Anda di halaman 1dari 7

Jurnal Teknik Material dan Metalurgi

Institut Teknologi Sepuluh Nopember Surabaya, 2012

APLIKASI TUNGSTEN TRIOKSIDA NANO PARTIKEL DENGAN METODE SOL GEL


DAN PROSES KALSINASI SEBAGAI KAPASITOR ELEKTROKIMIA
Dwi Aditya Novianto 1, Diah Susanti2, Hariyati Purwaningsih2
1
Mahasiswa Jurusan Teknik Material dan Metalurgi FTI-ITS
2
Dosen Jurusan Teknik Material dan metalurgi FTI-ITS

ABSTRAK

Nanopartikel Tungsten Trioksida (WO3) dapat disentesa dari material dasar Tungsten (VI)
Hexaklorida (WCl6) dan ethanol (C2H5OH) dengan menggunakan metode sol gel dilanjutkan dengan
pelapisan gel WO3 pada substrat Al2O3 yang berukuran 1 cm2. Material dipanaskan di dalam furnace
dengan metode kalsinasi dengan temperatur 300 oC, 400 oC, 500 oC, dan 600 oC menggunakan waktu
tahan selama 1 jam. Kemudian material tersebut dikarakterisasi menggunakan uji (SEM), (AFM) dan
(XRD). Luas permukaan aktif partikel dan jenis pori diidentifikasi dengan menggunakan BET
analyzer. Pengukuran kapasitansi kapasitor menggunakan alat pengukur elektrokimia (Potentiostat).
Dari hasil XRD dapat diketahui ukuran kristalnya monoclinic. Pada hasil SEM didapatkan ukuran
partikel yang semakin besar sesuai kenaikan temperatur. Thin film WO3 termasuk kedalam jenis
micropores dan mesopores dengan luas permukaan aktif yang semakin turun sesuai dengan kenaikan
temperatur kalsinasi. Dalam uji kapasitif didapatkan hasil yang optimum pada temperatur 500 oC dan
scan rate 2 mV/s sebesar 22.96 F/gr. Semakin besar nilai scanrate maka semakin kecil nilai dari
kapasitif kapasitor dengan material WO3.

Kata kunci: Nanopartikel, Tungsten Trioksida (WO3), Sol-gel, Kalsinasi,Kapasitor Elektrokimia,


Cyclic Voltametri (CV)

I. PENDAHULUAN II. METODOLOGI PENELITIAN


Tungsten trioksida (WO3) dikenal Proses sol-gel untuk menghasilkan gel
sebagai material semikonduktor yang Tungsten oxide ditunjukan diagram alir pada
mempunyai banyak aplikasi. WO3 Gambar 1. Tungsten (VI) Hexaklorida
diaplikasikan sebagai material sensor gas, alat (WCL6) sebanyak 7 gram dilarutkan dengan
elektrokronik, photokatalis, alat penyimpan 100 mL etanol dan 10 mL NH4OH. Larutan
memori, dan yang belum banyak diteliti adalah diaduk dalam temperatur es selama 24 jam.
sebagai kapasitor elektrokimia. Property Ion klorida dihapus menggunakan aquades
kapasitif dari suatu kapasitor sangatlah sampai tidak ada endapan putih AgCl muncul
dipengaruhi oleh struktur materialnya. Struktur ketika dititrasi dengan larutan 0,1M perak
material sendiri tergantung pada kondisi nitrat. Endapan dipisahkan dari larutan yang
sintesa material, seperti metode sintesa yang tersisa menggunakan centrifuge. Endapan
digunakan, temperatur dan tekanan operasi, kemudian dipeptisasi oleh ammonia
bahan baku (prekursor), substrat yang hidroksida, dan 50 μL surfactant (Sigma,
digunakan untuk menumbuhkan material, dan Triton X-100) ditambahkan ke dalam larutan.
laju alir pemasukan bahan baku. Diperoleh tungsten trioksida sol. Sol Tungten
Dalam penelitian ini bertujuan Trioksida dilapiskan pada substrat alumina
menyiapkan kapasitor elektrokimia dari WO 3 (006) dengan menggunakan alat spincoating.
yang disintesa menggunakan proses sol-gel Kemudian di perlakukan proses kalsinasi
dari precursor WCl6 dan C2H5OH yang diikuti dengan variasi temperatur 300ºC, 400ºC,
dengan proses kalsinasi pada temperatur yang 500ºC dan 600ºC selama 1 jam. Thin film hasil
berbeda. Kapasitor akan dibuat dari material kalsinasi kemudian di karakterisasi dengan
WO3 yang telah di-kalsinasi pada temperatur pengujian Scanning Electron Microscope
yang berbeda tersebut dan kemudian (SEM, FEI S-50). Stuktur Kristal diperiksa
dibandingkan property-property kapasitif oleh pengujian X-Ray Diffraction (XRD,
elektrokimia-nya. Philips Analytical). Luas permukaan aktif
dianalisa menggunakan Brunner Emmet Teller
(BET, Quantachrome autosorb iQ). Kekasaran
permukaan di analisa menggunakan Atomic

