net/publication/362988571
CITATIONS READS
3 1,300
1 author:
Purwanto Purwanto
Universitas Diponegoro
249 PUBLICATIONS 974 CITATIONS
SEE PROFILE
Some of the authors of this publication are also working on these related projects:
Implementation of Cleaner Production and Ecoefficiency to Enhance the Eco Industrial Park (EIP) Development View project
All content following this page was uploaded by Purwanto Purwanto on 27 August 2022.
TEKNOLOGI INDUSTRI
ELEKTROPLATING
TEKNOLOGI INDUSTRI
ELEKTROPLATING
PURWANTO
SYAMSUL HUDA
i
TEKNOLOGI INDUSTRI ELEKTROPLATING
ISBN – 979-704-360-6
ii
Kata Pengantar
Banyak produk-produk yang dilapis dengan cara elektroplating atau lapis
listrik untuk keperluan dekoratif maupun perlindungan terhadap korosi,
yang dijumpai pada peralatan rumah tangga sampai pada peralatan
pertanian dan industri besar. Elektroplating dapat dikembangkan sebagai
suatu usaha jasa industri, terutama bagi para lulusan sekolah dan perguruan
tinggi yang saat ini sebagai pencari kerja untuk mulai menekuni bidang
wirausaha.
Pengalaman penulis yang telah lama berkecimpung pada sektor industri
elektroplating, tergerak untuk menuangkannya dalam tulisan teknologi
elektroplating yang dapat dengan jelas dipraktekkan dan dikembangkan.
Buku teknologi elektroplating untuk berbagai jenis logam disajikan secara
jelas untuk keperluan pengembanagn industri dengan pemecahan masalah
secara ilmiah. Kepada para mahasiswa bidang ilmu teknik, buku ini dapat
dipakai sebagai dasar untuk melakukan percobaan dan penelitian
permasalahan elektroplating beserta penanganan limbahnya.
Para lulusan perguruan tinggi yang ingin berwirausaha elektroplating baik
berskala mikro, kecil maupun menengah dapat menggunakan buku ini
sebagai pedoman awal. Industri kecil dan menengah merupakan salah satu
sektor yang mampu bertahan di tengah-tengah krisis yang berkepanjangan.
Industri kecil dan menengah mempunyai sifat yang fleksibel karena dapat
dikembangkan dari skala mikro dengan tenaga kerja satu dua orang sampai
dengan skala kecil dan menengah dengan omset milyaran rupiah dan
tenaga kerja ratusan orang.
Penulis memberi kesempatan diskusi dan konsultasi bagi pembaca yang
ingin mengetahui lebih dalam mengenai usaha jasa elektroplating beserta
seluk beluk dan kiat-kiat mengembangkan industri kecil dan menengah
yang mandiri dan tangguh.
Semoga Tuhan Yang Maha Esa memberi jalan kepada kita semua dan para
pemuda yang ingin mengembangkan diri menjadi wirausahawan yang
maju dan tangguh.
iii
iv
DAFTAR ISI
Kata Pengantar iii
Daftar Isi v
Daftar Tabel ix
Daftar Gambar x
1. PENDAHULUAN 1
2. PRINSIP KERJA ELEKTROPLATING 5
2.1. Definisi 5
2.2. Prinsip Kerja Elektroplating 7
2.3. Berat Endapan pada Katoda 8
2.4. Faktor Yang Berpengaruh Pada Plating 13
3. PERALATAN, BAHAN, OPERASI ELEKTROPLATING 19
3.1. Peralatan Elektroplating 19
3.2. Bahan-bahan Kimia Elektroplating 30
3.3. Operasi Elektroplating 31
4. PERSIAPAN BENDA KERJA 35
4.1. Tujuan 35
4.2. Penghilangan Minyak 35
4.3. Penghilangan Kerak 36
4.4. Pengasahan 37
4.5. Pembersihan 38
4.6. Pencelupan 40
Pelapisan pada bahan non konduktif seperti kayu, kaca, plastik banyak juga
diterapkan. Salah satu aplikasi yang cukup terkenal dan memerlukan
ketelitian dan kehalusan tinggi yaitu plating emas pada bahan keramik
bentuk piringan untuk cindera mata. Beberapa jenis plastik yang dapat
dibuat untuk menghantarkan arus seperti ABS, selanjutnya dapat dilapisi
logam untuk keperluan dekoratif.
2.1. DEFINISI
Elektroplating
Elektroplating didefinisikan sebagai perpindahan ion logam dengan
bantuan arus listrik melalui elektrolit sehingga ion logam mengendap pada
benda padat konduktif membentuk lapisan logam. Ion logam diperoleh dari
elektrolit maupun berasal dari pelarutan anoda logam ke dalam elektrolit.
Pengendapan terjadi pada benda kerja yang berlaku sebagai katoda.
Lapisan logam yang mengendap disebut juga sebagai deposit. Dalam
pembahasan selanjutnya digunakan istilah plating atau lapis listrik atau
pelapisan logam yang maksudnya adalah elektroplating.
Ion
Ion merupakan atom atau molekul bermuatan listrik positif atau negatif.
Atom atau molekul bermuatan positif bila mempunyai proton lebih besar
daripada elektron. Suatu ion logam atau molekul bermuatan positif bila
melepas elektron disebut Kation. Muatan negatif diperoleh bila suatu atom
atau molekul menerima elektron disebut Anion.
Elektron
Elektron adalah bagian dari suatu atom yang mempunyai massa sangat
kecil dan bermuatan negatif. Proton merupakan partikel atom yang
menentukan massa atom dan bermuatan positif. Sedangkan neutron
merupakan partikel bermassa tetapi tidak bermuatan.
Arus listrik
Arus listrik pada dasarnya adalah aliran elektron, yang dapat mengalir dari
satu atom ke atom lainnya. Bila arah arus selalu sama setiap saat disebut
sebagai arus searah (DC : direct current), dan bila terjadi arah balik
terhadap arah dasarnya disebut sebagai arus bolak-balik (AC : alternating
current). Arus yang dipakai pada elektroplating adalah arus searah. Sumber
arus DC dapat diperoleh dari accumulator, batu baterai atau dengan
mengubah arus AC menjadi DC dengan menggunakan adaptor atau
rectifier.
Elektrolit
Elektrolit merupakan suatu larutan yang mengandung ion-ion sehingga
dapat menghantarkan arus listrik. Sebagai contoh elektrolit untuk plating
tembaga mengandung senyawa tembaga sulfat (CuSO4) yang terurai dalam
larutan membentuk ion positif Cu2+ dan ion negatif SO42-. Untuk
memperbesar hantaran arus listrik ditambahkan asam sulfat (H2SO4) yang
terurai menjadi ion positif H3O+ (berasal dari H2O + H+ = H3O+) dan ion
negatif SO42-
Elektroda
Apabila dua buah benda padat disambungkan dengan arus listrik dan
dicelupkan ke dalam elektrolit, bagian yang tersambung dengan kutub
positif disebut sebagai anoda dan yang tersambung dengan kutub negatif
disebut sebagai katoda. Anoda terdiri dari dua macam yaitu anoda aktif
yang akan larut ke dalam larutan seperti anoda tembaga (Cu), nikel (Ni)
dan anoda inaktif yang tidak akan terionisasi seperti karbon (C).
