Anda di halaman 1dari 27

Universidad Catlica del Norte

Facultad de Ingeniera y Ciencias Geolgicas

Departamento de Ingeniera Metalrgica y Minas

Aditivos Catdicos.

Elas Flores H.
Felipe Romero A.
Misael Garca A.

Profesor Asignatura: Oscar Benavente.


.Antofagasta, Chile
17 de Noviembre de 2016

i
Resumen.

Dentro del proceso de electrometalurgia, toma un rol fundamental el proceso


mediante el cual se generan los ctodos (EO, ER, entre otros). Debido a las
modificaciones tanto qumicas como fsicas que se pueden generar en el proceso
de produccin del ctodo, las contribuirn a la disminucin de nuestra calidad
catdica y de esta manera perjudicaran la venta de estos. Es por esta razn, que
es necesario la bsqueda de herramientas que permitan asegurar una buena
calidad de ctodica, de tal manera que este no sea penalizado por su estado
fsico o por la albergacin de posibles contaminantes como azufre u oxgeno. Es
as como se da la existencia de los aditivos catdicos, los que contribuyen a la
buena formacin del ctodo, evitando problemas como la acumulacin de azufre
en el ctodo de cobre, la formacin de posibles estras u otros defectos fsicos,
debido a la generacin de sobrepotenciales en algunos puntos del ctodo, lo que
implicara una mayor depositacin en aquellos puntos, generado a su vez una
depositacin irregular. Dentro el marco de la experiencia realizada, se analizaron
las distintas caractersticas de los aditivos catdicos mas utilizados en la
actualidad, se compararon cada una de sus caractersticas, establecindose
finalmente que el aditivo DXF-F7, cuenta con mejores cualidades que la goma
Guar, debido a la posibilidad de generar ctodos de grado A por el mismo precio
que la goma Guar. Adems su fcil manejo, junto a su buena interaccin con el
electrolito, lo hace un aditivo bastante bien visto para las operaciones de EO,
permitiendo disminuir las concentraciones de los contaminantes ms comunes
en el ctodo (Azufre y oxigeno) entre 28-35% en el caso del azufre y un 80%
para el oxgeno.

ii
ndice.

CAPTULO 1.- INTRODUCCIN ................................................................................................................ 6

1.1 OBJETIVOS ............................................................................................................................................. 6


1.1.1 Objetivo general ......................................................................................................................... 6

CAPTULO 2.- FUNDAMENTOS TERICOS ............................................................................................... 7

CAPTULO 3.- ADITIVOS CATDICOS. ................................................................................................... 11

3.1 GOMA GUAR (GUARDUM). ..................................................................................................................... 12


3.2 DXG-F7 (DEXTRINA) ............................................................................................................................. 16

CAPTULO 4.- ANLISIS ......................................................................................................................... 23

CAPTULO 5.- CONCLUSIONES. ............................................................................................................. 25

CAPTULO 6.- REFERENCIAS. ................................................................................................................. 26

CAPTULO 6.- ANEXOS. ......................................................................................................................... 27

iii
ndice de grficos.

Grfico N1. Efecto de la dosificacin de Guartec en la suspensin de slidos


en electrolito (M.Grceda, 2007)....................................................................... 15

ndice de ilustraciones.

Imagen N 1.Unidad estructural bsica del Guar-Galactomans. (M. Grceda,


2007)................................................................................................................. 14
Imagen N 2. Ctodo con y sin aditivo catdico. .............................................. 16
Imagen N 3. Deposito mediante la utilizacin de DXG F7. ............................. 18
Imagen N4. Perfil de crecimiento del depsito de cobre catdico obtenido por
microscopa metalogrfica con diferentes concentraciones de PAM: (a) sin
aditivo; (b) 3 mgl-1; (c) 4 mgl-1; (d) 5 mgl-1; (e) 6 mgl-1; (f) 7 mgl-1; (g) 8 mgl-1;
(h) 9 mgl-1 y (i) 10 mgl-1 ................................................................................... 21
Imagen N 5. Micrografas SEM de depsitos de cobre obtenidos a partir de un
electrolito que contiene 30 g/L Cu 2+ y 100 g/L H2SO4 que contiene varias
concentraciones de aditivos: (a) 50 mg/L Tiourea, (b) 50 ml/L TI-85, (c) 50 mg/L
HCE (Extracto de castao de indi as), (d) 10 mg/L cola animal, (e) sin aditivos.
.......................................................................................................................... 27

iv
Nomenclatura.

