Nama: Nor Annisa Rusmiati

NIM: 171081422001
Mata Kuliah: Proses Industri Kimia Anorganik

Soal:
Dalam produksi perangkat mikroelektronik, proses continuous chemical vapor deposition
(CVD) digunakan untuk menyimpan film silikon dioksida yang tipis dan seragam pada silikon.
Satu proses CVD melibatkan reaksi antara silane dan oksigen pada tekanan yang sangat rendah.
Reaksinya sebagai berikut:
SiH4 (g) + O2 (g) → SiO2 (s) + 2 H2 (g)
Gas umpan yang mengandung oksigen dan silane dalam perbandingan 8,00 mol O2 /mol
SiH4 memasuki reaktor pada suhu 298 K dan tekanan 3,00 torr absolut. Produk-produk reaksi
muncul pada 1375 K dan 3,00 torr absolut. Pada dasarnya semua silane dalam umpan
terkonsumsi.
a) Dengan mengambil basis 1 m3 gas umpan, hitung mol setiap komponen umpan dan campuran
produk dan tingkat reaksi, ξ (mol).
b) Hitung panas standar dari reaksi oksidasi silane (kJ/mol). Kemudian, dengan mengambil
umpan dan produk pada suhu 298 K (25 °C) sebagai referensi, tuliskan entalpi keluar dalam
bentuk tabel dan hitung jumlah komponen (mol) dan entalpi spesifiknya (kJ/mol).
Data:
 (Hf ) SiH4 (g) = -61.9 kJ/mol
 (Hf ) SiO2 (s) = -851 kJ/mol
 (Cp) SiH4 (g) [kJ/(mol K)] = 0,01118 + 12,2 x 10-5T – 5,548 x 10-8T2 + 6,84 x 10-12T3
 (Cp) SiO2 (s) [kJ/(mol K)] = 0,04548 + 3,646 x 10-5T – 1,009 x 103 / T2
 Suhu dalam rumus Cp adalah kelvin.
c) Hitung panas (kJ) yang harus ditransfer apakah ke atau dari reaktor? Dan tentukan laju
perpindahan panas (kW) yang diperlukan untuk umpan reaktor sebesar 27,5 m3 /jam
Jawaban :
a.) 298K; 3 torr 1375K; 3 torr
Reaktor
n1 SiH4 n1 SiO2
n2 O2 n2 2H2
Diketahui : Perbandingan 8 mol O2 / mol SiH4
Fraksi mol : Mol Campuran:

PV = nRT (Basis : 1 m3)

1 273 K 3 torr
= 1 m3 x 22,4 x 10−3 x 298 K x 760 torr

= 0,1614 mol
 8
X O2 = 8+1 = 0,8889
1
X SiH4 = 8+1 = 0,1111

Mol setiap komponen umpan (inlet) :

O2 = X O2 (mol campuran) = 0,8889 x 0,1614 mol = 0,1435 mol
SiH4 = X SiH4 (mol campuran) = 0,1111 x 0,1614 mol = 0,0179 mol
Mol setiap komponen produk (outlet) :
SiO2 = SiH4 = 0,0179 mol
H2 = 2 x 0,0179 = 0,0358 mol
Mol campuran produk = 0,0179 + 0,0358
= 0,0537 mol
Tingkat reaksi (ξ) :
O2 = 0,1435 mol
SiO2 = SiH4 = 0,0179 mol
H2 = 0,0358 mol

b. )
Zat nin (mol) Hin (kJ/mol) nout (mol) Hout (kJ/mol)
SiH4 0,0179 0
O2 0,1435 0 36,14
SiO2 0,0179 79,18
O2 0,0358 32,35

Panas Standar
(Hf ) = (Hf ) SiO2 - (Hf ) SiH4
= -851 kJ/mol – (-61,9 kJ/mol)
= -789,1 kJ/mol (Eksoterm)
C.)
H = ξ (Hf) + ∑nout x H out - ∑nin x Hin
 = (0,0179 mol x -789,1 kJ/mol) + (0,0179 mol x 79,18 kJ/mol) + (0,1435 mol x 36,14 )
+ (0,0358 mol x 32,35 kJ/mol)

H = -6,36 kJ/mol
Basis 27,5 m3/hour
−6,36 kJ 27,5 m3 1 hour
H = Q = x x 3600 s
m3 hour

= - 0,0485 kJ/s

H = Q = - 0,0485 kW
Jadi, nilai untuk
Panas yang ditransfer dari reaktor ke lingkungan = - 0,0485 kJ
Laju perpindahan panas yang diperlukan = - 0,0485 kW.