1
Jurnal Teknik Material dan Metalurgi
Institut Teknologi Sepuluh Nopember Surabaya, 2012

Force Microscopy (AFM). Kapasitif prekursor dalam pembentukan nano kristal


kapasitor dianalisa dengan menggunakan Tungsten Trioksida (WO3). Endapan
Potentiostat (PGSTAT 302N). kemudian dicuci dengan aquades (H2O) yang
bertujuan untuk menghilangkan kandungan Cl-
WCl6 dilarutkan yang masih terdapat pada larutan dan
Larutan NH4OH
dalam alkohol merupakan bahan yang tidak diperlukan.
Pencucian tersebut dilakukan sampai tidak ada
endapan putih AgCl ketika di titrasi dengan
Hydrolisis Diaduk 24 jam 0,1 M larutan perak nitrat. Larutan kemudian
dicentrifuge selama beberapa jam pada
Presipitat
kecepatan 2000 rpm untuk memisahkan
Tungsten Hidroksida Dicuci larutan dengan endapan. Endapan kemudian di
dengan peptisasi menggunakan ammonium hidroksida
Dipeptisasi dengan Aquades (NH4OH) untuk mendispersi kembali endapan,
Ammonia Hidroksida supaya partikel besar menjadi lebih kecil dan
ditambahkan 50 μL surfactant (Triton X-100)
Sol Tungsten Oksida untuk menurunkan tegangan permukaan. 100
mL sol-gel tungsten trioksida yang terbentuk
berwarna biru pekat. Gambar 2. menunjukkan
Pelapisan di substrat mekanisme reaksi pembentukan WO3
Proses Alumina
a b c d
Kalsinasi

Kapasitor WO3

Gambar 1. Diagram Alir Peneltian

III. HASIL DAN PEMBAHASAN Gambar 2. Hasil pelapisan nano material WO3 di
atas substrat alumina setelah diproses kalsinasi
Pembentukan Sol-Gel Tungsten Trioksida dengan variasi temperatur (a) 300oC (b) 400oC (c)
Proses sintesa WO3 untuk material 500oC (d) 600oC
kapasitor yang dilakukan meliputi proses sol
dan gelasi. Proses gelasi pada pembuatan
sample diawali dengan pembentukan prekusor.
Dalam proses pembentukan prekusor diawali
dengan dilarutkannya 7 gram tungsten (VI)
hexachloride dengan 100 mL ethanol
(C2H5OH), larutan yang terbentuk memiliki
endapan berwarna kuning dan endapan
menjadi biru saat penambahan ammonium Gambar 3 Sampel kapasitor elektrokimia
hidroksida (NH4OH). Larutan kemudian
diaduk menggunakan stirrer hot-plate dengan Analisa XRD
kecepatan yang konstan dan terjaga Pengujian XRD (Philips XRD X-Pert
kestabilannya. Proses pengadukan dilakukan XMS) pada serbuk tungsten trioksida dalam
selama 24 jam pada temperatur es. berbagai temperatur kalsinasi dengan waktu
Tahap gelasi terjadi saat pengadukan holding selama 1 jam dapat dilihat pada
berlangsung, terbentuk endapan yang semakin Gambar 3.
banyak, yang menyebabkan gerakan dari Pola XRD menunjukan bahwa kristal
stirrer semakin tidak beraturan. Selama proses
tungsten trioksida yang terbentuk pada
pengadukan, terjadi proses pembentukam
prekursor yang memiliki ikatan alkil sebagai temperatur kalsinasi 300 oC , 400 oC ,500 oC
penyusunnya. Unsur logam yang telah dan pada temperatur 600 oC struktur kristalnya
berikatan dengan alkohol dan membentuk adalah monoclinic (kartu JCPDS 72-1465).
ikatan alkil inilah yang akan menjadi