EO: Electroobtencin.

ER: Electrorefinacin.

PAM: Poliacrilamida no inica.

v
Captulo 1.- Introduccin

Dentro de la electrometalurgia, se encuentran procesos como la electroobtencin


o electrorefinacin de Cobre, procesos que toman una connotacin de real
importancia, debido a que constituyen parte de los procesos finales para la
obtencin del ctodo de cobre, el que posteriormente se comercializa como tal.
Es en relacin a la calidad catdica, es que se debe tener sumo cuidado a la
hora de su produccin debido a que el precio de este estar ampliamente
marcado por dicha calidad. Es as como existe un conjunto de aditivos utilizados
en lugares como baos electrolticos, los que representan un factor importante a
tener en cuenta, dado que estos permiten controlar, entre algunos aspectos; La
eficiencia en corriente del proceso y la calidad del electro depsito metlico.
Adems de estos, mejoran las propiedades morfolgicas del electro deposito
(rugosidad, brillo, porosidad), Todo orientado a que el producto final presente
una mejor calidad. [1]

1.1 Objetivos

1.1.1 Objetivo general

Analizar las distintas caractersticas de los aditivos catdicos utilizados en el


proceso de electrometalurgia.

1.1.1.1 Objetivos especficos


Comparar los distintos tipos de aditivos catdicos utilizados en el
proceso de electrometalurgia.
.Mencionar los usos de los aditivos catdicos en el proceso de
electrometalurgia.

6
Captulo 2.- Fundamentos tericos

Electrolisis: Son aqullas reacciones en las que se impone un potencial externo


mayor que el potencial reversible de la celda. Su empleo ms comn es como
transformador de sustancia utilizando energa elctrica en el proceso. Esta
conversin se realiza en el electrolito o en la superficie del conductor electrnico
mediante transferencia de carga electrnica. Las transformaciones qumicas en
la electrolisis implican ganancia o prdida de electrones.

La estequiometria que ocurre en esta clase de reacciones, obedece la Ley de


Faraday, como se vio en la prctica pasada. Sin embargo, cuando muchas
reacciones diferentes son posibles en un electrodo de la celda electroltica, el
proceso que tiene lugar estar determinado por el potencial del electrodo. Las
reacciones que tienen lugar son aquellas que requieren una menor diferencia de
potencial aplicada.

En el marco de la utilizacin de esta clase de reaccin en procesos industriales


comerciales se incluyen: electrorefinacin (Cobre) y galvanizacin (Plata, oro,
cromo). [4]

Celda electroqumica: En esta clase de celda, se considerar el ctodo siempre


ser el electrodo sobre el que se produce la reduccin, mientras que en el nodo
estar ocurriendo la oxidacin, cualquiera sea la celda. Los signos estarn
determinados por la imposicin externa del potencial, por lo que a diferencia de
la celdas galvnicas, el ctodo tendr polaridad negativa y el nodo positiva.
Alternativamente, es til recordar que una corriente ser catdica cuando los
electrones pasen del metal al electrolito, adems por convencin signo negativo,
mientras que cuando los electrones fluyen del electrolito al metal, la corriente ser
andica y positiva. [4]

7
Electroobtencin: Proceso que consiste en aplicar una corriente que circula
en el sentido de nodo a ctodo, a travs de una solucin de sulfato cprico. El
cobre es depositado en el ctodo y la reaccin de descomposicin del agua se
realiza en nodo, dando lugar a desprendimiento de oxgeno, con el objetivo de
la obtencin de ctodos con 99,99% de pureza. El proceso comienza cuando la
solucin procedente de la etapa de lixiviacin es purificada y concentrada en
cobre en la planta de extraccin por solventes, para la formacin de un electrolito
rico que es conducido a las celdas de electrodepositacin de cobre. Los procesos
a los que se somete la solucin antes de entrar al proceso de electroobtencin,
se deben a que esta tiene una composicin compleja, con numerosas
impurezas, cuyas concentraciones varan de acuerdo a la fuente mineral
utilizada y a los procesos hidrometalrgicos a que es sometida antes de
transformarse en el electrolito de electroobtencin..[3]

Sobrepotencial: La generacin de un sobrepotencial implica un apartamiento


del estado de equilibrio. Para que se produzca la reaccin electroqumica deben
darse una serie de fenmenos que pueden agruparse en principio en cuatro
categoras:

Transferencia de carga (que involucra la reaccin de transformacin)


Transferencia de masa hacia el electrodo y desde este mismo.
Reacciones qumicas previas o posteriores a la transferencia de carga.
Fenmenos de superficie, donde se incluyen fenmenos de formacin o
ruptura de una red cristalina, formacin de xidos, formacin de burbujas
en desprendimientos de un gas.

