REAKSI LAPISAN KIMIA

Logam mulia dan paduan bereaksi dengan oksigen dan menghasilkan lapisan oksida,
begitu juga yang lain (nitirda, sulfide, dan chloride). Material non logam pun juga bisa bereaksi
dan terbentuk lapisan oksida. Contoh : silicon yang bercampur dengan udara membentuk lapisan
silicon dioksida. Kemunculan lapisan oksida tidak dapat diprediksi. Sebagai contoh pada
alumunium oksida, oksigen yang bereaksi adalah oksigen yang berasal dari udara yang tentunya
tidak bisa dipisahkan.Polimer tidak akan membentuk lapisan oksida.
Jika mekanisme terjadi terus menerus pada keadaan lingkungan, maka layer yang
dihasilkan tebal. Oksida adalah hasil dari faktor lingkungan, suhu dan lama proses. Ketebalan
lapisan10-100 nm, tergantug banyaknya lapisan yang terbentuk. Lapisan oksida juga bisa terjadi
karena proses permesinan atau benda yang saling bergesekan. Panas yang dilepaskan pada benda
yang bergesekan dapat meningkatkan laju oksida.
Pada saat 2 benda bergesekan di lingkungan bebas, maka reaksi pembentukan lapisan
oksida terjadi diantara 2 permukaan tersebut. Pemberian pelumas, dan zat adiktif dapat
meindungi permukaan dari reaksi oksidasi. Lapisan oksida bisa dibagi menjadi beberapa macam.
Contoh: besi yang menjadi besi oksida mengandung Fe2O3, Fe2O4, dan FeO.
Dengan adanya paduan pada logam, maka kandungan oksida juga bisa berubah. Contoh :
stainless steel, oksida terbentuk dari campuran besi oksida dan chromium oksida (CrO3). Lapisan
oksida terbentuk tipis di alumunium dan titanium. Pada besi, lapisan oksida mudah sekali untuk
terbentuk.

LAPISAN PHISIS

Berdasar penjelasan diatas, reaksi kimia bereaksi pada keadaan lingkungan yang terjadi
di logam maupun non logam. Contoh : gas inert (argon dan krypton) membuat permukaan bersih.
Uap air, oksigen dan hidrokarbon dari lingkungan mencarir dan menjadi 3 lapisan. Lapisan
pertama berukuran monomolekular (0.2 nm tebalnya) dan polymolekular.
Dengan phisis, tidak akan terjadi perpindahan electron dari 1 material ke material yang
lain. Proses phisis menerapkan hokum van der walls. Unuk menghilangkan lapisan phisis
tersebut dibutuhkan energy 1-2 kcal/mol atau -10-8 Pa.
 gambar phisis ada di gambar 2.2.1. Ikatan phisis terjadi di permukaan. Lapisan oli dan
grease dapat memindahkan partikel. Ketebalan grease yang terbentuk adalah 3 nm. Lapisan
grease disebabkan karena minyak oli merembes pada permukaan.

LAPISAN CHEMISORBED

Berkebalikan dengan phisis, chemisorbed memindah electron dari satu bagian ke bagian yang
lain. Permukaan benda yang memiliki ikatan kovalen memerlukan 10-100 kcal/mol energy untuk
menyerap suatu electron dari bagian yang lain. Pada chemisorber, saat berikatan kimia material
inti menutupi adsorbing. Chemisorbed terbatas hanya pada 1 lapisan. Suatu permukaan
dilindungi dengan lapisan chemisorbtion, phisis atau kimia.
2 kriteria yang membedakan macam type adsorbtion. Kriteria ke-1 yaitu adsorbtion panas
ikatan kimia > ikatan fisik, panas dari chemisorbtion > adsorbtion. Untuk memisahkan ikatan
phisis dibutuhkan 1-2 kcal/mol, sedangkan chemisorbtion dibutuhkan 10-100 kcal/mol). Criteria
yang lain adalah range dari suhu. Saat didiamkan, suhu chemisorption lebih tinggi daripada
adsorbed.
2 kriteria yang disebutkan diatas tidak digunakan untuk partikel yang aktif, struktur halus
berupa gas dan uap. Criteria yang masih bisa dipenuhi adalah energy aktivasi. Pada saat
chemisorbtion, dibutuhkan energy aktivasi. Sedangkan pada phisis, tidak dibutuhkan energy
aktivasi. Ketebalan juga menjadi pertimbangan criteria. Lapisan chemisorber terbentuk 1 lapisan,
dan lapisan physisorbed terbentuk dari 1 lapisan atau berlapis-lapis. Diagram schematic
menggambarkan phisis, chemisorbtion dan reaksi kimia

CARA MENGKARAKTERISASI LAPISAN PADA PERMUKAAN

Analisis permukan numerous biasa digunakan untuk mengkarakteristikan lapisan

permukaan. Property materil (struktur butir) dan lapisan yang terdeformasi dapat dilihat dengan
cara membagi dan melihat penampang dengan mikroskop opik / SEM (scanning electon
microscope). Kristal mikro dan dislokasi dapat dipelajari dengan emmbagi dan melihat pada
TEM (transmission electron microscope). Struktur kristal dan lapisan permukaan didapat dengan
sinar X, diffraction high energy/low energy electron.
 Analisa elemental (X-REDA) yaitu X-ray energy dispesivve analyzer yaitu SEM, AES,
EPMA, ISS, RBS, XRF. Analisa kimia dengan XPS dan SIMS. Ketebalan lapisan dapat diukur
dengan mengukur kedalaman permukaan dengan analisa simultaneously conductive surface.
Pengukuran ketebalan dan lapisan deformasi dapat mengetahui tegangan sisa didalam
permukaan. Analisa kimia untuk lapisan absorber organic dengan mass spectrometry, FTIR,
NMR, XPS.yang paling sering digunakan untuk mengukur ketebalan lapisan organic (termasuk
pelumasan) menggunakan XPS dan ellips symmetry.

ANALISA KEKASARAN PERMUKAAN (ST)

Tektus pada permukaan adalah deviasi dari tiga dimensi. ST dibagi menjadi 4 yaitu,
kekasaran (nano-mikro), gelombang (makro), flaw, dan cacat. Gambar 2.3.1 adalah gambar
tekstur permukaan. Kekasaran mikro dan nano terbentuk karena gelombang pendek yang
memiliki puncak dan lembah, aplitude dan ukuran molekul. Kekasaran dilihat dari puncak (2
dimensi) dan penampag permukaan (3 dimensi). Kekasaran nano dan mikro terjadi karena proses
produksi. Kekasaran juga harus memiliki batasan panjang.
Kekasaran permukaan disebabkan oleh defleksi, getaran, perlakuan panas, atau regangan
yang tak sejajar. Flaw biasanya disebabkan oleh proses produksi. Cacat tidak disengaja, tidak
bisa diprediksi dan tak diinginkan dalam material. Pada permukaan biasanya terdapat banyak
gelombang panjang yeng terdiri dari berbagai macam kerusakan. Pengukuran dan penentuan
tekstur bisa dipelajari dengan cara analitik dan arasempris.