2
Jurnal Teknik Material dan Metalurgi
Institut Teknologi Sepuluh Nopember Surabaya, 2012

Analisa XRD untuk mengetahui struktur Tabel. 1 Ukuran kristal serbuk tungsten trioksida
Kristal menggunakan program Match. dari berbagai temperatur.
Gambar 4 menunjukkan pola XRD
yang mempunyai puncak – puncak difraksi T
λ(Ǻ) B(rad) Ө(o)
Cos D
(ºC) ө (nm)
yang sesuai dengan struktur WO3 monoklinik.
300 1.54056 0,0065153 40,7 0,76 28,07
Puncak-puncak yang tinggi terdapat pada 400 1.54056 0,0071593 11,84 0,98 19,79
sudut 2θ = 23.09º, 23.58º, dan 24.32º (JCPDS 500 1.54056 0,0063268 11,6 0,98 22,37
card no. 072-1465) yang menunjukkan bidang 600 1.54056 0,0040526 11,565 0,98 34,92
(002), (020) dan (200). Sedangkan pada sudut
2θ = 41,7o adalah pola difraksi dari substrat Secara umum, pola XRD
alumina (Al2O3) dengan bidang (006). menunjukkan puncak-puncak yang semakin
tajam dan intensitas yang semakin tinggi
dengan dengan kenaikan temperatur. Pada
temperatur kalsinasi 300 oC menunjukkan
ukuran kristal yang lebih besar dari temperatur
400 oC dan 500oC, karena pada hasil xrd
temperatur 300oC puncak tertingginya terdapat
pada 2θ = 81,4o. Sedangkan pada temperatur
400oC, 500 oC dan 600 oC tetap membentuk
sebuah trend yang menunjukkan bahwa
semakin bertambahnya temperatur maka
semakin besar ukuran kristal thin film WO3.

Analisa SEM
SEM biasanya digunakan untuk
meneliti morfologi suatu material. Gambar 5.
dari sampel Tungsten Trioksida setelah proses
kalsinasi.
Tungsten Trioksida setelah proses
kalsinasi dengan beberapa temperatur yang
berbentuk lembaran tipis semitransparan.
Partikel yang mengalami proses kalsinasi pada
temperatur 300ºC memiliki ukuran partikel
Gambar 4. Pola XRD pada serbuk tungsten sekitar 161 – 322 nm dengan ketebalan sekitar
trioksida yang telah dikalsinasi dengan berbagai 64 nm. Sedangkan pada temperatur 400ºC
temperatur. (a) 300ºC, (b) 400ºC, (c) 500ºC, dan (d) memiliki ukuran partikel sebesar 343 – 893
600ºC nm dengan bentuk kristal yang berbentuk segi
empat dan memiliki ketebalan sekitar 152 nm.
Ukuran kristal serbuk tungsten Pada temperatur kalsinasi 500ºC
trioksida diketahui dari persamaan Scherer. ukuran partikel serbuk berkisar antara 391 –
1043 nm, namun bentuk partikelnya kembali
D = _0.9λ_ kurang berbentuk dengan ketebalan sekitar
Β cosө 163 nm. Sedangkan pada temperatur 600 oC
memiliki ukuran partikel 407 – 1142 nm,
Dimana λ adalah panjang gelombang namun partikelnya kembali kurang berbentuk
radiasi (Ǻ), B adalah Full Width at Half dengan mempunyai ketebalan 260 nm.Pada
Maximum (rad) dan ө adalah sudut Bragg (o). temperatur 300oC dan 400oC, masih cenderung
Ukuran kristal serbuk tungsten trioksida dari membentuk agregat, yang menjadikan ukuran
berbagai temperatur kalsinasi dapat kita partikel terlihat besar. Dengan semakin
simpulkan bahwa semakin tinggi temperatur naiknya temperatur kalsinasi ukuran partikel
dari thin film Tungsten Trioksida semakin
kalsinasi semakin besar ukuran kristal tungsten besar.
trioksida ditunjukan pada Tabel 1. Perubahan bentuk dan ukuran partikel
teresbut disebabkan oleh transformasi fasa dan