Cada una de estas condiciones puede generar un sobrepotencial, originado de


la irreversibilidad de la etapa considerada. El sobrepotencial total ser la suma
de todos estos. Cuidando una serie de parmetros experimentales o eligiendo
con cuidado la reaccin a realizar, se pueden disminuir los mismos hasta hacer
despreciables la mayora de los sobrepotenciales. [4]
8
Sobrepotencial Catdico: Este fenmeno es causado por la diferencia de
concentracin de iones Cu2+ en la capa lmite cercano al ctodo. Su efecto
puede ser reducido por agitacin del electrolito cerca del ctodo. En el
caso del cobre, este Sobrepotencial est 0,05 a 0,1 V. A elevadas
densidades de corriente hay que considerar el efecto del Sobrepotencial del
hidrgeno, debido a su magnitud por efectos cinticos, lo cual no ocurre
en la prctica comercial del cobre. [3]

Resistencia hmmica del Electrolito: Esta corresponde a la resistencia que


opone el electrolito al paso de la corriente elctrica, donde se destacan los
valores ms comunes para la conductividad de electrolitos de cobre:

Soluciones ricas de lixiviacin: 0,2 1/Ohm*cm


Electrolitos de SX: 0,6 1/Ohm*cm
Electrolitos de ER: 0,7 1/Ohm*cm

Neblina cida: Las plantas de EO, generan una neblina cida producto de
la reaccin de oxidacin del agua en el nodo. Los mecanismos utilizados para
el control de emisin de la neblina cida se basan en el empleo de un manto de
bolas de polipropileno (2 o ms capas de bolas de polipropileno de 12 20
mm), acompaado de sistemas de ventilacin forzada de la nave. En el
proceso de electroobtencin de cobre se genera oxgeno en la superficie
de los nodos, esto resulta en la formacin de burbujas que tienden a salir
a la superficie y resultan en gases cidos, debido a la composicin del electrolito
(cida) . Esta neblina es perjudicial para la salud humana, debido a que las
partculas de cido viajan por el aire hasta el operador, produciendo la irritacin
de la piel, ojos, membranas mucosas, dientes, tracto respiratorio y pulmones.
Pudiendo producir un gran dao en la salud, adems de producir niveles altos de
corrosin en el medio ambiente daando la estructura de los edificios, afectando
adems la maquinaria de la planta; por lo que dichas emisiones estn
fuertemente reguladas por las agencias de control ambiental.[3]

9
Nave Electroltica: Representa la unidad bsica industrial donde se
desarrolla el proceso, los elementos activos lo conforman los electrodos,
siendo el nodo donde ocurre la oxidacin y ctodo donde ocurre la reduccin.
Los electrodos de una misma polaridad en general estn conectados en
paralelo a un mismo punto de tensin y las celdas en serie entre ellas. La
asociacin de varias celdas se denomina seccin y las secciones se agrupan en
un circuito. El conjunto se denomina Casa Electroltica o Nave Electroltica. La
corriente entra al sistema por el borne positivo de modo que los nodos son los
que ingresan la corriente al sistema, esta corriente pasa a travs de la
solucin y sale por los ctodos para as pasar a la celda vecina y as
sucesivamente por todas ellas hasta cerrar el circuito con la ltima celda en su
borne negativo.[3]

Agentes aditivos: Esta clase de agentes forma parte de las variables inherentes
a la solucin y son utilizados para mejorar la calidad superficial de los ctodos.
Entre ellos destaca la Goma Guar y el Sulfato de Cobalto. [3]

Goma Guar: Aditivo perteneciente a la galactomans, la que se encuentra en


plantas de reservas de carbohidratos, tales como el almidn. De los tipos
de galactomans procesados en forma industrial son usados solo tres: Granos de
acacia, goma Guar y tasa Guar. [3]