Penghantar arus
Katoda
Mn+
Mo
Bak plating
Sumber arus
searah, DC Larutan
elektrolit
Sumber arus listrik searah dihubungkan dengan dua buah elektroda yaitu
elektroda yang dihubungkan dengan kutub negatif disebut sebagai katoda
dan elektroda positif disebut anoda. Benda yang akan dilapisi harus bersifat
konduktif atau menghantarkan arus listrik dan berfungsi sebagai katoda,
disebut sebagai benda kerja. Pada elektroplating dengan anoda aktif
digunakan anoda logam yang mempunyai kemurnian tinggi. Arus mengalir
dari anoda menuju katoda melalui elektrolit.
Proses pelapisan pada benda kerja dilakukan pada suatu elektrolit yang
mengandung senyawa logam. Untuk meningkatkan hantaran arus dapat
Mn+ + ne → Mo
Ion logam dalam elektrolit yang telah tereduksi dan menempel di katoda,
posisinya akan diganti oleh anoda logam yang teroksidasi dan larut dalam
elektrolit atau dari penambahan larutan senyawa logam.
Mo → Mn+ + ne
W =ZIt
dengan :
W : berat endapan , gr
I : kuat arus , Amper
t : waktu, dt
Z : BE / 96.500
BE : berat ekuivalen = BA / valensi
BA : berat atom (contoh untuk Cu = 63,5)
Valensi, v : banyaknya elektron yang diterima untuk
membentuk endapan. Valensi tembaga pada
tembaga sulfat, Cu = 2
Contoh 1 :
Benda kerja berupa besi berat 1 kg dilapisi dengan tembaga menggunakan
arus sebesar 4 amper selama 20 menit (1200 dt). Berat tembaga yang
mengendap adalah sebesar :
(63,5/2)
W = ----------- (4)(1200) gr = 1,579 gr
96500
Contoh 2 :
Sebuah silinder dengan panjang 50 cm dan diameter 15 cm dilapisi
tembaga dengan ketebalan yang diinginkan sebesar 0,02 mm. Berat jenis
tembaga adalah 8,93 gr/cm3, berapa lama proses elektroplating dilakukan
bila arus yang dipakai 100 Ampere?
Volume plating,
V = x (diameter)x panjang x tebal
= (3,14)(15)(50)(0,002) cm3
= 4,71 cm3
Waktu plating,
t = W / (Z x I)
Kondisi plating yang baik bila diperoleh efisiensi katoda sama dengan
efisiensi anoda, sehingga konsentrasi larutan bila menggunakan anoda aktif
akan selalu tetap.
Anoda : 2H+ + 2e → H2
Katoda : 4OH -
→ 2H2O + O2 + 4e
4H+ + 4OH - → 2H2O + H2 + O2
= W’ / W
dengan :
W’ : berat nyata endapan pada katoda
W : berat teoritis endapan pada katoda menurut Hukum
Faraday
Contoh 3 :
(63,5/2)
W = ----------- (4)(1200) gr
96500
= 1,579 gr
Bila efisiensi arus pada katoda sebasar 90 %, berat lapisan nyata pada
benda kerja sebesar :
W’ = (0,9) (1,579) gr
= 1,421 gr
Pada elektroplating tembaga (Cu) dan krom (Cr) dengan kerapatan arus
46 A/dm2 selama 90 menit, diperoleh endapan Cu seberat 18,52 gram dan
endapan Cr seberat 0,959 gram. Hitung efisiensi plating Cr, bila efisiensi
plating tembaga sebesar 100 %.
W = (BA x I x t )/ ( z x 96.500)
18,52 = ( 63,5 x I x t )/ (2 x 96.500)
Ixt = (18,52 x 2 x 96.500 )/ (63,5)
= 56.290 couloumb
Plating krom :
W = (BA x I t) / ( z x 96.500 )
= (52 x 56.290) / ( 6 x 96.500)
= 5,05 gr
Berat lapisan krom sebenarnya adalah 0,959 gr
Efisiensi plating Cr :
Konsentrasi Elektrolit
Larutan elektrolit terdiri dari komponen utama berupa senyawa logam
dalam bentuk garam terlarut dan asam atau basa. Senyawa logam
merupakan sumber logam yang menempel pada benda kerja. Larutan asam
atau basa dalam elektrolit berfungsi untuk meningkatkan konduktivitas
atau daya hantar listrik.
Sirkulasi Elektrolit
Distribusi ion-ion di dalam elektrolit seringkali tidak merata disebabkan
adanya kelebihan ion negatif di sekitar katoda karena terjadinya
perpindahan ion logam positif yang mengendap, sedangkan di sekitar
Rapat Arus
Berdasarkan hukum Faraday, banyaknya endapan sebanding dengan kuat
arus. Akan tetapi dalam praktek, besaran yang diperlukan untuk plating
adalah rapat arus yaitu arus per satuan luas, biasanya dinyatakan dalam
Amper/dm2 (A/dm2) atau Amper/ft2 (A/ft2). Rapat arus antara anoda dan
katoda besarnya berbeda dan rapat arus katoda merupakan besaran yang
perlu diperhatikan agar kualitas endapan pada katoda berkualitas baik dan
tidak sampai terbakar.
Semakin besar rapat arus maka laju plating makin cepat dan waktu yang
diperlukan untuk memperoleh endapan dengan ketebalan tertentu akan
makin singkat. Pada praktek bila benda yang dilakukan plating berjumlah
banyak atau luasan benda besar maka diperlukan arus yang besar dan
kemudian diturunkan bila jumlah benda sedikit atau luasan benda kecil.
Rapat arus yang terlalu tinggi menyebabkan terjadiya panas sehingga
benda kerja yang diplating dapat terbakar dengan ditandai warna yang
menghitam.
Tegangan
Tegangan yang diperlukan untuk proses elektroplating tergantung dari
jenis, komposisi dan kondisi elektrolit. Rapat arus dapat dinaikkan dengan
menaikkan tegangan, akan tetapi hal ini dapat menyebabkan terjadinya
polarisasi dan tercapainya tegangan batas. Pada keadaan tegangan batas,
tidak terjadi aliran arus melalui elektrolit, dan bila tegangan dinaikkan akan
terjadi elektrolisis air yang menghasilkan gas hidrogen dan oksigen.
Distribusi Arus
Lintasan arus dari anoda ke katoda tidak semuanya lurus tetapi cenderung
melengkung terutama yang berasal dari ujung anoda ke ujung katoda.
Keadaan ini menyebabkan rapat arus ke ujung-ujung katoda menjadi lebih
besar sehingga endapan yang terbentuk pada bagian ujung cenderung lebih
tebal. Itulah sebabnya apabila melakukan plating batangan besi dengan
tembaga ataupun silinder dengan tembaga dan krom sering dihasilkan
ujung-ujung silinder cenderung lebih tebal dibandingkan pada bagian
tengah.
Temperatur
Temperatur berpengaruh terhadap konduktivitas. Temperatur semakin
tinggi menyebabkan konduktivitas larutan makin besar sehingga
mempercepat hantaran arus listrik. Pada temperatur tinggi dapat diperoleh
rapat arus yang besar dan juga mempertinggi tegangan batas polarisasi.
Namun demikian setiap jenis plating mempunyai rentang temperatur
operasi optimum yang berkaitan dengan sifat endapan logam pada benda
kerja maupun sifat dari aditif. Temperatur yang terlalu tinggi dapat
menyebabkan endapan terbakar dan terjadi kerusakan aditif.
Rapat arus yang besar cenderung membuat lapisan pada ujung-ujung benda
kerja menjadi lebih tebal karena mendapat rapat arus yang lebih besar.
Keadaan ini dapat diatasi dengan pemasangan pemecah arus dari bahan-
bahan isolator seperti plastik berbentuk gerigi yang dipasang antara anoda
dengan ujung benda kerja. Idealnya pemasangan anoda-katoda tepat
berhadap-hadapan pada jarak yang sama, namun dalam praktek hal ini
jarang dapat dilakukan dan menyebabkan daya tembus tidak sama.