3
Jurnal Teknik Material dan Metalurgi
Institut Teknologi Sepuluh Nopember Surabaya, 2012

pembentukan kembali dari partikel serta parameter, Seperti surface roughness analysis,
pertumbuhan kristal. Gambar tersebut juga root mean square (RMS), mean roughness
mengindikasikan bahwa partikel-partikel WO3 (Ra), height of particle (Rmax). Analisa yang
cenderung membentuk agregat dengan partikel diperoleh dapat diindikasikan bahwa film WO 3
yang lain. yang dipreparasi memiliki struktur nano
dengan karakteristik permukaan yang tidak
Analisa AFM merata.
Gambar 6 menunjukkan karakterisasi
pada uji AFM (Atomic Force Microscopy) Tabel 2. Nilai parameter kekasaran pada
dengan profile lapisan tipis WO3 yang dibuat thin film WO3
melalui pengkuran AFM. Gambar tersebut RMS Ra Rmax
876,9 nm 769,2 nm 1.538 nm
merupakan tampilan tiga dimensi dari
roughness analysis. Struktur nano dari lapisan
tipis WO3 yang dipreparasi dapat diobservasi
melalui foto AFM tersebut dari nilai beberapa

a b

c d

Gambar 5. Hasil Foto SEM thin film tungsten trioksida pada temperatur kalsinasi (a) 300ºC, (b) 400ºC, (c)
500ºC, dan (d) 600ºC dengan perbesaran 10.000x

a b

Gambar 6. Profile AFM : Lapisan WO3 yang dipreparasi dengan metode sol-gel dan proses kalsinasi pada
temperatur 400oC, (a) tampak 3 dimensi dan (b) tampak 2 dimensi.

4
Jurnal Teknik Material dan Metalurgi
Institut Teknologi Sepuluh Nopember Surabaya, 2012

Pengujian BET aktif material WO3 (w) dengan satuan


Pengujian BET (Bruner Emmet (Farad/gram). diperoleh data sebagai berikut
Teller) biasa digunakan untuk mengetahui
area permukaan aktif pada suatu
material. Pengujian BET dilakukan
dengan menggunakan alat Quantachrome iQ,
dengan diberikan pemanasan awal 300°C.
Hasil pengujian yang diperoleh adalah ukuran
luas permukaan dari serbuk Tungsten
Trioksida yang dapat menyerap gas Nitrogen
( dalam satuan m2/gr).
Tabel 3. merupakan hasil dari
pengujian BET dimana dengan semakin
naiknya temperatur kalsinasi, luas permukaan
aktif dari serbuk Tungsten Trioksida semakin
menurun. Hal ini berbanding terbalik dengan
ukuran diameter dari pori. Semakin tinggi
temperatur kalsinasi, semakin besar ukuran
pori dari sampel.

Tabel 3 Luasan permukaan aktif pada sampel uji


WO3
Feature 300ºC 400ºC 500ºC 600ºC
(WO3)
BET
surface area 83,94 15,004 11,201 4,505
m2/g
Rata-rata
diameter 16,4 108,3 156 268,5
pori (Å)

Pori-pori dari sampel WO3 pada


temperatur kalsinasi 300ºC termasuk kedalam
jenis micropores, dimana ukuran porinya
antara kurang dari 2 nm. Pori-pori dari sampel
WO3 pada temperatur kalsinasi 400ºC, 500ºC
dan 600ºC termasuk kedalam jenis mesopores
yang memiliki ukuran pori antara 2 – 50 nm.