Sulfato de Cobalto: Aditivo cuya funcin es disminuir la corrosin del nodo,


estabilizando la capa de xido de plomo en el nodo. El mecanismo de accin
del cobalto a nivel de electrodo es la disminucin de la sobretensin andica y
adems modificar la proporcin de xidos de plomo, que se forman sobre la
matriz de plomo. [3]

10
Captulo 3.- Aditivos Catdicos.

Dentro del mundo de la minera, existe un complejo panorama cuando


relacionamos la produccin a la calidad catdica. Principal problemtica que
presentan algunas mineras de nuestro pas debido a que cerca del 80-90% de
sus ctodos Premium, sin embargo con la adicin de los aditivos catdicos ha
sido posible la produccin de ctodos con una mejor calidad permitiendo a
empresas elevar la cantidad de ctodos, dentro del marco de su produccin.

Estos aditivos son ampliamente utilizados en metales que presentan un bajo


sobrepotencial, como el cobre, debido a que se generan cristales ms grandes
que aquellos con sobrepotenciales mayores. Debido a que en celdas es de vital
importancia el crecimiento del depsito y engruese libre de rugosidades, poros,
dendritas, en algunos casos se requiere de la adicin de inhibidores para la
reaccin sobre el ctodo. Estos aditivos son adsorbidos sobre el ctodo,
aumentando as el sobrevoltaje de la reaccin catdica, facilitando la nucleacin.
Tambin los inhibidores se adsorben en sitios preferenciales de crecimiento,
inhibiendo el crecimiento de dendritas. Esto trae consigo la disminucin de
cortocircuitos por contacto entre electrodos. De manera general, se da la
existencia de tres tipos de aditivos utilizados en el proceso de EO.

Nivelantes: Esto reactivos tienen como funcionalidad la redistribucin del


voltaje en la superficie catdica.
Abrillantadores: Estos tiene como finalidad mejorar la presentacin del
ctodo con el objetivo de evitar una penalizacin fsica por este.
Reguladores de Tamao de grano: Esto aditivos mejoran las
condiciones energticas donde se genera la depositacin, logrando tazas
de nucleacin y crecimiento especficas.

11
3.1 Goma Guar (Guardum).

En el marco de la electroobtecin, uno de los principales aditivos catdicos


utilizado es la goma Guar (Guargum).

Esta es una resina producida por el fruto de la planta de Guar de origen africano,
adems pertenece a los galactomans, la cual se encuentra en plantas de reserva
de carbohidratos, tales como el almidn. Se utilizan 3 tipos de galactomans
procesados de forma industrial, estos son, granos de acacia, goma Guar y tasa
Guar. En la industria, la goma Guar es el ms utilizado debido a su buena
solubilidad en agua y a su alta viscosidad en soluciones acuosas.

La goma Guar mejora notablemente la calidad superficial de los ctodos de


cobre. Esto se debe a que la adicin de goma Guar al electrolito, hace que los
ndulos que se generan en la superficie del ctodo debido a los altos campos de
corriente con que se trabaja, se disuelvan o se conviertan en pequeas agujas
homogenizando el cobre.

La goma Guar se va descomponiendo en el electrolito a medida que transcurre


el tiempo, y tambin debido a las condiciones en que este se encuentre, tales
como la temperatura y la concentracin de cido. A temperaturas cercanas a los
50 C la velocidad de degradacin de la goma Guar aumenta.

Algunos de los reactivos basados en goma Guar utilizados en la industria del


cobre son:

1) Guarfloc66: Este aditivo se considera como un abrillantador, adems de


ser considerado como nivelante. Trabaja con dosificaciones de 150-300
gramos por cada tonelada mtrica de cobre depositada, donde dentro de
las propiedades qumicas y fsicas que se pueden encontrar, destacan:
o Apariencia: Polvo color Crema.
o Humedad: 7.0 13%

12
o pH: 5.5 7.0
o Viscosidad ( 1% de solucin en agua a 25C)
o 30 min > 2000 cps
o 2 hrs > 3000 cps
o 24 hrs > 3900 cps

Aditivo utilizado para garantizar una adhesin adecuada de las partculas de


cobre en el ctodo. Cumple las funciones de aditivo abrillantador y nivelador.