Pengaruh lanjut dari daya tembus adalah distribusi arus sekunder sebagai
hasil antara distribusi arus primer dan polarisasi.
Aditif
Aditif merupakan zat tambahan dengan jumlah kecil dimaksudkan untuk
mengatur pertumbuhan kristal sehingga diperoleh hasil plating dengan
kualitas yang baik meliputi kecerahan atau kekilapan (bright) dan
kekerasan (hard). Pemberian aditif dapat pula memperbaiki leveling. Aditif
umumnya berupa senyawa organik yang bekerja pada rentang temperatur
tertentu dan dapat rusak selama proses berlangsung. Oleh karena itu
kontrol dan tambahan aditif diperlukan bila terjadi penurunan kualitas hasil
plating, misalnya endapan tidak lagi cemerlang dan menjadi rapuh.
Kontaminan
Adanya padatan yang melayang-layang, tersuspensi maupun terlarut dalam
elektrolit dapat menyebabkan kontaminasi bagi elektrolit yang berpengaruh
pada kualitas hasil plating. Padatan yang melayang-layang dapat pula ikut
mengendap di katoda sehingga hasil plating pada benda kerja menjadi
kasar. Adanya ion logam yang tak dikehendaki dapat menyebabkan
terjadinya noda-noda atau bintik-bintik pada pemukaan plating.
Peralatan untuk persiapan benda kerja meliputi bak asam, pemanas, bak
alkali, bak pencucian dan pembilasan dan mesin polishing dan grinding.
Peralatan yang digunakan untuk finishing setelah plating meliputi bak
pewarna dan mesin pengering (drier).
Penghantar arus
Katoda
filter
Anoda
Bak plating
Catu daya, pompa
DC
heater Larutan
blower elektrolit
Gambar 3.5. Bak plating dengan bahan poli vinil klorida (PVC)
Tanki bentuk silinder dapat memanfaatkan tempat bahan kimia yang sudah
tidak digunakan lagi. Sedangkan bak plating umumnya berbentuk persegi
panjang yang terbuka bagian atasnya, terbuat dari bahan lembaran baja,
kayu atau beton yang dilapis plastik.
Elektroda
Anoda yang digunakan dapat berbentuk plat maupun bola. Pada
prinsipnya besarnya atau luasan anoda disesuaikan dengan luasan
benda yang akan dilapisi, namun pada praktek cukup disesuaikan
dengan ukuran bak plating. Anoda perlu dibungkus dengan kain
agar kotoran-kotoran dapat tertahan pada kain dan tidak terikut ke
dalam larutan elektrolit.
Penghantar
Penghantar yang digunakan berupa bahan yang mempunyai hantaran arus
yang besar, biasanya berupa tembaga atau campurannya berbentuk kabel,
batangan plat ataupun pipa.
Barrel
Alat ini berupa tabung yang berdinding plastik yang berlubang – lubang
dengan diameter sekitar 0,4 m dan panjang sekitar 0,6 m. Pada prinsipnya
merupakan alat kontak listrik antara pensuplai arus listrik dengan benda
kerja. Benda kerja dengan ukuran kecil–kecil dan berjumlah banyak yang
sulit digantungkan pada penghantar kutub negatif, dilakukan plating
menggunakan barrel yang berputar.
Pompa
Pompa digunakan untuk sirkulasi larutan elektrolit sehingga komposisi dan
temperatur larutan di dalam tanki dapat seragam. Pompa yang digunakan
haruslah disesuaikan dengan sifat-sifat elektrolit, seperti pompa untuk
larutan asam perlu dipilih bahan konstruksi yang tahan terhadap asam.
Filter
Filter digunakan untuk menyaring partikel-partikel atau kotoran-kotoran
yang melayang-layang di dalam elektrolit. Padatan-padatan ini merupakan
kontaminan yang dapat mengakibatkan terbentuknya lapisan yang kasar.
Blower
Blower mengalirkan udara bertekanan rendah, dihubungkan dengan pipa
untuk mensuplai udara ke dalam tanki yang mengandung larutan elektrolit.
Agar udara bersih maka perlu dipasang filter udara sebelum dimasukkan
ke bak plating.
Kompresor
Kompresor digunakan untuk pengeringan cairan sisa yang menempel pada
benda kerja dengan cara meniupkan udara bertekanan. Agar udara yang
keluar dari kompresor bersih perlu ditambahkan filter udara agar kotoran
dan minyak pelumas dapat tertahan pada filter.
Pemanas (Heater)
Untuk memanaskan larutan dapat menggunakan koil-koil listrik yang
terbungkus kaca tahan panas. Pembungkus koil pemanas dapat juga
menggunakan baja tahan karat (stainless steel) atau titanium. Pemanasan
Pendingin (Cooler)
Pendingin biasanya digunakan untuk plating yang beroperasi pada
temperatur relatif rendah atau kondisi temperatur plating yang disyaratkan
batas atas tertentu misalnya pada pelapisan tembaga asam atau krom keras
(Hard Chrome). Dalam kedua larutan tersebut temperatur yang melebihi
batas atas yang disyaratkan dapat menurunkan unjuk kerja larutan plating.
Pendingin dapat menggunakan kumparan-kumparan dari bahan yang tahan
terhadap korosi seperti titanium.
Bak Pembersihan
Bak pembersihan ada 2 macam yaitu untuk tempat pembersihan minyak
berikut bahan-bahan organik dan bak untuk penghilangan kerak berikut
bahan-bahan anorganik. Selain itu diperlukan juga bak untuk pencucian
dan pembilasan. Bak untuk pembersihan minyak biasa terbuat dari bahan
baja tahan karat yang berbentuk persegi panjang, di dalamnya diisi dengan
larutan pembersih logam (metal cleaner) yang dipanaskan pada temperatur
sekitar 90oC. Bak asam terbuat dari bahan plastik, sedangkan bak
pencucian dan pembilasan dapat dibuat dari bahan plastik maupun bahan
yang terlapis plastik.
Mesin polishing
Mesin pengasah atau pemoles (polishing) terdiri dari motor penggerak
yang didudukkan secara tetap di lantai sehingga pada saat digunakan tidak
terjadi getaran. Motor digunakan untuk menggerakkan roda poles (polish),
roda buffing maupun gerinda (grinding) untuk memperhalus permukaan
benda kerja.
Alat Pengering
Alat pengering berupa oven bersifat opsional. Pengeringan dengan oven
menggunakan pengering listrik yang dilengkapi dengan hembusan udara
panas, atau secara tradisional menggunakan pemanas kompor minyak
Garam merupakan persenyawaan antara ion positif terutama ion logam dan
kation dengan ion negatif (anion). Tembaga sulfat, nikel klorida adalah
contoh senyawa garam.
Daftar istilah dan nama bahan kimia yang dipakai pada elektroplating baik
berupa oksida, asam, basa, dan garam ditunjukkan pada Tabel 3.1.
