MOS
Complementary - Metal Oxide Semiconductor
Trata-se de uma família que tem seus circuitos construídos por
transistores MOS-FET (Metal Oxide Semiconductor-Field Effect
Transistor) do tipo canal N e canal P.
Simbologias
PMOS
Duas regiões fortemente dopadas tipo N são criadas no substrato originando o dreno(D) e a fonte(S de source ).
Uma camada muito fina de cerca de 40nm de dióxido de silício ( que é isolante ) é criada sobre a região do substrato
entre
dreno e fonte.
No começo, era depositado sobre esse óxido uma camada de metal ( o M de MOS),
A B S
0 0 1
0 1 0
1 0 0
1 1 0
A B S
0 0 1
0 1 1
1 0 1
1 1 0
RESUMO das CARACTERÍSTICAS GERAIS DA FAMÍLIA LÓGICA
C-MOS