2) Galactasol 40H4CD: Este aditivo, derivado de la goma Guar, es


considerado como un regulador de tamao de grano. Derivado de
polmero galactomans, su dosificacin es de 120-300 gr por tonelada de
cobre depositada, donde algunas de las propiedades que destacan son:
o Humedad: 10% Max
o Viscosidad.
o 2 horas 4000-5000 cps
o pH: 4 7

El Guar representa a uno de los polisacridos ms ampliamente estudiados en


electro obtencin de cobre. Su estructura molecular es una cadena de -D-
manosa conectada a travs de la unin C1-C4. A cada segundo monmero de -
D-manosa se conecta una unidad de -D-galactosa a travs del acoplamiento
C1-C6.

13
Imagen N 1.Unidad estructural bsica del Guar-Galactomans. (M. Grceda,
2007)
Los grupos oxidrilos (-OH) en las unidades del guar pueden rotar de tal manera
que se encuentran de un solo lado del anillo, haciendo ese lado hidroflico. El
lado opuesto es por lo tanto levemente hidrofbico debido a los grupos CH
expuestos. Los mecanismos de adsorcin del Guar en solucin acuosa se
atribuyen, principalmente a la presencia de puentes de hidrgenos e
interacciones hidrofbicas.

Es necesario controlar las dosificaciones de los aditivos, ya que a


concentraciones muy altas, aumenta la viscosidad del electrolito disminuyendo la
eficiencia de depositacin.

3) Guartec EW: Es un derivado del polmero Galactomannon proveniente del


Guar. El tamao de partcula del gua es ligeramente ms grande, esto
permite una buena dispersin y las caractersticas del flujo es sin
impedimentos.

14
Propiedades qumicas y fsicas.

Humedad: 13%
Tamao de Grano:

-100 USBS 80% min.

-200 USBS 20% min.

Viscosidad: 2 horas 3000-4000 CPS


PH: 6-8

Grfico N1. Efecto de la dosificacin de Guartec en la suspensin de slidos


en electrolito (M.Grceda, 2007)

15
3.2 DXG-F7 (Dextrina)

El aditivo DXG-F7 es un regulador de grano desarrollado para uso en procesos


de electro obtencin de cobre, con excelente comportamiento y rendimiento.

El regulador de grano es un agente importante en la formacin de cristales. En


una superficie irregular y con asperezas, los cationes de cobre en su migracin
buscaran el punto ms saliente de la superficie para depositarse, es por ello, que
el regulador de grano acta de tal manera que disminuyen estos procedimientos
preferenciales.

Imagen N 2. Ctodo con y sin aditivo catdico.

16
La aplicacin en procesos de electro obtencin de cobre, ha pasado
satisfactoriamente las pruebas en laboratorio, en planta piloto y en planta
industrial. Los efectos logrados son los siguientes:

El producto DXG-F7 es completamente soluble en agua a


temperatura ambiente.
Disminuye las probabilidades de rechazo por formacin de
ndulos evitando corto circuito y oclusiones no deseadas.
No Necesita de Tiempo de hidratacin, en 4 m3 de agua, 25 kg
estn listos en menos de una hora, con agitacin neumtica.
Durante la preparacin no se forman grumos, por lo cual no
existen perdidas innecesarias del aditivo regulador.
Evita constante mantenciones de estanques, bombas y lneas
por efecto de la viscosidad esto permite un proceso de adicin
ms continuo.
Totalmente compatible con la fase orgnica del proceso de SX,
no generando ningn efecto negativo sobre las propiedades y
composicin de la misma.

Compatibilidad

El aditivo DXG-F7 no produce ningn efecto negativo sobre la fase orgnica del
proceso SX. La viscosidad de la solucin preparada para su dosificacin al
circuito, es diez veces menos viscosa que el Guar, lo que le permite una
excelente dispersin en el electrolito, y consecuentemente un buen efecto en la
calidad catdica. Adems proporciona una estructura ordenada, claramente
vertical, lo que genera un impacto notable, en la disminucin de la presencia de
azufre en el depsito de un 28% a 35%, junto con reduccin la presencia de

17
oxgeno en cerca de un 80%. En relacin a la nieblina acida generada en el
proceso de EO, este aditivo responde de manera favorable ante este fenmeno,
debido a que presenta un cierto poder tenso activo, sin llegar a serlo, es posible
tener una diminucin entre el 20% al 30% de neblina acida.

Imagen N 3. Deposito mediante la utilizacin de DXG F7.

