktor plasma dengan tinggi 40 cm dan
diameter 32 cm, sistem vakum berupa pompa rotary
jenis Edwards E2M2 dengan kapasitas 2,8 m3 per jam
serta tingkat kevakuman 1 10-3 mbar (0,1 Pa, alat
ukur pirani meter seri 1001 berupa catu daya 2 kW dan
instrumentasi operasi (meter arus, tegangan dan suhu).
Gambar 3. Alat plasma CVD.
Data tekanan (p) dan tegangan dadal (V) yang
diperoleh kemudian diplot dalam bentuk grafik,
diambil nilai p dan jarak antar elektroda (d) minimum
untuk kemudian disimulasikan melalui Matlab. Melalui
hasil simulasi tersebut akan diperoleh grafik semi-
empiris perhitungan tegangan dadal gas sampel (kurva
Paschen).
SIMULASI KURVA PASCHEN PADA PLASMA ENHANCE
CHEMICALLY VAPOUR DEPOSITION (PLASMA CVD)
UNTUK APLIKASI DEPOSISI DIAMOND-LIKE CARBON
(DLC) COATING
Alfia Hanim, Emy Mulyani, Tjipto Sujitno
ISSN 1411-1349
HASIL DAN PEMBAHASAN
Eksperimen dilakukan dengan mengatur jarak
elektroda sebesar 4 cm dan variasi tekanan tabung
pada 0,17-1,2 mbar. Data hasil eksperimen tersebut
kemudian diplot menjadi kurva Paschen yang
ditunjukkan pada Gambar 4.
Gambar 4. Kurva Paschen Gas Argon Metana
hasil eksperimen.
Berdasarkan Gambar 4 diperoleh bahwa per-
ubahan nilai tekanan gas argon-metan mempengaruhi
nilai tegangan dadal gas tersebut. Hal tersebut juga
menunjukkan bahwa terdapat korelasi antara jumlah
molekul gas dalam tabung reaktor plasma yang
ditunjukkan dengan parameter tekanan terhadap
kekuatan atau daya dielektrikum gas. Pengaruh
perubahan tekanan terhadap tegangan dadal gas tidak
selalu berbanding lurus maupun berbanding terbalik,
melainkan terbagi menjadi dua jenis. Sebelum
mencapai kondisi minimum (350 volt saat tekanan 1
mbar cm) perubahan tekanan gas berbanding terbalik
terhadap tegangan dadal gas sedangkan setelah
mencapai kondisi minimum kenaikan tekanan gas akan
diikuti dengan kenaikan tegangan dadal gas.
Kedua jenis korelasi tersebut dapat dijelaskan
sebagai berikut yaitu pada nilai tekanan gas yang
sangat rendah (dalam hal ini < 1 mbar cm), hanya
sedikit molekul-molekul gas yang mengisi tabung
reaktor sehingga kemungkinan terjadinya tumbukan
97
Volume 15, Oktober 2013 ISSN 1411-1349

antar molekul gas rendah. Rendahnya probabilitas

tumbukan antara elektron dan atom-atom gas
menyebabkan diperlukannya tegangan yang cukup
tinggi untuk memicu terjadinya proses ionisasi.
Semakin tinggi tekanan gas dalam tabung, jumlah
molekul gas yang mengisi tabung semakin banyak
sehingga probabilitas tumbukan antara elektron dan
atom-atom gas semakin meningkat sehingga tegangan
yang diperlukan untuk memicu proses ionisasi semakin
rendah. Pada suatu nilai tekanan tertentu (1 mbar cm),
jumlah molekul gas yang mengisi tabung mencapai
kondisi optimal sehingga tegangan dadal gas bernilai
minimum.
Setelah mencapai kondisi optimal, kenaikan
tekanan gas tidak lagi diikuti dengan penurunan nilai
tegangan dadal melainkan justru diikuti dengan
kenaikan tegangan dadal. Hal tersebut dikarenakan
semakin tinggi tekanan gas maka semakin banyak
molekul gas yang mengisi tabung sehingga menyebab-
Gambar 5. Kurva Paschen Gas Argon Metana
kan lintasan gerak elektron semakin berkurang dan
semi-empiris melalui simulasi
sebagai konsekuensinya dibutuhkan kenaikan
Matlab.
penyediaan energi listrik yang lebih besar untuk
memicu terjadinya proses ionisasi. Semakin banyak
molekul gas di dalam tabung menyebabkan elektron
lebih sering bertumbukan dengan molekul gas, tetapi KESIMPULAN
energi yang diperoleh rendah sehingga tidak cukup Berdasarkan hasil penelitian dapat disimpulkan
untuk memicu proses ionisasi. bahwa kurva Paschen untuk gas campuran argon
Selain digunakan untuk menjelaskan pengaruh metana dapat diperoleh melalui simulasi semi-empirik
perubahan tekanan gas terhadap tegangan dadal suatu menggunakan software Matlab. Melalui simulasi
gas, eskperimen ini juga dilakukan untuk mem- tersebut dihasilkan kurva semi-empiris hubungan
bandingkan hasil eksperimen dengan hasil simulasi perubahan tekanan gas terhadap tegangan dadal gas
perhitungan tegangan dadal. Data tekanan dan dengan range yang lebih luas dibanding kurva hasil
tegangan minimum dari hasil eksperimen dijadikan eksperimen. Kurva simulasi menunjukkan hasil yang
sebagai masukan pada program Matlab dan lebih rapi dan teratur karena pada simulasi tidak
menghasilkan kurva Paschen seperti ditunjukkan pada terdapat faktor-faktor luar yang mempengaruhi hasil
Gambar 5. percobaan seperti pada pengambilan data melalui
eksperimen langsung.
Berdasarkan hasil yang ditunjukkan pada
Gambar 4 dan 5 dapat diperoleh bahwa terdapat
perbedaan antara hasil eksperimen dengan hasil DAFTAR PUSTAKA
simulasi. Hal tersebut diakibatkan oleh keterbatasan
variabel pada proses pengambilan data. [1] OOHIRA KUOYA., Characteristic and Appli-
cations of DLC Films, NTN Techical Review
Kurva Paschen hasil simulasi memiliki range No.77 pp 90, 2009.
variabel yang lebih lebar dibandingkan kurva hasil
eksperimen, hal ini dikarenakan peralatan yang [2] ROBERTSON, J., Diamond Like Amorphous
digunakan pada ekperimen memiliki batas-batas Carbon. Enginnering departement, Cambridge
wilayah kerja tertentu yang tidak bisa terlampaui. Nilai University, 2002
pd untuk hasil eksperimen hanya dapat menjangkau [3] NAIDU,M S., KAMARAJU,V., Enginnering
maksimal 4,5 mbar cm sedangkan pada simulasi High Voltage fourth edition, Tata McGraw-Hill
dengan software Matlab range variabel dapat dibuat Publishing Company Limited, New Delhi, 2009.
sesuai dengan kebutuhan. Tetapi perlu juga diketahui
bahwa simulasi tidak dapat dilakukan tanpa data [4] FRIDMAN, A., Plasma Chemistry. Cambridge
eksperimen karena proses simulasi dilakukan dengan University Press,New York, 2008.
memasukkan sampel data hasil eksperimen sehingga
kurva yang dihasilkan berupa kurva semi-empiris.