Analisa Cyclic Voltammetry


Hasil dari pengukuran kapasitif pada
alat potentiostat menghasilkan kurva yang
selanjutnya di integrasi untuk mendapatkan
luasannya dengan menggunakan software
Origin. Luas integrasi ini digunakan untuk
menghitung nilai kapastif dengan
menggunakan rumus
 
C   idV / 2w Gambar 4.7 Hasil CV Thin film tungsten
trioksida pada temperatur kalsinasi 300 0C, 400
Perhitungan kapasitansi spesifik 0
C, 500 0C, dan 600 0C dengan scan rate (a) 50 mV
didefinisikan sebagai rasio dari arus yang / s, (b) 500 mV / s, dan (c) variasi scan rate
direspons (integrasi dari area (idV) di dalam temperatur 500 0C pada H2SO4 0,5 M.
diagram CV dibagi 2) dibagi dengan
kecepatan scanning potensial ( ) dan massa

5
Jurnal Teknik Material dan Metalurgi
Institut Teknologi Sepuluh Nopember Surabaya, 2012

Pada pengujian Cyclic Voltammetry Dari data tabel 4 dapat disimpulkan


terjadi reaksi faraday (charging – bahwa semakin besar nilai scanrate maka
discharging). Pada saat charging terjadi reaksi semakin kecil nilai kapasitif elektrokimia. Hal
oksidasi yaitu : W + 3H2O → WO3 + 6H+ + tersebut disebabkan karena proton dan
6e-1, sedangkan saat discharging terjadi reaksi elektron membutuhkan waktu untuk menyisip
reduksi yaitu : WO3 + 6H+ + 6e-1 → W + pada pori thin film WO3.
3H2O (Wenzhang,2010). Penyimpanan Dari rumus kapasitif terlihat bahwa
muatan (charging) dilakukan dengan oksidasi harga kapasitansi berbanding lurus dengan
dari bilangan oksidasi W yang mulai dari nilai integrasi area i – v dan berbanding terbalik
0 sampai menjadi +6, sedangkan pelepasan dengan massa spesifik dan scan rate. Dilihat
muatan (discharging) dilakukan dengan dari gambar 7 maka dapat diketahui bahwa
reaksi reduksi W yang mulai dari nilai +6 pada saat temperatur 500oC memiliki
sampai menjadi 0. Penyimpanan dan kemampuan yang paling baik untuk menjadi
pelepasan muatan listrik meliputi material kapasitor elektrokimia pada berbagai
penyimpanan dan pelepasan elektron serta scan rate. Hal tersebut diakibatkan karena
proton (H+). Nilai kapasitif elektrokimia konduktivitas dari material WO3 pada
dipengaruhi oleh beberapa hal, yaitu struktur temperatur kalsinasi 500oC adalah yang
dan ukuran kristal, ukuran partikel, morfologi paling tinggi dibandingkan dengan pada
permukaan, electronic conductivity, air pada temperatur kalsinasi 300oC, 400oC dan 600oC.
kristal dan kristalinitas.
Dari hasil uji konduktifitas dapat IV. KESIMPULAN
diperoleh nilai resistansi dari material thin Nanopartikel WO3 dapat disintesa
film WO3, pada temperatur 300ºC, 400ºC, dengan menggunakan metode sol-gel yaitu
500ºC dan 600ºC. dari hasil uji tersebut dengan penambahan ethanol dan NH4OH
didapatkan nilai terkecil pada temperatur serta melalui proses stirring pada prekursor
500ºC yang memiliki nilai resistansi sebesar WCl6 dan dilapiskan ke substrat Alumina
~50 Ω. Hal ini dapat mempengaruhi sifat (Al2O3) dengan teknik spincoating diikuti
kapasitif pada material thin film WO3. proses kalsinasi pada temperatur 300 oC, 400
o
C, 500 oC dan 600 oC.
Tabel 4 Kapasitansi Elektrokimia pada thin film Berdasarkan hasil XRD diketahui
WO3 struktur kristalnya monoclinic. Partikel-
300 400 500 600 partikel WO3 berbentuk lembaran tipis dan
2 mV 11,16 18,70 22,96 11,43 cenderung membentuk agregat dengan
partikel yang lain dengan semakin turunnya
5 mV 6,48 5,02 11,79 6,77
temperatur. Partikel tungsten trioksida
10 mV 4,00 3,61 7,20 5,28 memiliki ukuran partikel yang semakin besar.
25 mV 1,28 2,10 4,77 2,35 Terdapat 2 jenis pori yang diapatkan dari hasil
50 mV 0,73 1,25 2,56 1,41 BET yaitu micropores dan mesopores. Luas
200 mV 0,19 0,46 0,60 0,27 permukaan aktif dari sampel WO3 semakin
kecil dengan kenaikan temperatur kalsinasi.
500 mV 0,09 0,18 0,31 0,17
Dalam uji kapasitif kapasitor elektrokimia
WO3 dihasilkan nilai kapasitif terbesar
22,00 600 C terdapat pada sample dengan pemanasan pada
17,00
500 C temperatur 500oC scan rate 2mV/detik yaitu
400 C sebesar 22,96 F/gr. Semakin besar nilai
12,00 300 C scanrate maka semakin kecil nilai dari
kapasitif kapasitor dengan material WO3.
7,00
2,00 V. DAFTAR PUSTAKA
(3,00) 2 5 10 25 50 200 500 [1] Bushan, Bharat., 2003. ”Handbook of
mV mV mV mV mV mV mV Nanotechnology”. London Paris Tokyo: Springer-
Verlag New York Berlin Heidelberg.
[2] Champaiboon, T., Ruangsuttinarupap, S., dan
Gambar 8 Grafik hasil plot dari pengujian kapasitif Supothina, S., 2008. “Efficiency enhancement of a
elektrokimia tungsten oxide alcohol sensor”. CP16