3.3 Abrillantadores de cobre CUFLEX 78

Los abrillantadores de cobre acido de la serie CUFLEX 78, son tres aditivos que
en conjunto logran mantener en condiciones ptimas el brillo y nivelacin de las
pelculas obtenidas. (Make-Up, Mantenimiento y nivelador).

El abrillantador make-up, se prepara para las soluciones iniciales. Luego el


CUFLEX 780 mantenimiento logra dar el brillo inicial y sus adiciones posteriores
logran mantener el brillo del ctodo que se deposita, donde el efecto depender
de la cantidad agregada. Por ltimo el CUFLEX 78 nivelador logra emparejar el

18
brillo entre las zonas de alta y baja densidad de corriente. Para operar este
producto, requiere de cierta formulacin:

Sulfato de cobre 200 a 226 g/L


cido Sulfrico 45 a 60 g/L
Iones cloruro 30 a 60 mg/L
Temperatura 24 a 32 C
Densidad de corriente catdica 300 a 700 A/m2
Densidad de corriente andica 150 a 300 A/m2
Agitacin por aire
Filtracin Continua
Rendimiento catdico Cercano al 100%

3.4 Poliacrilamida no inica (PAM).

En la bsqueda de aditivos afinadores de menor costo que la goma Guar, se han


probado la modificacin de Polisacridos. Vereecken y Winand (Surf. Technol. 4
(1976) 227-235.), investigaron en los 70 el compuesto Poliacrilamida no inica
(PAM).

Las principales caractersticas descritas para este compuesto en disolucin de


cido sulfrico son: constituir molculas de elevado peso molecular, 500.000 a
12.000.000 u.m.a., adoptar la estructura catinica en este medio y a
concentraciones tan bajas como 1 mgl-1 reducir el tamao de grano cristalino.
Estudios posteriores realizados por Fabin et al(C. Fabin, M. Ridd y M.
Sheehan, Hydrometallurgy 3-4 (2006) 256-263.), indican que el compuesto
poliacrilamida, activado en disolucin cida diluida (en una dieciseisava parte) y
agregado al electrolito en el rango de concentracin desde 0,01 hasta 10 mgl-1,
genera depsitos de grano ms fino que los obtenidos con Guar.

19
Se realizaron experimentos a nivel de laboratorio donde se utiliz ctodos de
acero inoxidable 316L y nodos de cobre electroltico. Se prepar un electrolito
cuya composicin se describe en la tabla 1. El experimento tuvo como finalidad
determinar el rango de concentracin de PAM, necesario para obtener un
depsito de cobre de calidad ptima, dejando constantes la densidad de
corriente, la composicin del electrolito base y la temperatura.

La concentracin de PAM fue variando desde de 1 mg/l hasta 10 mg/l.,


obteniendo resultados en el depsito con 8 mgl-1 de PAM, mostrado en la figura
2 (d), el cual exhibe una gran homogeneidad en su crecimiento orientado en el
campo y una uniformidad ptima del relieve superficial, indicativos para clasificar
el depsito como del tipo FT. El perfil del grano, muestra una estructura bastante
compacta, no observndose irregularidades intercristalinas.

Los depsitos con 9 mg/l (Imagen N4 (h)) y 10 mg/l (Imagen N4 (i)) de PAM,
respectivamente, presentan estructuras compactas y orientadas en el campo.

20
Imagen N4. Perfil de crecimiento del depsito de cobre catdico obtenido por
microscopa metalogrfica con diferentes concentraciones de PAM: (a) sin
aditivo; (b) 3 mgl-1; (c) 4 mgl-1; (d) 5 mgl-1; (e) 6 mgl-1; (f) 7 mgl-1; (g) 8 mgl-1;
(h) 9 mgl-1 y (i) 10 mgl-1

21
Tabla N1. Composicin y acondicionamiento de electrolito de trabajo. (Efecto
de la concentracin de poliacrilamida sobre la calidad del depsito de cobre
obtenido por refino electroltico, 2013)

El anlisis MEB, fue coincidente con los resultados del anlisis metalogrfico,
evidenciando que en el rango de 8 y 10 mgl-1 de PAM, se obtienen superficies
catdicas caracterizadas por una estructura de grano ms fino y compacto,
similares a las logradas en electrolitos con 4 mgl-1 de Guar (Galactasol),
alcanzando un tamao de grano de dimetro promedio cercano a los 60 m.
Esto permite colocar a PAM como reemplazante del Guar como aditivo catdico
de afinador de grano.

