BAB III

PENDEKATAN FORMULA

III.1 Bahan Pensuspensi

1.HPMC
Alasan penambahan :1) HPMC digunakan sebagai agen pensuspensi dan
sebagai agen penstabil dalam sediaan topikal
(Rowe dkk, 2009).
2) HPMC dapat bekerja sebagai koloid pelindung
yaitu mencegah tetesan air dan partikel
dari penggabungan atau aglomerasi sehingga
menghambat pembentukan endapan
(Rowe dkk, 2009).
3) HPMC memiliki viskositas yang stabil pada
penyimpanan jangka panjang (Atikumalasari
dkk, 2013).
Rumus Struktur :

RM/BM :-
Kelarutan : Larut dalam air dingin, membentuk larutan dalam
air panas, kloroform, etanol (95%), dan eter, tapi
larut dalam campuran etanol dan diklorometana,
dan campuran air dan alkohol (Rowe dkk, 2009).
Inkompatibilitas : Tidak kompatibel dengan beberapa agen
pengoksidasi (Rowe dkk, 2009).
Stabilitas : Bubuk HPMC adalah bahan yang stabil meskipun
bersifat higroskopis setelah pengeringan. Larutan
stabil pada ph 3-11 (Rowe dkk, 2009).
7
 8

Konsentrasi : 2-3 %
2. Kaolin
Alasan penambahan : 1) Pada konsentrasi tinggi kaolin memiliki
viskositas yang baik
2) Kaolin dengan konsentrasi 20% merupakan
konsentrasi terbaik ditinjau dari mutu fisik,
efektifitas, keamanan dan aseptabilitas
(Sumbogo, 2016)
Rumus Struktur :-

RM/BM : Al2H4O9Si2 /258,16

Kelarutan : Praktis tidak larut dalam eter, etanol (95%), air

pelarut organik lainnya, asam encer dingin dan
larutan alkali hidroksi (Rowe dkk, 2009).
Inkompatibilitas : Kaolin adsorben dari kaolin dapat mempengaruhi
penyimpanan obat oral lainnya. Diantaranya
amoksisilin, ampisilin, digoksin dan tetrasiklin
(Rowe dkk, 2009).
Stabilitas : Kaolin adalah bahan yang stabil, karena
merupakan bahan alami, kaolin umumnya mudah
terkontaminasi oleh mikroorganisme. Namun
o
kaolin dapat disterilkan pada suhu > 160 C
selama < 1 jam (Rowe dkk, 2009).
Konsentrasi : 20%

III.2 Bahan Pembasah

1. Propilenglikol
Alasan Penambahan : 1) Propilenglikol dapat berfungsi sebagai
humektan, pembasah, kosolven (Rowe dkk,
2009).
 9

2) Propilenglikol digunakan secara luas dalam

industri farmasi karena relative nontoksik
(Rowe dkk, 2009).
Rumus Struktur :

RM/BM : C3H8O2/ 76,09

Kelarutan : Dapat bercampur dengan air, etanol, kloroform,
larut dalam 6 bagian eter, tidak dapat bercampur
dengan minyak lemak (Rowe dkk, 2009).
Inkompatibilitas : Tidak kompatibel dengan beberapa agen
pengoksidasi seperti potasium permanganat
(Rowe dkk, 2009).
Stabilitas : Propilenglikol stabil pada suhu dingin, tetapi
dapat teroksidasi pada suhu tinggi (Rowe dkk,
2009).
Konsentrasi : 15 %

2. Gliserin
Alasan penambahan : 1) Gliserin dapat mampu mengikat air dari
udara dan dapat melembabkan kulit pada
atmosfer sedang/kondisi kelembaban tinggi.
Penambahan bahan dengan gliserin
menunjukkan tidak ada ikatan dengan kulit
dan mudah dibilas (Deni yuda, 2012).
 10

Rumus Struktur :

RM/BM : C3H8O3/92,09
Kelarutan : Dapat bercampur dengan air, etanol, kloroform,
tidak larut dalam kloroform, dalam eter, dalam
minyak lemak, dan dalam minyak volatil (Rowe
dkk, 2009).
Inkompatibilitas : Dapat meledak jika dicampur dengan oksidator
kuat (Rowe dkk, 2009).
Stabilitas : Higroskopis dengan adanya udara dan mudah
teroksidasi, mudah terdekomposisi dengan
adanya pemanasan, mengkristal pada suhu
rendah (Deni yuda, 2012).
Konsentrasi : < 30 %
3.Tween 80
Alasan penambahan : Penambahan tween akan memperlambat
pembentukan kristal, tween 80 digunakan
sebagai bahan pembasah karena kurang toksik
dan dapat bercampur dengan zat formulasi
(Tungadi, R, 2014).
Kelarutan : Mudah larut dalam air, dalam etanol, dalam
asetil asetat, dan dalam metanol. Sukar larut
dalam parafin cair (Rowe ,dkk, 2009).
Inkompatibilitas : Perubahan warna dan atau pengendapan terjadi
dengan berbagai zat terutama fenol, dan tanin
(Rowe dkk, 2009).
 11

