Semiconductores
Se debe tener en cuenta que el Silicio y Germanio son semiconductores con características para
portar corriente, esto dependen de la temperatura o la cantidad de luz que incide sobre ellos.
Al añadir impurezas a los semiconductores provocamos que estos tengan una mejor conductividad
eléctrica. Este proceso se conoce como dopado, se puede realizar de dos formas:
El depósito por baño químico es una técnica para preparar materiales en películas delgadas a
presión atmosférica y baja temperatura. Con este método es posible fabricar películas delgadas
de áreas grandes a un bajo costo. Este método se ha utilizado para semiconductores de
calcogenuros, principalmente sulfuros y seleniuros.
Esta técnica consiste básicamente en una serie de reacciones químicas que se llevan a cabo sobre
un sustrato sólido sumergido en la mezcla de reacción. El baño químico típicamente contiene
soluciones acuosas diluidas de una fuente de iones metálicos (generalmente una sal), un agente
acomplejante y una fuente de iones calcogenuro. Los compuestos iónicos cuando se disuelven en
agua se disocian en sus iones correspondientes, de manera que en solución los iones metálicos se
encuentran libres. El agente acomplejante, que puede ser un compuesto orgánico, tiene la función
de atrapar los iones metálicos en la reacción y liberarlos de manera paulatina, esto ocurre mediante
una reacción de equilibrio químico como se muestra:
𝑀 + 𝐴 ↔ 𝑀(𝐴) (1)[2]
Donde M es el ion metálico y A es el agente acomplejante.
La composición, estructura y morfología de las películas depositadas por baño químico son
altamente sensibles a las condiciones de depósito tales como: condiciones químicas del baño,
temperatura y naturaleza del sustrato. [2]