22
Captulo 4.- Anlisis

A escala industrial sobresalen dos aditivos catdicos que son quienes abarcan
esta parte de electro-obtencin, es el caso del Guar y el DXF-F7. El reactivo DXF-
F7 es un aditivo 100% natural que apareci hace poco para dar soluciones al
proceso de electro-obtencin del cobre. Dentro de las ms destacadas es su
solubilidad en agua a temperatura ambiente y durante la preparacin no se
forman grumos, por lo cual no existen perdidas innecesarias del aditivo regulador,
posee entre un 28% a 35% en la disminucin de azufre en el depsito y una
disminucin de oxgeno en el depsito alrededor del 80%.

En la Imagen N5, Anexos. Se aprecia las distintas fases que posee el ctodo al
momento de agregar el reactivo para poder visualizar el comportamiento de este.
Si bien estas imgenes fueron obtenidas mediante una prueba a escala piloto, la
no adhesin de reactivos, el ctodo posee un aspecto depreciable. No as cuando
se agrega el aditivo catdico. Se logran apreciar que la tiourea en esta prueba
obtiene un ctodo bien homogneo y brilloso. Se debe tener en consideracin la
cantidad agregada de aditivo, ya que para alcanzar un ctodo de buena calidad,
su cantidad debe estar en un rango ptimo.

La caracterstica principal que impulso el uso de goma Guar en la EO, es su


buena solubilidad y alta viscosidad en soluciones acuosas. Esto permite generar
varios derivados de Guar, como aditivos catdicos (Guarfloc 66, Galactasol y
Guartec EW), los cuales cumplen con las caractersticas necesarias tales como
Nivelantes, abrillantadores y reguladores de grano. Una de las desventajas que
presenta el Guar es su rpida degradacin en concentraciones alta de cido
sulfrico y a temperaturas elevadas (caracterstica principal del electrolito en EO),
lo cual requiere de una agregacin progresiva de aditivos, lo que genera un costo

23
extra en la operacin. Esto conlleva a buscar nuevos aditivos catdicos, que
respondan de mejor manera a las condiciones operacionales de EO.

24
Captulo 5.- Conclusiones.

El DXG-F7 hoy en da es el reactivo que ha mostrado buenos resultados,


comercialmente posee un valor similar al Guar, posee mejores propiedades que
ayudan a obtener un ctodo de mejor calidad, sus disminuciones en los
contaminantes lo hace un reactivo fuerte operacionalmente y es por esto su
preferencia en los ltimos aos.

Las imgenes son claras al sealar que para obtener un ctodo de buena calidad
es necesario la adhesin de reguladores de granos, abrillantadores y nivelantes;
si bien estos generalmente estos reactivos poseen estas tres caractersticas, la
calidad del depsito muestra cuan efectivos son. (Ver Imagen N5, Anexos).

Es debido a que la goma Guar, sufre una rpida degradacin bajo las condiciones
operacionales de EO, se realizaron investigaciones para encontrar variantes a
esta como aditivo catdico. La poliacrilamida no inica y el DXG-F7 han
demostrado ser alternativas reales y concretas, tanto en sus caractersticas de
operacin, como en su menor precio comercial.

25
Captulo 6.- Referencias.

[1] Estudio del Efecto de aditivos de electrodepositacin de cobre sobre ctodos


permanentes. [En lnea]
http://investigacionesmetalurgicashp.blogspot.cl/2014/07/estudio-del-efecto-de-
aditivos-en-la.html [Consultada: 11 de Noviembre, 2016].

[2] Electrometalurgia [O. Benavente]

[3] Curso de Capacitacin Operacin de Plantas de Electroobtencin [En Lnea]


http://studylib.es/doc/252178/apuntes-curso-electro-obtencion [Consultada: 11
de Noviembre, 2016]

26
Captulo 6.- Anexos.

Imagen N 5. Micrografas SEM de depsitos de cobre obtenidos a partir de un


electrolito que contiene 30 g/L Cu 2+ y 100 g/L H2SO4 que contiene varias
concentraciones de aditivos: (a) 50 mg/L Tiourea, (b) 50 ml/L TI-85, (c) 50 mg/L
HCE (Extracto de castao de indi as), (d) 10 mg/L cola animal, (e) sin aditivos.

27

Anda mungkin juga menyukai