5 - Larutan
5 - Larutan
MATERI
SAP V. LARUTAN
BAB V. LARUTAN
1.Komponen Larutan
2.Jenis Larutan
3.Konsentrasi Larutan
4. Sifat Koligatif Larutan
5. Sifat Koligatif Larutan Elektrolit
6. Sistim Koloid
PENGERTIAN LARUTAN
Tf = Kf x m Tf = 0 - Tf
4. Tekanan Osmosis
0oC
Tf Tb
Suhu
Sifat koligatif Larutan Elektrolit
ΔTb = Kb x m x i ΔTf = Kf x m x i
Tb = 100 + Tb Tf = 0 - Tf
πV = nRT x i i = 1 + (n – 1)α
Dimana
n = Jumlah ion dalam larutan
α = Derajat ionisasi
R = Tetapan Gas (0,0821 L.atm.mol-1.oK-1)
C = Konsentrasi Larutan
i = Faktor vant Hoff utk larutan elektrolit.
m = Molalitas larutan
T = Suhu Mutlak (oK)
Kb & Kf = Tetapan penaikan ttk didih & penurunan ttk beku.
ΔTb & ΔTf = Penaikan ttk didih & penurunan ttk beku.
Sistim Koloid
Sifat Khas Sistim Koloid
1. Efek Tyndall : Efek penghamburan cahaya oleh
partikel koloid.
2. Gerak Brown : Gerak partikel koloid secara acak.
3. Adsorpsi : Penyerapan partikel, ion, dan
senyawa lain pada permukaan
partikel koloid.
4. Koagulasi : Penggumpalan partikel koloid jadi
endapan
5. Koloid Liofil dan Liofob
Peristiwa Elektroforesis : Pergerakan partikel koloid
ke salah satu elektroda.
Dialisis : Pemurnian partikel koloid dari muatan
yang menempel dipermukaannya.
Pembuatan Sistim Koloid
Pembuatan Sistim Koloid
Kondensasi : Pembentukan koloid karena hasil
reaksi yang sukar larut dalam air.
1.Rx Redoks : 2H2S(g) + SO2(aq) 3S(s) + 2H2O(l)
2.Rx Hidrolisis :FeCl3(aq) +3H2O(l) Fe(OH)3(s) +3HCl(aq)
3.Rx Subtitusi :2H3AsO3(aq)+ 3H2S(g) As2S3(s)+ 6H2O(l)
Dispersi : Partikel besar diubah menjadi
partikel koloid
Mekanik : Partikel besar digerus hingga
terbentuk partikel koloid.
Busur Bredig : Uap logam yang terkondensasi
membentuk partikel koloid.
Peptisasi :Pengubahan endapan jadi partikel
koloid dengan penambahan zat kimia.
Soal Latihan
1.
Soal Latihan
2.
Soal Latihan
3.
4.
Soal Latihan
5.
TERIMA KASIH
SELAMAT BELAJAR