1- INTRODUO A adeso entre os materiais restauradores e os tecidos duros dentrios tem sido um dos grandes objetivos de investigao desde

1955, quando Buonocore observou a utilizao do cido fosfrico para melhorar a adeso de tintas e resinas a superfcies metlicas. O aparecimento e desenvolvimento dos sistemas adesivos modificaram inteiramente a prtica odontolgica, alterando os conceitos de preparo cavitrio e possibilitando a realizao de restauraes estticas com maior conservao da estrutura dentria remanescente sadia (Reis et al., 2001). Os adesivos que empregam condicionamento cido prvio so aparentemente mais sensveis s diferenas regionais dentinrias que os adesivos autocondicionantes. Devido diferena de composio e estrutura entre esmalte e dentina, verifica-se que o condicionamento com cido fosfrico de 34-37% do esmalte promove melhor selamento marginal, pois apresenta maior quantidade de matria inorgnica que a dentina. Abandonando o emprego do condicionamento cido prvio aplicao do adesivo, surgiram, nos anos 90, os adesivos autocondicionantes. Neste tipo de adesivo, o primer funciona como condicionador do esmalte e da dentina. Nos sistemas adesivos autocondicionantes de dois passos em dentina, na nova perspectiva de adeso, no realizado o condicionamento cido prvio. O primer acidificado, realizando o condicionamento sem necessidade de lavagem, resultando em menor area de desmineralizao.

2 - Classificao 2.1- Em Esmalte. Com o advento das resinas compostas, vislumbrou-se a possibilidade de uma unio mais ntima atravs do condicionamento cido do esmalte. A aplicao de cidos no esmalte, mostrou-se muito eficiente, tanto para reteno como para o selamento marginal. A adeso entre os materiais restauradores aos tecidos dentrios tem sido um aspecto bastante estudado, observando evolues desde que Buonocore, em 1955, correlacionou a ao do cido fosfrico usado na indstria sobre o esmalte com a obteno de um substrato mais receptivo adeso. Esse mecanismo de unio explicado pelo aumento da energa superficial do esmalte de 28 para 72 dinas/cm aps o condicionamento com cido e pela criao de microporosidades, que so posteriormente preenchidas pelo adesivo, formando os prolongamentos adesivos, conhecidos como tags. Estudos demonstraram que o condicionamento com cido fosfrico por 15 ou 60 segundos propicia resultados de resistncia de unio e microinfiltrao similares. Embora alguns outros cidos mais fracos, como o maleico 10%, o fosfrico 10%, e Ctrico 10%, tenham sido utilizados, estes demonstraram menor resistncia de unio ao esmalte em comparao ao cido fosfrico entre 30 e 40%. 2.2 Em Dentina Apesar de toda a evoluo dos sistemas adesivos, no conseguimos ainda um resultado to eficaz quanto adeso ao esmalte para a dentina, principalmente a longo prazo. A explicao para tal observao provavelmente se encontre na estrutura dos substratos. Enquanto o esmalte uma estrutura homognea, composta basicamente por matria inorgnica, a dentina se caracteriza por ser um substrato naturalmente heterogneo, no qual 70% de sua composio inorgnico, 20% orgnico e 10% gua. Suas variaes regionais de morfologia e fisiologia determinam uma no uniformidade da adeso, portanto, a eficcia de um sistema adesivo aplicado dentina est na dependncia de sua maior ou menor sensibilidade a essas variaes do substrato. Um importante avano na adeso dentina ocorreu em 1978, quando Fusayama e cols comearam a utilizar o cido fosfrico a 37% para condicionar, ao mesmo tempo, o esmalte e a dentina. Estudos posteriores, realizados por Nakabayashi e cols (1982), revelaram que o condicionamento cido deixava uma camada de fibras colgenas ancoradas na dentina desmineralizada e que resinas hidroflicas infiltravam e copolimerizavam-se com estas fibras para formar a camada hbrida, consistindo em uma dentina infiltrada por resina. A estrutura resultante no resina nem dente, mas um hbrido dos dois. No localizada sobre a superfcie, mas, sim criada dentro do substrato. A infiltrao resinosa intencionalmente muda as propriedades fsicas e qumicas desta interface, tornando-a cido-resistente Aps a confeco de um preparo cavitrio, a dentina coberta pela smear