Stabilitas : Stabil pada elektrolit asam lemah dan basa

lemah, penyimpanan lama dapat menyebabkan
perioksida (Rowe ,dkk, 2009).
Konsentrasi : 0,4-3 %
III.3 Bahan Pengawet
1. Metil Paraben
Alasan Penambahan : 1) Metil paraben secara luas digunakan sebagai
pengawet antimikroba dalam penggunaan
topikal (Rowe dkk, 2009).
2) Metil parebn dapat mengurangi pertumbuhan
bakteri dan mepengaruhi stabilitas fisik
sediaan (Anonim, 2012).
3) Metil paraben 0,18% dikombinasikan dengan
propil paraben 0,02% (Rowe dkk, 2009).
Rumus struktur :

RM/BM : C8H8O3/152,15
Kelarutan : Larut dalam 2 bgian etanol, 10 bagian eter, 60
bagian gliserin, 5 bagian propilenglikol, 400
bagiann air dan 50 bagian air panas (Rowe
dkk, 2009).
Inkompatibilitas : Aktivitas antimikroba berkurang terhadap
surfaktan non ionik seperti tween 80. tidak
kompatibel dengan bahan lain seperti bentonit,
tragakan dan natrium alginat(Rowe dkk, 2009).
 12

Stabilitas : Stabil pada pH 3-6 untuk disimpan pada suhu

kamar (Rowe dkk, 2009).
Konsentrasi : 0,18%

2. Propil paraben
Alasan penambahan : 1) Propil paraben aktif pada kisaran ph yang
luas dan memiliki spektrum antimikroba
yang luas
2) Konsentrasi propil paraben yang digunakan
0,02% dikombinasi dengan metil paraben
0,18% (Rowe dkk, 2009).
Rumus Struktur :

RM/BM : C10H12O3/180,20
Kelarutan : 1:1,1 dalam etanol, 1:250 dalam gliserin, 1:3,9
dalam propilenglikol 1:2500 dalam air (Rowe
dkk, 2009).
Inkompatibilitas : Aktivitas antimiroba berkurang dengan
surfaktan non ionik (Rowe dkk, 2009).
Stabilitas : Stabil pada pH 3-6 untuk disimpan pada suhu
kamar (Rowe dkk, 2009).
Konsentrasi : 0,02 %
3. Natrium Benzoat
Alasan penambahan : 1) Digunakan terutama sebagai pengawet,
antimiroba dalam kosmetik, makanan, dan
obat-obatan (Rowe dkk, 2009).
 13

2) Konsentrasi yang digunakan 0,1 %

Kelarutan : Sukar larut dalam air (Rowe dkk, 2009).

Inkompatibilitas : Tidak kompatibel dengan senyawa kuartenee,
gelatin, dapat bereaksi dengan surfaktan non
ionik (Rowe dkk, 2009).
Stabilitas : Stabil pda tempat sejuk dan kering (Rowe dkk,
2009).
Konsentrasi : 0,1-0,5%
III.4. Pendapar
Alasan Penggunaan dapar : 1) Adapaun digunakan dapar sitrat, karena pH dan
Pka dapar sitrat menedekati pH sediaan
2) Sistem dapar digunakan untuk menjaga pH
larutan agar kecepatan degradasi obat minimal
3) Dalam beberpa kasus baik asam maupun basa,
digunakan sebgai komponen dapar untuk
mengkatalis reaksi degradasi melalui katalis
asam spesifik atau basa spesifik
4) Dapar adalah larutan campuran senyawa yang
dapat mempertahankan pH
1. Asam sitrat (Rowe dkk, 2009)
Rumus struktur :

RM/BM : C6H8O7 / 192,124

Kelarutan : Larut1 bagian dalam 1,5 bagian etanol, < 1
bagian air, dan sedikit larut dalam etanol etanol
 14

Inkompatibilitas : Asam sitrat tidak kompatibel dengan dengan

kalim tartrat, alkali dan alkali tanah, karbonat
danbikarbonta, asetat, sulfida, agen oksidator
dan nitrat
Stabilitas : Asam sitrat kehilangan air kristal diudara kering
atau ketika dipanaskan sampai sekitar 40 o C
2. Natrium Sitrat Dihidrat (Rowe dkk, 2009)
Rumus Struktur :

RM/BM :-
Kelarutan : Larut 1 bagian dalam 1,5 bagian air, 0,6 bagian
air mendidih, praktis tidak larut dalam etanol
Inkompatibilitas : Tidak kompatibel dengan basa, zat pereduksi
dan oksidator
Stabilitas : Stabil larutannya dan dapat disterilkan dengan
autoklaf