Disusun Oleh :
Nama Anggota/ NPM : 1. Indah Dwi.A (32417898)
2. Kevin Fachri (33417179)
3. Kukuh Yuli Cristianto (33417250)
4. Laurensius Bagas.T (33417285)
5. Ma’ruf Adi Prakoso (33417482)
6. Mila Dwi Utari (33417592)
7. Mochamad Panji. H (33417622)
8. Moh. Adi Nugraha (33417675)
9. Moh. Nur Bintang.S (33417697)
10. Mufadlizon Al.El (33417739)
11. M. Caesar. R (33417759)
12. M. Ihsan Akbar (34417061)
Kelompok : 2 (Dua)
Kelas : 2ID08
Senantiasa kita ucapkan puji dan syukur atas anugerah Tuhan Yang Maha
Esa yang hingga saat ini masih memberikan kita nikmat iman dan kesehatan,
sehingga kami diberi kesempatan yang luar biasa ini yaitu kesempatan untuk
menyelesaikan tugas penulisan makalah tentang “perkembangan dan pengetahuan
tentang processor buatan china”. Adapun penulisan makalah ini merupakan
bentuk dari pemenuhan beberapa tugas mata kuliah Proses manufaktur. Pada
makalah ini kami membahas tentang seluk beluk tentang processor buatan china.
Kami ucapkan terimakasih yang sebanyak-banyaknya kepada setiap pihak
yang telah mendukung serta membantu kami selama proses penyelesaian makalah
ini hingga rampungnya makalah ini. Penulis juga berharap semoga makalah ini
dapat memberikan manfaat bagi setiap pembaca.
Tak lupa dengan seluruh kerendahan hati, kami meminta kesediaan
pembaca untuk memberikan kritik serta saran yang membangun mengenai
penulisan makalah kami ini, untuk kemudian kami akan merevisi kembali
pembuatan makalah ini di waktu berikutnya.
Penuli
Melihat proses pembuatan processor
Pasir, seperempat bagiannya terbentuk dari silikon, yakni unsur kimia yang paling
berlimpah di muka bumi ini setelah oksigen. Pasir (terutama quartz), mempunyai
persentase silikon yang tinggi di dalam bentuk Silicon Dioxide (SiO2) dan pasir
merupakan bahan pokok untuk memproduksi semiconductor.
Setelah itu, ‘Ingot’ memasuki tahap pengirisan. ‘Ingot’ di iris tipis hingga
menghasilkan ‘silicon discs’, yang disebut dengan ‘Wafers’. Beberapa ‘Ingot’
dapat berdiri hingga 5 kaki. ‘Ingot’ juga memiliki ukuran diameter yang berbeda
tergantung seberapa besar ukuran ‘Wafers’ yang diperlukan. CPU jaman sekarang
biasanya membutuhkan ‘Wafers’ dengan ukuran 300 mm.
Setelah diiris, ‘Wafers’ dipoles hingga benar-benar mulus sempurna,
permukaannya menjadi seperti cermin yang sangat-sangat halus.
Cairan biru seperti yang terlihat pada gambar di atas, adalah ‘Photo Resist’ seperti
yang digunakan pada ‘Film’ pada fotografi. ‘Wafers’ diputar dalam tahap ini
supaya lapisannya dapat merata halus dan tipis.
Di dalam fase ini, ‘Photo Resist’ disinari cahaya ‘Ultra Violet’. Reaksi kimia yang
terjadi dalam proses ini mirip dengan ‘Film’ kamera yang terjadi pada saat kita
menekan shutter (Jepret!).
Daerah paling kuat atau tahan di ‘Wafer’ menjadi fleksibel dan rapuh akibat efek
dari sinar ‘Ultra Violet’. Pencahayaan menjadi berhasil dengan menggunakan
pelindung yang berfungsi seperti stensil. Saat disinari sinar ‘Ultra Violet’, lapisan
pelindung membuat pola sirkuit. Di dalam pembuatan Processor, sangat penting
dan utama untuk mengulangi proses ini berulang-ulang hingga lapisan-lapisannya
berada di atas lapisan bawahnya, begitu seterusnya.
Lensa di tengah berfungsi untuk mengecilkan cahaya menjadi sebuah fokus yang
berukuran kecil.
Dari gambar di atas, kita dapat gambaran bagaimana jika satu buah ‘Transistor’
kita lihat dengan mata telanjang. Transistor berfungsi seperti saklar,
mengendalikan aliran arus listrik di dalam ‘Chip’ komputer. Peneliti Intel telah
mengembangkan transistor menjadi sangat kecil sehingga sekitar 30 juta
‘Transistor’ dapat menancap di ujung ‘Pin’.
Setelah disinari sinar ‘Ultra Violet’, bidang ‘Photo Resist’ benar-benar hancur
lebur. Gambar di atas menampakan pola ‘Photo Resist’ yang tercipta dari lapisan
pelindung. Pola ini merupakan awal dari ‘transistors’, ‘interconnects’, dan hal
yang berhubungan dengan listrik berawal dari sini.
Setelah tersketsa, lapisan ‘Photo Resist’ diangkat dan bentuk yang diinginkan
menjadi tampak.
‘Photo Resist’ kembali digunakan dan disinari dengan sinar ‘Ultra Violet’. ‘Photo
Resist’ yang tersinari kemudian dicuci dahulu sebelum melangkah ke tahap
selanjutnya, proses pencucian ini dinamakan ‘Ion Doping’, proses dimana partikel
ion ditabrakan ke ‘Wafer’, sehingga sifat kimia silikon dirubah, agar CPU dapat
mengkontrol arus listrik.
Melalui proses yang dinamakan ‘Ion Implantation’ (bagian dari proses Ion
Doping) daerah silikon pada ‘Wafers’ ditembak oleh ion. Ion ditanamkan di
silikon supaya merubah daya antar silikon dengan listrik. Ion didorong ke
permukaan ‘Wafer’ dengan kecepatan tinggi. Medan listrik melajukan ion dengan
kecepatan lebih dari 300,000 Km/jam (sekitar 185,000 mph)
Setelah ion ditanamkan, ‘Photo Resist’ diangkat, dan materiil yang bewarna hijau
pada gambar sekarang sudah tertanam ‘Alien Atoms’
Transistor ini sudah hampir selesai. Tiga lubang telah tersketsa di lapisan isolasi
(warna ungu kemerahan) yang berada di atas transistor. Tiga lubang ini akan diisi
dengan tembaga, yang berfungsi untuk menghubungkan transistor ini dengan
transistor lain.
‘Wafers’ memasuki tahap ‘copper sulphate solution’ pada tingkat ini. Ion tembaga
disimpan ke dalam transistor melalui proses yang dinamakan ‘Electroplating’. Ion
tembaga berjalan dari terminal positif (anode) menuju terminal negatif (cathode).
Setelah hasil test menunjukan bahwa ‘Wafer’ lulus, ‘Wafer’ dipotong menjadi
sebuah bagian yang disebut ‘Dies’.
‘Dies’ yang lulus test, akan diikutkan ke tahap selanjutnya yaitu ‘Packaging’.
‘Dies’ yang tidak lulus, dibuang dengan percumanya . Ada hal yang lucu beberapa
tahun lalu, Intel
Ini adalah gambar satu ‘Die’, yang tadinya dipotong pada proses sebelumnya.
‘Die’ pada gambar ini adalah ‘Die’ dari
Upaya yang harus dilakukan pemerintah indonesia untuk menghadapi pasar china