layer oferece praticamente nenhuma porosidade superficial para que os agentes adesivos possam penetrar na intimidade do substrato. Assim, se faz necessria a aplicao de um cido, o qual no somente remover a smear layer, mas tambm dever desmineralizar a poro mais superficial da dentina subjacente, expondo a trama de fibras colgenas por entre as quais o agente resinoso dever infiltrar e, posteriormente, polimerizar, resultando na formao da camada hbrida. Em virtude da grande variedade de formulaes e apresentaes comerciais dos sistemas adesivos, torna-se difcil o estabelecimento de uma classificao abrangente para todos os sistemas adesivos e que ao mesmo tempo seja de fcil entendimento ao clnico. Classificaes relativas formulao qumica, resistncia adesiva e cronologia de introduo (geraes) foram sugeridas, mas na realidade acabam por confundir ainda mais o profissional. A classificao por geraes foi por muito tempo aceita, pois, englobava todas as classificaes anteriores. Assim sendo, importante reconhecermos esta evoluo: 1a. Gerao A primeira gerao de adesivos possua como caractersticas principais a presena de monmeros hidrfobos e da prtica de remoo da smear layer. Esta combinao gerava um resultado de baixa resistncia adesiva pela hidrlise desta interface fisicamente repulsiva (ou incompatvel?). Portanto, o resultado quanto efetividade adesiva no foi satisfatrio chegando a medir 2 a 3MPa). 2a. Gerao Em conseqncia, foram introduzidos os adesivos de 2 gerao. Estes no removiam a camada de smear, gerando um pobre umedecimento e uma baixa resistncia adesiva (5MPa a 7MPa), j que as partculas desta camada se ligam fracamente estrutura dentinria. 3a. Gerao Posteriormente, com a introduo da 3 gerao, houve a preocupao com o tratamento da dentina. No entanto, embora no se removesse a camada de smear ela era modificada por cidos contidos no primer que atingiam tambm a superfcie dentinria. Outro fator positivo e inovador foi a insero de monmeros bifuncionais (hidrfobos e hidrfilos) na formulao do primer. A parte hidroflica entraria em contato com a dentina, enquanto a hidrofbica se ligaria com a resina adesiva. Com isso, houve um aumento significativo da resistncia adesiva (10 a 15Mpa).

4a. Gerao

Mais tarde, ao combinarem o procedimento de condicionamento cido total (remoo da smear) com o sistema adesivo de caractersticas hidroflicas, houve a descoberta de um fenmeno de integrao entre a dentina e os monmeros resinosos, designado hibridizao. Em conseqncia, a efetividade no selamento marginal e na resistncia adesiva foram um dos maiores benefcios alcanados por esta interdifuso, caracterizando os sistemas de 4 gerao. Com a seqncia de investigaes cientficas realizadas por pesquisadores em todo o mundo e com o aprimoramento das formulaes dos sistemas adesivos por parte dos fabricantes, o emprego da tcnica de condicionamento cido total hoje uma realidade que auxiliou ainda mais o desenvolvimento de novas opes restauradoras. Em especial, na rea da odontologia esttica houve um aumento das possibilidades restauradoras, como a confeco de laminados e inlays/onlays de porcelana ou de resina composta, permitindo, desse modo, atender crescente demanda da populao por procedimentos restauradores que melhorem sua aparncia esttica (Conceio, 2000). 5a. Gerao A denominada 5 gerao somente inovou pela unio do primer e do adesivo em um nico frasco, aplicado aps o condicionamento cido total (remoo da smear), formando tambm a camada hbrida. Embora, estes sistemas sejam favorveis pela economia de tempo e, principalmente, pela simplificao da tcnica clnica, a mistura de componentes hidroflicos e hidrfobos, alm dos solventes, em um nico frasco pode acarretar com a perda de propriedades do material (Carvalho, 2002). 6a. Gerao A introduo da 6 gerao (sistemas adesivos auto-condicionante), que no remove a camada de smear, uma tentativa de eliminar o passo tcnico de lavagem e secagem aps o condicionamento cido, j que trata-se de um procedimento muito sensvel pela possibilidade de ocorrer o colapso da rede de colgeno, ocasionando a queda dos nveis de adeso e conseqente ocorrncia de sensibilidade ps-operatria. Outro fator associado importncia destes adesivos relaciona-se a uma infiltrao nanomtrica gerada pelos adesivos das duas geraes anteriores. A nanoinfiltrao ocorre pela hidrlise da camada desmineralizada de dentina mais profunda que no fica envolta pelos monmeros resinosos do sistema adesivo (Sano et al, 1995). Dessa forma, o sistema auto-condicionante busca utilizar primers condicionantes com a finalidade de atingir a mesma profundidade de desmineralizao e de difuso dos monmeros, no permitindo que se estabelea uma zona frgil, desencadeadora da nanoinfiltrao. No entanto, alguns estudos colocam em dvida a efetividade adesiva destes adesivos no esmalte. Uma classificao mais objetiva e atual considera o tratamento ou no da camada de smear. Assim, dois grandes grupos foram designados: sem