Nama dagang /
SENYAWA Nama Indonesia nama Inggris Wujud
OKSIDA
Cr2O3 Asam kromat Chromic acid Padat,
higroskopis
ZnO Seng oksida Zinc oxide Padat
ASAM
HCl Asam klorida Hydrochloric acid Cair
(Larutan 33 %)
H2SO4 Asam sulfat Sulphuric acid Cair, 98 %
HNO3 Asam nitrat Nitric acid Cair
H3PO4 Asam fosfat Phosphoric acid Cair
H3BO3 Asam borat Boric acid Padat
CH3COOH Asam asetat Acetic acid Cair
BASA
KOH Kalium (potasium) Potassium Padat
hidroksida hidroxide
NaOH Natrium (sodium) Sodium hidoxide Padat
hidroksida (Caustic soda)
(Soda api)
NH4OH Amonium Ammonia Cair
hidroksida
GARAM
CuCN Tembaga sianida Cupros cyanide Padat
CuSO4 Tembaga sulfat Cupric sulphat Padat
KCN Kalium sianida Potassium cyanide Padat
NaCN Natrium (sodium) Sodium cyanide Padat
sianida
Na2CO3 Natrium karbonat Sodium carbonate Padat
(Soda abu) (Ash soda)
NaHCO3 Natrium Sodium Padat
bikarbonat bicarbonate
(Soda kue) (Cake soda) Padat
NiCl2 Nikel klorida Nickel chloride Padat
NiSO4 Nikel sulfat Nickel sulphate Padat
POLISHING
PEMBERSIHAN ALKALI
PENCELUPAN ASAM
ELEKTROPLATING
PEWARNAAN
COATING
PENGERINGAN
4.1. TUJUAN
Dalam polishing maupun buffing, benda kerja digosokkan pada roda yang
berputar yang permukaannya diberi abrasive dalam berbagai tingkat
kehalusan yang berbeda. Roda terbuat dari kain kanvas, katun atau kulit,
tergantung pada kelenturan yang diinginkan. Kelenturan didasarkan pada
bentuk dan kondisi permukaan dari benda kerja yang dipoles. Pada
umumnya, roda-roda yang lebih kaku digunakan untuk operasi-operasi
poles yang lebih kasar. Roda-roda yang lebih lentur digunakan untuk poles
yang halus pada permukaan yang tidak teratur. Abrasive dipakai pada
permukaan roda dan direkatkan padanya dengan menggunakan perekat
(lem) yang kuat.
Pengerjaan poles dimulai dari abrasive nomer yang kecil hingga yang
besar atau dengan kata lain dari butiran abrasive yang kasar dulu hingga
butiran yang halus. Operator menentukan ukuran butiran yang cocok
Pada tahapan akhir pemolesan dan untuk mencapai hasil yang paling halus,
permukaan roda poles dilumasi dengan sedikit lemak. Pemolesan pada
bahan-bahan lunak seperti aluminum atau seng dan campurannya,
digunakan pelumasan untuk mengurangi pengaruh panas sebagai akibat
gesekan selama pengerjaan.
Buffing
Buffing merupakan operasi semacam pemolesan dengan menggunakan
abrasive yang sangat halus. Bahan abrasive pada buffing dicampur dengan
bahan pengikat atau perekat menjadi suatu campuran dalam bentuk
batangan. Bahan campuran ini selanjutnya dipergunakan pada roda buffing,
dan permukaan yang dikerjakan selama operasi buffing dipegangi
berlawanan dengan arah roda.
Penyikatan (Brushing)
Penyikatan dilakukan untuk menghilangkan kerak atau oksida maupun cat
dari permukaan benda kerja menggunakan kawat baja. Brushing biasanya
dilakukan sebelum pemolesan dan dikombinasi dengan pickling.
Pembersihan mekanis ini sering dipakai juga sebagai pengganti poles
untuk permukaan yang tidak memerlukan kehalusan yang tinggi. Brushing
juga dilakukan untuk benda-benda yang tidak dilakukan pickling dengan
alasan ketahanan benda kerja terhadap senyawa kimia pickling rendah.
4.5. PEMBERSIHAN
4.6. PENCELUPAN
Bahan pencelup berfungsi pula sebagai pengaktivasi benda kerja yang akan
diplating seperti bahan-bahan yang terbuat dari baja, kuningan, seng dan
alumunium. Bahan pencelup yang dipakai umumnya adalah larutan asam
kuat yaitu asam klorida (HCl) dan asam sulfat (H2SO4). Untuk keperluan
praktis di lapangan dan penghematan biaya operasi dapat menggunakan
larutan asam kuat teknis.
CN- + H+ → HCN
Banyak sekali bahan-bahan dari besi atau baja yang dilapis dengan logam
seng dengan berbagai tujuan, diantaranya adalah untuk :
▪ melindungi bahan dasar dari korosi
▪ memberikan suatu dasaran yang bagus untuk pengecatan
▪ memberikan penampilan yang lebih bagus dan menarik dari benda
dasarnya
Peralatan plating seng terdiri dari rectifier, bak plating, anoda seng,
penghantar, dan dengan atau tanpa barrel, pompa serta filter.
Larutan elektolit yang digunakan untuk pelapisan seng ada tiga macam
yaitu larutan sianida, larutan basa dan larutan asam. Larutan yang paling
banyak digunakan di industri yaitu larutan sianida dengan komponen
utamanya seng oksida (zinc oxide), soda api (caustic soda) dan sodium
sianida (sodium cyanide).
Anoda seng (Zn) terlarut ke dalam elektrolit, menggantikan ion Zn2+ dalam
larutan elektrolit yang mengendap pada katoda. Mekanisme pelarutan
logam Zn dari anoda dan pengendapan pada katoda melewati elektrolit
sebagai beikut :
Zn2+ + 2e → Zno
dan membentuk lapisan tipis pada benda kerja sebagai katoda.
Teknologi Industri Elektroplating 45
Larutan elektrolit yang dipergunakan ada beberapa tipe, yaitu :
▪ Larutan sianida tinggi
▪ Larutan sianida rendah
▪ Larutan tanpa sianida
▪ Larutan asam
Hasil akhir dari proses plating seng adalah kualitas lapisan yang menempel
pada benda kerja. Kualitas yang diharapkan meliputi pelapisan dan
ketebalan yang merata dan seragam, warna mengkilap dan tidak terbentuk
noda-noda pada benda kerja yang dilapis. Permasalahan operasi seringkali
juga muncul dikarenakan kondisi larutan yang sudah tidak memenuhi
syarat, adanya kontaminan, dan bisa juga disebabkan oleh sambungan-
sambungan listrik yang kurang baik. Penyimpangan-penyimpangan dari
komposisi larutan, kondisi operasi yang tidak sesuai menyebabkan adanya
permasalahan operasi (trouble) yang berakibat pada kualitas plating tidak
sesuai dengan harapan.
Deposit kasar
Larutan kotor dengan padatan yang melayang-layang biasanya ikut
mengendap di katoda sehingga menyebabkan lapisan (deposit) menjadi
kasar. Saring larutan sehingga padatan yang melayang-layang dapat
dihilangkan dari larutan.
Peralatan plating tembaga sianida terdiri dari: rectifier, bak plating, anoda
tembaga, filter, pompa, dan pemanas.