Prosiding Pertemuan dan Presentasi Ilmiah Teknologi 98

Akselerator dan Aplikasinya
Vol. 15, Oktober 2013 : 95 - 99
Volume 15, Oktober 2013 ISSN 1411-1349

LAMPIRAN
TANYA JAWAB
Listing Program Matlab Gas Argon Metana
Wiwien Andriyanti >> %Paschen'scurve for Argon Methane.
Apakah yang terjadi jika pada rektor plasma gamma=0.01;
diberikan variabel pd yang lebih besar atau lebih pd_start_1=0.01;
kecil dari pd(min) (kaitannya dengan kurva pd_stop_1=1;
Paschen), mohon penjelasan. pd_inc_1=0.001;
pd_start_2=2;
Emy Mulyani pd_stop_2=1000;
Terkait dengan kurva Paschen jika pd > pd (min), pd_inc_2=1;
elektron akan melewati gap dan akan menumbuk pmin=input('masukkan besarnya tekanan, pmin= ');
molekul gas lebih banyak dibandingkan saat pdmin, dmin=input('masukkan besarnya jarak elektroda,
akan tetapi energi gain antar tumbukan lebih kecil. dmin= ');
Sehingga, untuk menjaga proses ionisasi yang
vmin=input('masukkan besarnya tegangan minimum,
diinginkan maka diberikan tegangan yang lebih
vmin= ')
besar.
A=((2.72/(pmin*dmin))*(log(1+(1/gamma))));
Jika pd < pd (min), elektron mungkin akan melewati B=(vmin/((dmin)*(pmin)));
gap tanpa adanya tumbukan atau mengalami
pd_1=pd_start_1:pd_inc_1:pd_stop_1;
tumbukan dalam jumlah sedikit. Sehingga, tegangan
yang lebih besar harus diberikan supaya dapat pd_2=pd_start_2:pd_inc_2:pd_stop_2;
terjadi dadal. pd=[pd_1 pd_2];
term1=B*pd;
term2=log(pd*A);
term3=log(log(1+gamma^(-1)));
vb=term1./(term2-term3);
for count=1:1:length(vb);
if vb(count)<0;
vb(count)=nan;
end;
end;
%Plot pd as mbar*cm rather than mbar*cm:
loglog(pd*10,vb,'*b');
title('Kurva Paschen Argon Metana');
axis([1e0 1e4 1e1 1e5]);
xlabel('pd (mbar*cm)');
ylabel('V_b, Tegangan Dadal(volt)');
text(10,10e3,['A=' num2str(A) ' (mbar*cm)^(-1)']);
text(10,5e3,['B=' num2str(B) ' V/(mbar*cm)']);
text(10,2e3,['gamma=' num2str(gamma)]);
masukkan besarnya tekanan, pmin= 0.22
masukkan besarnya jarak elektroda, dmin= 4
masukkan besarnya tegangan minimum, vmin= 356

SIMULASI KURVA PASCHEN PADA PLASMA ENHANCE 99

CHEMICALLY VAPOUR DEPOSITION (PLASMA CVD)
UNTUK APLIKASI DEPOSISI DIAMOND-LIKE CARBON
(DLC) COATING
Alfia Hanim, Emy Mulyani, Tjipto Sujitno