6
Jurnal Teknik Material dan Metalurgi
Institut Teknologi Sepuluh Nopember Surabaya, 2012

[3] Chang, Kuo-Hsin,et.al.2011. “Microwave-assisted


hydrothermal synthesis of crystalline WO 3 -
WO3.0.5H2O mixture for pseudocapacitors of
the asymmetric type”. Taiwan : National Tsing
Hua University. Jurnal of Power Sources 196
: 2387 – 2392.
[4] Deepa, M. P.Signh, A.N. Sharma, S.A. Agnihorty.
2006. “Effect Humidity on structure and
electrochromic properties of sol-gel derived tungsten
oxide films”. Solar Energy Materials & Solar Cells 90 :
2665-2682.Bushan, Bharat.Handbook of
Nanotechnology.(2003)
[5] Deki, Shigehito, Alexis Bienvenu Béléké, Yuki Kotani,
Minoru Mizuhata. 2010.” Synthesis of tungsten oxide
thin film by liquid phase deposition”. Materials
Chemistry and Physics 123 : 614–619.
[6] Chris, 2008.”Bahan Baku Keramik”.Wordpress
[7] Haryo, Stefanus, 2011. “Pengaruh Kalsinasi
Terhadap Pembentukan Nanopartikel Tungsten
Trioksida Hasil Proses Sol-Gel”. Thesis. Surabaya :
Institut Teknologi Sepuluh Nopember, Jurusan T.
Material dan Metalurgi.
[8] Li , Wenzhang, et al.2010.”Visible light
photoelectrochemical responsiveness of self-organized
nanoporous WO3 films”. Electrochimica Acta 56 :
620–625.
[9] Sakka, S., 1980. “Handbook of Sol-gel Science and
Technology : Processing Characterization and
Applications”. New York Boston Dordrecht London
Moscow: Kluwer Academic Publishers.
[10] Sugiyono, 2002. “Kaji Numerik Proses di Dalam
Kalsiner”. Bandung : Institut Teknologi Bandung.
[11] Sun, Z., 2005. “Novel Sol-gel Nanoporous Materials,
Nanocomposites and Their Applications in
Bioscience”. Thesis.Drexel University.27-59
[12] Supothina, Sitthisuntorn., Panpailin Seeharaj, Sorachon
Yoriya, Mana Sriyudthsak. 2006. “Synthesis of tungsten
oxide nanoparticles by acid precipitation method”.
Ceramics Internasional 33 : 931-936
[13] Tamaki,J. Z. Zhang, K. Fujimori, M. Akiyama, T.
Harada, N. Miura,N. Yamazoe,“Grain-size effects in
tungsten oxide- based sensor for nitrogen oxides”, J.
Electrochem. Soc. 141 (1994) 2207–2210.
[14] Tananta, Lucky, 2011. “Sintesa Tungsten Trioksida
Nano Partikel Dengan Menggunakan Metode Sol
Gel Dan Proses Kalsinasi”. Thesis. Surabaya :
Institut Teknologi Sepuluh Nopember, Jurusan T.
Material dan Metalurgi.
[15] Wang, S.H., Chou, T.C., dan Liu, C.C., 2003. “Nano-
crystalline tungsten oxide NO2 sensor”. Journal
Sensors and Actuators B 94 : 343-351.

Anda mungkin juga menyukai