Tipe : Strike
Komponen dan kondisi operasi
Tembaga sianida 15 g/L
Potasium sianida 30 g/L
Sianida bebas 8 g/L
Temperatur 50-65oC
Rapat arus 1-3 A/dm2
Efisiensi katoda 10-60 %
Tipe : Rochelle
Komponen dan kondisi operasi
Tembaga sianida 45 g/L
Potasium sianida 95 g/L
Potasium hidroksida 0-1 g/L
Rochelle salt 45 g/L
Sianida bebas 8 g/L
Temperatur 55-70oC
Rapat arus katoda 1,5-6 A/dm2
Efisiensi katoda 30-70 %
Tipe : Strike
Komponen dan kondisi operasi
Tembaga sianida 15 g/L
Sodium sianida 23 g/L
Sodium karbonat 15 g/L
pH 12-12,6
Temperatur 30-40oC
Rapat arus katoda 1-2 A/dm2
Efisiensi katoda 30 %
Tipe : Rochelle
Komponen dan kondisi operasi
Tembaga sianida 40 g/L
Sodium sianida 50 g/L
Sodium karbonat 30 g/L
Rochelle salt 60 g/L
pH 10,2-10,5
Temperatur 40-60oC
Rapat arus katoda 2-4 A/dm2
Efisiensi katoda 50 %
Sianida Bebas
Sianida bebas berfungsi untuk mempercepat laju pelarutan anoda-anoda
tembaga. Sianida bebas akan menyatu dengan ion-ion tembaga valensi satu
dan membentuk garam-garam kompleks yang larut selama anoda-anoda
melarut. Untuk melarutkan 1 gr/l CuCN diperlukan 1,45 gr/l KCN, dan
kelebihannya dianggap sebagai sianida bebas.
Senyawa Sulfur
Kehadiran senyawa-senyawa sulfur dalam berbagai bentuk, biasanya
mengakibatkan lapisan pudar pada rapat arus plating 2,5-5 A/dm2.
Penambahan sedikit seng sianida dapat menghilangkan kepudaran lapisan.
Oleh karenanya lebih baik menghilangkan senyawa sulfur ini langsung dari
sumbernya agar tidak terikut pada elektrolit.
Partikulat-partikulat
Partikulat-partikulat adalah partikel-partikel logam dan oksidanya yang
terbentuk selama pemolesan, kotoran dan debu-debu lainnya. Partikulat
dapat mengakibatkan kekasaran lapisan. Partikel-partikel tembaga atau
tembaga oksida yang dihasilkan pada anoda, cenderung mengendap pada
permukan dari bagian-bagian yang dekat dengan anoda menghasilkan
lapisan yang kasar.
Bahan-bahan organik
Bahan-bahan organik dari metal cleaner dan sumber-sumber lain dapat
menyebabkan kontaminasi berat pada larutan plating tembaga sianida.
Untuk menghilangkan kontaminan-kontaminan tersebut, dilakukan dengan
pemberian sejumlah kecil hidrogen peroksida (H2O2) encer dilanjutkan
dengan adsorpsi menggunakan karbon aktif. Hidrogen peroksida
mengoksidasi impuritas-impuritas organik menjadi senyawa-senyawa yang
kurang dapat larut, yang kemudian lebih mudah dihilangkan dengan
karbon aktif.
Lapisan melepuh
Lapisan yang melepuh pada katoda dapat disebabkan oleh pembersihan
yang kurang sempurna dan atau kadar sodium sianida terlalu tinggi. Hal ini
dapat diatasi dengan cara pembersihan benda kerja dengan baik sehingga
kotoran-kotoran yang menempel pada benda kerja benar-benar telah
hilang. Kadar sodium sianida dalam larutan perlu dicek dan apabila terlalu
tinggi dari kondisi yang ditetapkan sesuai formula, diturunkan dengan
pengenceran atau penambahan tembaga sianida.
Lapisan tipis
Lapisan yang tipis pada katoda disebabkan kadar tembaga sianida yang
rendah, menjadikan waktu plating lama. Untuk mengatasinya tambahkan
tembaga sianida sesuai kebutuhan kondisi operasi.
Peralatan plating tembaga asam terdiri dari rectifier, bak plating, anoda
tembaga, penghantar, filter, pompa dan blower.
Anoda : Cu → Cu2+ + 2e
Katoda : Cu2+ + 2e → Cu
Cu + Cu2+ → Cu2+ + Cu
Anoda tembaga Cu terlarut ke dalam elektrolit, menggantikan ion Cu2+
dalam larutan elektrolit yang mengendap pada katoda
Formula 3
Komponen dan kondisi operasi
Tembaga sulfat 200 –240 gr/l
Asam sulfat 55-65 gr/l
Klorida sedikit
Aditif, organik sedikit
Rapat arus 25 A/dm2
Temperatur 28-35oC
Efisiensi katoda 100 %
Tembaga sulfat
Tembaga sulfat pada konsentrasi rendah yaitu di bawah rentang kondisi
operasi akan kehilangan sedikit kemampuan leveling dan terjadi penurunan
konduktivitas larutan, sehingga laju plating menjadi lambat akibat
kerapatan arus yang terbatas. Sedangkan pada konsentrasi tinggi akan
terjadi penurunan kekilapan dan leveling pelapisan.
Asam sulfat
Pada konsentarsi asam sulfat yang rendah terjadi polarisasi anoda sehingga
konduktivitas larutan menjadi rendah terutama di sekitar katoda. Akibatnya
kecepatan pelapisan menjadi rendah dan waktu pelapisan menjadi lama
serta tidak merata. Pada konsentrasi asam sulfat yang tinggi terjadi
peningkatan pelarutan anoda tembaga yang berakibat pada peningkatan
konsentrasi tembaga pada larutan dan konsentrasi menjadi tidak seimbang.
Alumunium
Aluminium di atas 50 ppm dapat menyebabkan lapisan pudar di daerah
rapat arus rendah. Senyawa alumunium tidak bisa dihilangkan dengan
mudah. Cegah agar larutan tidak terkontaminasi oleh alumunium.
Antimony
Antimony bisa berasal dari impuritas anoda. Kadar di atas 20 ppm dapat
mengakibatkan lapisan rapuh. Penghilangan dapat dilakukan dengan
melakukan dummy pada rapat arus rendah (0,5 – 1 A/dm2 ).
Kalsium
Kalsium mengakibatkan lapisan kasar, merupakan senyawa terlarut dalam
air dan dapat dilakukan pengendapan sebagai sulfat. Kalsium sulfat dapat
dihilangkan dengan filtrasi.
Kontaminasi organik
Kontaminasi organik menyebabkan lapisan menjadi berlubang-lubang,
mempunyai bintik–bintik, pudar, berbutir kasar, rapuh, terbakar dan
menyebabkan kehilangan leveling yang cepat. Sumber kontaminasi organik
adalah minyak yang berasal dari kompresor untuk agitasi. Udara yang
bebas minyak dari blower sangat baik digunakan. Pengolahan larutan
menggunakan adsorpsi karbon aktif dapat menghilangkan kontaminasi
organik.
Lapisan Kasar
Bahan-bahan dan partikulat yang melayang-layang di dalam larutan plating
akan ikut mengendap di katoda menyebabkan lapisan menjadi kasar.
Permasalahan ini dapat diatasi dengan melakukan penyaringan larutan
menggunakan filter dan anoda–anoda dibungkus dengan kain tahan asam
agar kotoran tertahan dan tidak masuk ke dalam larutan.
Nikel (nickel) merupakan logam pelapis yang digunakan secara luas dalam
industri plating, baik untuk aplikasi dekoratif maupun protektif.
Kemampuan melapis nikel dengan kekerasan sedang dan kecemerlangan
tinggi, menjadikannya sebagai suatu pilihan terbaik untuk pelapisan dasar
aplikasi dekoratif. Nikel diperlukan terutama sebagai suatu lapisan bawah
(undercoat) untuk pelapisan kromium dekoratif yang melapisi komponen–
komponen yang terbuat dari baja, tembaga, plastik dan campuran
alumunium dan magnesium. Nikel juga digunakan sebagai lapisan dasar
plating kuningan (brass), perak, emas dan rhodium. Pelapisan protektif
terutama ditujukan untuk menghasilkan permukaan benda lebih keras dan
tahan terhadap korosi.