remoo (auto-condicionantes), remoo parcial ou modificao, ou com remoo total desta camada (convencionais). Ainda, subdivide-se esta classe conforme o nmero de passos clnicos necessrios para aplicao do sistema adesivo (Conceio, 2000). Assim, dentro do grupo dos sistemas adesivos convencionais existem os adesivos de trs passos (cido; primer; adesivo), e de dois passos (cido; primer junto com o adesivo), ao passo que os auto-condicionantes consistem em sistemas ou de dois passos clnicos (primer acdico mais adesivo) ou de um passo (primer cido adesivo). Sem remoo da Smear Layer Eram adesivos que continham steres fosfatados em uma resina sem carga. Sua aplicao era recomendada sobre a dentina sem nenhum tratamento prvio e sobre o esmalte previamente condicionado com cido fosfrico. Seu mecanismo de unio envolvia uma ligao inica entre os grupos fosfato e o clcio da dentina. Pela baixa resistncia de unio, para se contrapor ao estresse de polimerizao gerados pelos compsitos e reduzida a unio da prpria smear layer dentina ocasionavam a formao de fendas s margens das restauraes com consequente microinfiltrao. Remoo parcial e modificao da Smear Layer So adesivos que empregavam o primer contendo basicamente um cido em baixa concentrao, um monmero hidroflico, steres fosfatados em resina sem carga e um diluente que era aplicado sobre a dentida, sem, no entando, remov-la. Em seguida, o adesivo era posto sobre o esmalte previamente condicionado com cido fosfrico e sobre a dentina tratada com primer. O mecanismo de unio era baseado na dissoluo ou modificao da smear layer pelo primer, para permitir a penetrao do adesivo na dentina adjacente, a fim de conseguir uma unio qumica micromecnica sem envolver a exposio dos tbulos dentinrios. Remoo total da Smear Layer So aqueles sistemas adesivos que recomendam o condicionamento cido total em esmalte e dentina, simultaneamente, seguido da aplicao de um primer e adesivo, ou nas formulaes mais recentes, apenas do adesivo. O mecanismo de unio dentina baseado na ao do cido que remove a smear layer, abre os tbulos dentinrios e desmineraliza a dentina peri e intertubular, expondo uma rede de colgeno. A profundidade de desmineralizao que no pode ser excessiva, influenciada por fatores como o ph, tempo de aplicao, viscosidade e concentrao do cido.

3. Apresentao de sistemas adesivos de 4a, 5a e 6a geraes

4 Concluso Diante da enorme variedade de sistemas adesivos disponveis no mercado odontolgico importante que o dentista acompanhe os resultados dos estudos clnicos, alm do entendimento de que o segredo na utilizao destes sistemas consiste em uma tcnica consciente e bem realizada pelo profissional, dependente da demanda, da praticidade e do custo inerentes aos diversos sistemas

5 Referncias 1. FECURY, Maria Carolina Vasconcelos et al. SISTEMAS ADESIVOS ATUAIS: CARACTERSTICAS FSICO-QUMICAS E APLICABILIDADE EM ODONTOPEDIATRIA. Conceio, E.N. Dentstica: sade e esttica. Porto Alegre, Artes Mdicas Sul, 2000. Mondelli, J. E Colaboradores; Dentstica: Procedimentos PrClnicos 1 Ed. So Paulo Editora Santos, 2002 MANDARINO, Fernando. Adesivos Odontolgicos http://www.forp.usp.br/restauradora/dentistica/temas/adesivos/adesivo s.htm . Acessado s 15:30 no dia 11 de setembro de 2011.

2. 3. 4.