Anoda nikel dibungkus dengan kain agar kontaminan tertahan dan tidak
masuk ke dalam larutan elektrolit. Anoda nikel dalam bentuk bulatan bola
diletakkan dalam keranjang titanium.
Elektrolit plating terdiri dari garam-garam nikel seperti nikel sulfat, nikel
klorida, dan nikel sulfamat. Beberapa jenis larutan plating nikel yang telah
dikenal secara luas dan digunakan dalam industri, di antaranya adalah :
Ni2+ + 2e → Nio
Reaksi kesetimbangan elektrokimia dalam bentuk sederhananya pada
anoda adalah:
Nio → Ni2+ + 2e
Ion-ion nikel yang ditangkap pada katoda digantikan oleh ion-ion nikel
yang terbentuk pada anoda, maka proses pelapisan nikel dapat dijalankan
untuk jangka waktu yang lama tanpa harus menambahkan larutan yang
mengandung logam nikel.
Formula 1
Komponen dan kondisi operasi
Nikel sulfat, NiSO4.6H2O 240 – 300 gr/l
Nikel klorida, NiCl2.6H2O 40 – 60 gr/l
Asam borat, H3BO3 25 – 40 gr/l
Temperatur 21 – 650 (opt.550C )
pH 1,5 - 4,5 (opt.3,5 )
Agitasi udara / mekanis
Kerapatan Arus 3 – 7 A/dm2
Formula 2
Komponen dan kondisi operasi
Nikel sulfat, NiSO4.6H2O 240 gr/l
Nikel klorida, NiCl2.6H2O 45 gr/l
Asam borat, H3BO3 30 gr/l
Temperatur 25 – 650
pH 4-5
Kerapatan arus 1 – 6 A/dm2
Efisiensi katoda 95 –100 %
Formula 3
Komponen dan kondisi operasi
Nikel sulfat, NiSO4.6H2O 150–250 gr/l (225)
Nikel klorida, NiCl2.6H2O 80–110 gr/l (90)
Asam borat, H3BO3 40 – 50 gr/l (45)
Temperatur 50 – 700 (opt.600C )
pH 4-5 (opt.4,5 )
Kerapatan arus 2 – 7 A/dm2
Larutan baru dapat dibuat pada bak plating dengan cara mengisi bak
dengan air bebas ion atau air distilat hingga dua per tiga volume yang
diperlukan. Panaskan air hingga mencapai temperatur 50oC. Bahan yang
ditambahkan pertama kali yaitu asam borat, larutkan dengan mengaduk-
aduk dan kemudian tambahkan bahan-bahan kimia lainnya sesuai
komposisi pada formula, diaduk terus-menerus sampai larut semua. Bila
bahan telah larut semua, tambahkan air hingga volume yang diinginkan.
Nikel Sulfat
Berfungsi sebagai sumber utama ion nickel (Ni2+) yang relatif tidak mahal,
anion sulfat bersifat stabil. Nikel sulfat mudah larut dalam air dan
mempunyai pengaruh relatif lebih kecil terhadap konduktivitas elektrolit
dibandingkan dengan ion-ion klorida. Ion nikel akan tereduksi menjadi
logam nikel pada benda kerja sebagai yang bertindak sebagai katoda.
Kadar nikel dalam larutan antara 45 sampai 80 gr/l, dengan kadar terbaik
berkisar antara 55 gr/l hingga 60 gr/l. Bila kadar nikel meningkat
mengakibatkan rapat arus maksimum juga meningkat, tetapi pada kadar
nikel yang lebih tinggi akan menurunkan kemampuan gerak ion-ion karena
Nikel Klorida
Berfungsi sebagai sumber utama ion klorida. Ion klorida bersifat lebih
konduktif dibanding ion sulfat, sehingga daya tembus meningkat dan rapat
arus dapat dinaikkan. Fungsi utama dari klorida adalah untuk
meningkatkan pelarutan anoda.
Kadar klorida dalam larutan berkisar antara 20 dan 35 gr/l. Pada kadar
yang terlalu rendah mengakibatkan penurunan distribusi logam
konduktivitas kecil. Sedangkan pada kadar lebih dari 35 gr/l tidak akan
banyak pengaruhnya pada distribusi logam dalam proses plating.
Asam Borat
Elektrolit mengandung asam borat optimal sebesar 45 gr/l. Kadar di bawah
40 gr/l menyebabkan pengurangan buffering, yang mengakibatkan lapisan
terbakar di daerah dengan rapat arus tinggi. Kadar melebihi 50 gr/l pada
temperatur rendah dapat menyebabkan kristalisasi, mengakibatkan
penyumbatan pipa udara dan lapisan nikel menjadi kasar. Asam borat tidak
dikonsumsi secara elektrolitik, perubahan konsentrasinya hanya
dipengaruhi oleh larutan plating yang ikut terbuang. Oleh karenanya
penambahan asam borat dalam elektrolit praktis tidak diperlukan.
Keasaman (pH)
Keasaman (pH) cairan juga harus dijaga dengan teliti. pH elektrolit nikel
cenderung naik dalam operasi plating. Untuk menurunkan pH, dapat
dilakukan dengan penambahan 200 ml/l asam sulfat dan untuk
menaikannya panaskan cairan hingga 60oC, tambahkan nikel karbonat atau
nikel hidroksida yang dimasukkan dalam kantung.
Logam-logam terlarut
Logam–logam yang terlarut dalam elektrolit seperti tembaga, seng, timah,
dan besi mempengaruhi sifat lapisan. Adanya kromium dapat menganggu
pelapisan benda kerja pada daerah dengan rapat arus rendah. Untuk
menghilangkan impuritas–impuritas seperti tembaga, seng, dan timah,
dilakukan proses dummy dengan rapat arus 0,1 hingga 0,2 A/dm2 selama
semalam.
Besi
Besi dapat dihilangkan dengan menambahkan 20 % volume hidrogen
peroksida (2 hingga 4 ml/l), naikkan pH larutan hingga 5,6 dengan
penambahan nikel karbonat atau nikel hidroksida, aduk dengan baik
memakai udara selama 4 hingga 5 jam dan saring. Atur pH sesuai harga
yang diinginkan dengan penambahan asam sulfat encer.
Kromium
Untuk menghilangkan kromium, panaskan larutan hingga temperatur 60oC,
tambahkan ferous sulfat (dalam suatu larutan yang telah diasamkan dengan
asam sulfat), naikkan pH hingga 5,8 dan lakukan pengadukan dalam waktu
yang cukup, saring larutan kemudian atur pH hingga harga yang
diperlukan.
Pengotor organik
Pengotor-pengotor organik dapat mempengaruhi sifat lapisan. Hilangkan
dengan adsorpsi menggunakan karbon aktif sebanyak 0,3 hingga 0,5 gr/l
larutan.
Plating nikel merupakan proses yang cukup rumit. Larutan plating mudah
sekali terkena kontaminasi yang berakibat pada buruknya kualitas plating
atau malahan tidak terjadi pengendapan pada katoda karena larutan
menjadi rusak. Analisis larutan secara berkala seperti yang telah
diterangkan di atas merupakan tindakan pencegahan untuk menjaga
komposisi larutan. Beberapa hal lain yang berkaitan dengan persiapan
benda kerja juga menjadi penyebab permasalahan gagalnya operasi
elektroplating.
Lapisan kasar
Lapisan kasar dapat disebabkan oleh padatan yang melayang-layang di
dalam larutan, konsentrasi nikel rendah dan adanya kontaminasi logam
lain. Lakukan penyaringan atau gunakan filter pada sistem peralatan
elektroplating sehingga larutan terbebas dari kotoran. Konsentrasi nikel
yang rendah dapat diatasi dengan penambahan nikel sulfat sesuai dengan
formula yang digunakan. Sedangkan kontaminasi karena logam lain dapat
diatasi dengan dummy pada rapat arus 0,1 A/dm2 dan atau menambahkan
purifier yang akan mengikat ion logam dan tidak mengendap di katoda.
Lapisan terbakar
Arus yang terlalu tinggi dapat menyebabkan daerah dengan rapat arus
tinggi menjadi terbakar terutama pada temperatur operasi rendah. Keadaan
ini dapat diatasi dengan cara menurunkan arus dan menaikkan temperatur
larutan.
Teknologi Industri Elektroplating 81
Lapisan gelap di daerah kerapatan arus rendah
Kontaminasi organik dalam larutan menyebabkan lapisan di daerah dengan
rapat arus rendah menjadi gelap atau buram. Lakukan adsorpsi larutan
dengan karbon aktif dan kemudian lakukan penyaringan.
Urutan proses plating krom pada bahan besi/baja adalah pelapisan dasar
dengan tembaga sianida, dilanjutkan dengan pelapisan tembaga asam,
pelapisan nikel dan tahap akhir berupa pelapisan krom yang dikenal
Cr + 2 HCl → CrCl2 + H2
Peralatan yang digunakan untuk plating krom terdiri dari rectifier, tanki
atau bak plating, anoda pasif (inaktif), dan heater.
Rectifier untuk suplai daya untuk plating dekoratif sebesar 6-12 volt, dapat
menggunakan rectifier ataupun accumulator. Sedangkan untuk krom keras
menggunakan rectifier.
Tanki yang digunakan dilapisi dengan PVC. Tangki baru harus dibersihkan
dengan seksama dan diberi larutan asam kromat encer selama semalam
sebelum digunakan.
Sumber ion krom valensi 6 hanya berasal dari larutan elektrolit yang
mengandung asam kromat. Mekanisme pengendapan Cr6+ terjadi pada
katoda membentuk lapisan, sebagai berikut :
2H+ + 2e → H2
Hard chrome
Komponen dan kondisi operasi
Asam kromat, 150 gr/l
Asam sulfat 0,87 gr/l
Katalis 15 ml/l
Temperatur 46-57oC
Rapat Arus 33 A/dm2
Asam kromat
Asam kromat merupakan satu-satunya sumber ion krom yang akan melapis
pada katoda. Karena anoda yang digunakan inaktif, maka berkurangnya
konsentrasi ion krom perlu ditambahkan asam kromat untuk menjaga kadar
krom dalam larutan.
Asam sulfat
Asam sulfat berfungsi sebagai salah satu katalis yang berperan
mempercepat terjadinya reaksi pengendapan ion krom.
Perhitungan :
Dari pembacaan Baume hydrometer, diperoleh :
145
sg =
145 − o Be
Kadar asam kromat (gr/l) = (sg -1) x 1429
atau dengan memakai tabel hubungan antara oBe dengan kadar
CrO3
Penentuan Cr3+
Prosedur analisis :
• Ambil 10 ml sampel kedalam labu takar 500 ml.
• Pipet 10 ml larutan stok, tambahkan 200 ml H2O dan 0,25 g Na2O2,
• Didihkan dengan hati-hati selama 30 menit, jaga volume pada 200
ml dengan menambahkan H2O
• Dinginkan dan kemudian tambahkan 2 gram ammonium bifluoride,
15 ml HCl pekat, 10 ml KI 10 % dan larutan amilum
• Titrasi dengan larutan Na2S2O3 0,1 N hingga terjadi perubahan
warna dari biru menjadi tak berwarna
• Perhitungan :
gr/l Cr3+ = (ml Na2S2O3 x N x 166,67 – Cr6+) x 0,520
88 Teknologi Industri Elektroplating
8.6. PERMASALAHAN DAN PEMECAHANNYA
Lapisan hangus
Kerapatan arus tinggi dan jarak anoda-katoda yang terlalu dekat
menyebabkan lapisan terbakar. Kurangi kerapatan arus dan jauhkan jarak
anoda-katoda sehingga daya hantar listrik berkurang.
Tidak terdapat lapisan, tetapi terdapat gas dan benda kerja termakan
Sambungan listrik salah sehingga benda kerja bertindak sebagai anoda dan
melarut ke dalam elektrolit. Cek sambungan listrik, sambungkan anoda ke
terminal positif dan benda kerja ke terminal negatif dari sumber arus
searah.
Sodium Sianida
Senyawa ini berfungsi untuk membuat kompleks tembaga-seng sianida dan
dapat membantu percepatan laju korosi atau pelarutan anoda kuningan ke
dalam elektrolit.
Rochelle Salt
Garam Rochelle merupakan nama generik dari Potasium Sodium Tartrat
berfungsi untuk membuat kompleks tembaga-seng sianida dalam larutan.
Hasil yang teramati akibat kondisi operasi yang tidak terpenuhi maupun
penyimpangan komposisi larutan plating adalah pelapisan tak sempurna,
lapisan berwarna kemerah-merahan, lapisan berwarna pucat, lapisan
tertutup warna kehitaman, lapisan kasar sampai tak terjadi pelapisan pada
benda kerja.
Emas atau Gold (Aurum, Au) adalah logam mulia yang banyak digunakan
untuk perhiasan, dekoratif dan mata uang. Pelapisan emas merupakan
upaya memberikan kenampakan permukaan dengan lapisan tipis emas
sehingga mirip bahkan dalam beberapa hal sulit dibedakan dengan emas
murni. Pelapisan dibedakan antara keperluan dekoratif dan fungsional.
Pada industri listrik bagian yang sering dilapisi emas adalah kontak dan
konduktor. Penerapan pada industri elektronika terutama pada transistor
dan bagian-bagian rangkaian tertentu juga dilapisi emas. Pelapisan emas
pada industri pesawat udara didapati pada instrumen penutup dari
permukaan luar yang terbuka terhadap radiasi, dengan memanfaatkan
ketahanan emas terhadap oksidasi pada temperatur tinggi. Reaktor dan
penukar panas di dalam pipa-pipa penghantar untuk desalinisasi dilapisi
emas, karena sifatnya yang tahan korosi. Untuk semua keperluan
fungsional, ketebalan lapisan antara 2,5 hingga 37,5 m
Peralatan plating utama untuk emas dan peralatan tambahannya terdiri dari
bak plating, rectifier atau adaptor, anoda emas atau anoda pasif,
penghantar, dan pemanas (heater).
Potasium sianida
Berfungsi untuk membentuk kompleks senyawa garam emas dan
membantu pelarutan anoda emas.
Pada era global dan pasar bebas, industri dihadapkan pada persaingan yang
ketat, keunggulan komparatif yang menjadi andalan pada dekade yang lalu
sudah tak mampu untuk menghadapi tantangan pasar bebas. Peningkatan
efisiensi merupakan salah satu kunci untuk meningkatkan daya saing
terhadap produk-produk sejenis dari negara tetangga maupun negara lain
yang masuk ke Indonesia dan juga dalam melakukan ekspor. Pemanfaatan
sumber daya yang melimpah sebagai bagian dari keunggulann komparatif
berdampak pada pemakaian secara besar-besaran sumber daya alam yang
pada gilirannya berdampak negatif pada lingkungan.
Limbah dan emisi merupakan hasil yang tak diinginkan dari kegiatan
industri. Pihak industri melakukan upaya pengelolaan lingkungan pada
umumnya dengan melakukan pengolahan limbah. Pembangunan instalasi
PENCEGAHAN (ELIMINATION)
PENGURANGAN (REDUCTION)
DAUR ULANG (RECYCLE) : PRODUKSI BERSIH
- di dalam proses (IN SITE)
- di luar proses (OFF SITE)
PAKAI ULANG (REUSE)
AMBIL/PUNGUT ULANG (RECLAIM,
RECOVERY)
PENGOLAHAN (TREATMENT) PENGOLAHAN LIMBAH
PEMBUANGAN, PENIMBUNAN BUKAN PRODUKSI
(DISPOSAL) BERSIH
Minimisasi drag-out
Drag-out adalah sejumlah cairan yang menempel dan terikut benda kerja
pada saat diangkat dari bak plating. Seringkali pekerja tidak menghiraukan
jumlah drag-out karena dianggap sangat kecil hanya beberapa tetes saja.
Apabila jumlah yang menempel dikalikan jumlah benda kerja selama
waktu operasi satu tahun, maka jumlah larutan yang terikut sangat banyak
dan tidak bisa diabaikan. Dengan cara mendiamkan benda kerja di atas bak
plating beberapa detik maka cairan elektrolit akan menetes kembali ke bak
plating dan drag-out dapat ditekan, sehingga menghemat jumlah
penambahan bahan kimia.
Limbah Cair
Berupa limbah cair asam dan air limbah yang berasal dari pencucian,
pembersihan dan proses elektroplating, Air limbah mengandung logam-
logam terlarut, solven dan senyawa organik maupun anorganik terlarut
lainnya. Pembuangan secara langsung limbah ke badan air bila melebihi
nilai ambang batas dapat mengganggu lingkungan. Pengolahan air limbah
diperlukan sebelum pembuangan dengan cara fisika, kimia maupun
elektrokimia.
Limbah Padat
Limbah padat berasal dari operasi penghilangan kerak, polishing, maupun
kotoran sisa pada bak plating. Debu yang timbul pada operasi polishing
dapat diambil dari ruangan dengan penghisapan uadar ruangan melewati
Teknologi Industri Elektroplating 119
siklon untuk memisahkan padatan dari udara. Apabila limbah padat
tercampur dengan cairan dapat dilakukan dengan cara pengendapan
maupun filtrasi.
Emisi Gas
Emisi gas pada umumnya berasal dari penguapan larutan plating, solven,
uap asam, maupun cairan pembersih. Beberapa jenis uap solven maupun
asam bersifat toksik dan korosif sehingga dapat berbahaya bagi kesehatan
manusia, dengan efek yang dirasakan dalam waktu singkat maupun waktu
lama. Pencegahan dapat dilakukan dengan ventilasi yang baik maupun
pemasangan exhaust fan terutama pada ruang elektroplating dan pencucian
asam sehingga uap yang ada dapat dikeluarkan dari ruangan. Pekerja dapat
menggunakan masker untuk mencegah uap asam.
Segregasi
Pengelolaan limbah dapat dilakukan dengan cara segregasi atau pemilahan
limbah. Pisahkan antara air limbah untuk keperluan mandi dan cuci atau
air bukan proses dengan air limbah dari proses elektroplating sehingga
volume limbah plating menjadi kecil. Hati-hati untuk tidak mencampur
limbah plating sianida dengan limbah asam untuk penghilangan kerak,
dapat menimbulkan gas-gas berbahaya. Limbah persiapan permukaan
yang mengandung asam dipisahkan dari limbah elektroplating. Limbah
asam dinetralkan dengan kapur atau soda api. Sedangkan air limbah proses
plating selanjutnya dilakukan pengolahan agar buangan air memenuhi
baku mutu lingkungan.
Filtrasi
Partikel padat teruspensi maupun hasil koagulasi dapat dipisahkan dari
larutannya dengan cara penyaringan (filtrasi). Filtrasi dapat menggunakan
kain, terpal maupun dengan medium granular seperti pasir dan kerikil.
Adsorpsi
Adsorpsi adalah penjerapan senyawa dalam campuran gas atau yang
terlarut dalam medium cairan. Adsorpsi dapat menggunakan batu apung,
arang dan karbon aktif. Zat warna dan bau pada umumnya dapat
dihilangkan dengan penjerapan menggunakan karbon aktif.
Evaporasi
Evaporasi adalah penguapan cairan untuk memperoleh larutan pekat.
Larutan encer yang mengandung elektrolit dapat dipanaskan sehingga
terjadi penguapan air dan diperoleh larutan pekat yang selanjutnya
digunakan kembali untuk elektroplating.
Membran
Pada dasarnya pengolahan menggunakan membran sama dengan cara
filtrasi. Membran bekerja berdasarkan reverse osmosis (RO). Limbah yang
mengandung bahan kimia dilewatkan membran sehingga senyawa kimia
Teknologi Industri Elektroplating 121
tertahan pada membran dan air limbah terolah keluar mengandung bahan
kimia yang sangat rendah.
Netralisasi
Air limbah elektroplating dapat disegregasi berdasarkan keasamannya. Air
limbah yang bersifat asam dapat dicampurkan dengan air limbah yang
bersifat basa sehingga terjadi netralisasi. Keasaman limbah terolah yang
boleh dibuang ke badan air dengan pH antara 6 sampai 8, sehingga apabila
pH lebih kecil dari 6 perlu penambahan soda atau kapur, sedangkan
apabila air limbah bersifat basa dengan pH lebih besar 8 dapat
ditambahkan asam sulfat maupun asam klorida.
Pengendapan Logam
Logam-logam dalam limbah plating dapat diendapkan dengan netralisasi
menggunakakan larutan kapur (Ca(OH)2) atau soda api (NaOH).
Pengendapan berlangsung pada pH antara 8,5 sampai 9,5.
Oksidasi
Senyawa-senyawa kimia beracun seperti sianida sebelum dibuang ke
badan air dapat diuraikan dengan cara oksidasi menggunakan senyawa-
senyawa klor seperti kaporit dan sodium hipoklorit sehingga senyawa
tersebut dapat diuraikan menjadi senyawa-senyawa yang lebih sederhana
dan tidak beracun.
Reduksi
Senyawa lain yang beracun seperti krom valensi 6 (hexavalent) dapat
direduksi menjadi valensi 3 yang bersifat tidak beracun. Krom valensi 3
dan logam-logam lain seperti tembaga, nikel, dan seng dengan mudah
dapat diendapkan dalam bentuk hidroksidanya dengan panambahan soda
api maupun kapur.
Elektrolisis
Ion logam diambil dengan prinsip elektrolisis dan penguraian
menggunakan bantuan arus listrik. Dengan elektrolisis, logam mengendap
pada katoda dan dapat digunakan lagi.
Elektrodeposisi
Elektrodeposisi adalah elektroplating tanpa bantuan arus listrik. Logam-
logam terlarut diendapkan dengan senyawa kimia yang bersifat sebagai
reduktor berdasarkan beda potensial.
Pengolahan biologi
Pengolahan menggunakan bantuan mikroba dapat dilakukan pada
senyawa-senyawa organik yang bersifat dapat diuraikan oleh mikroba.
Senyawa-senyawa organik akan diuraikan menjadi senyawa yang lebih
sederhana. Adanya logam berat seringkali merupakan racun bagi mikroba,
sehingga perlu dilakukan pengolahan pendahuluan dengan cara kimia
sebelum dilakukan pengolahan secara biologi.
Murphy, M., 1996, Metal Finishing : Guide Book and Directory Issue, Vol.
94, No. 1A.