Anda di halaman 1dari 17

ASPEK BIOLOGIS DARI IMPLAN ORAL

KARAKTERISTIK PERMUKAAN IMPLAN (DESAIN MIKRO)

Elemen penentu dalam reaksi jaringan keras dan lunak terhadap suatu implan melibatkan karakteristik permukaan implan, yaitu sifat kimia dan fisiknya.

Sejumlah bahan tidak sesuai untuk diimplantasi karena memiliki efek samping toksik selular. Beberapa bahan disebut biokompatibel karena bahan-bahan tersebut tidak merangsang reaksi kekebalan tubuh dan bersifat 'pasif' terhadap proses penyembuhan jaringan (tidak menyebabkan efek samping dan tidak menyebabkan reaksi yang mendorong penyembuhan). Di sisi lain, sejumlah bahan serta karakteristik permukaan dapat meningkatkan aposisi tulang pada permukaan implan secara osteokondutif.

Sebelum Branemark mengklarifikasi tahap pembedahan yang benar untuk mendapatkan kontak tulang-keimplan yang rapat, disebut sebagai osseointegrasi, penelitian difokuskan pada karakteristik permukaan untuk memperoleh aposisi tulang.

Yang dicari adalah permukaan yang biokompatibel jika tidak bioaktif, yang dicapai melalui aditif atau proses subtraktif. Titanium, sebaiknya titanium murni komersial, menjadi standar bagi implan endosseus baik dalam bidang ortopedi maupun periodontologi.

Sebenarnya titanium merupakan bahan sangat reaktif yang tidak akan berintegrasi ke dalam jaringan. Akan tetapi oksidasi permukaannya yang sangat cepat menciptakan suatu lapisan pasif dari titanium oksida yang memiliki sifat seperti keramik, sehingga sangat kompatibel dengan jaringan.

PROSES ADITIF
Sifat kimia permukaan implan dapat dimodifikasi dengan melapisi permukaannya - Kalsium fosfat, terutama hidroksiapatit, telah menjadi bahan pelapis yang sangat populer karena kemiripannya dengan jaringan tulang. - Kandungan hidroksiapatit ini tampaknya sangat penting; penelitian in vitro menunjukkan bahwa respon sel yang diperlihatkan osteoblas bervariasi sesuai dengan rasio kalsium-fosfat dan kemurniannya.

PROSES ADITIF
Penelitian lain menerapkan penambahan atau modifikasi lapisan titanium oksida (TiO2) untuk meningkatkan atau mempercepat pembentukan tulang. Hal ini dicapai melalui anoksidasi atau proses kimiawi. Kandungan oksida dari lapisan TiO2 berperan penting dalam proses nukleasi untuk membentuk endapan kalsium fosfat, yang selanjutnya mengarah ke pembentukan tulang termineralisasi.

PROSES ADITIF
Penelitian lain menyertakan fluorida dalam lapisan TiO2. Ion ini dapat digantikan oleh oksigen yang berasal dari fosfat, sehingga mencapai ikatan kovalen antara tulang dan permukaan implan. Pelepasan fluorida juga diketahui dapat menghambat adhesi proteoglikan dan glikoprotein pada permukaan hidroksiapatit; dua makromolekul yang diketahui menghambat mineralisasi.

Selain perubahan kimiawi tersebut, aditif permukaan pada dasarnya memodifikasi mikrostruktur dari permukaan implan, yang mempengaruhi perlekatan molekul dan sel. Karakteristik implan terakhir ini, dengan kekasaran-mikro sebagai aspek dominan, seringkali merupakan hasil dari proses subtraktif selama proses pembuatan

Pembesaran (asam fuchsin / toluidin biru; 100) implan hidroksiapatit yang dilapisi dengan tulang intima. Bagian dari lapisan hidroksiapatit diamati di permukaan

Mikroskop elektron (SEM) dari titanium plasma-disemprot implan permukaan dengan karakteristik permukaan kasar. A, Implan dengan titanium plasmadisemprot permukaan ( 40). B, Khususnya kompleks makro-topografi pada titanium plasma-disemprot permukaan ( 100). C, Titanium plasma-disemprot permukaan dengan 1 sampai 25 pM partikel ( 500). D, Titanium plasma-

).

Permukaan yang kasar dicapai dengan penyemprotan, plasma dengan etsa asam atau seperti yang ditunjukkan di sini dengan mengoksidasi (permukaan TiUnite).

PROSES SUBTRAKTIF
Proses pembuatan untuk memperoleh permukaan implan yang tepat bervariasi dari mulai machining (dinamakan turned untuk implan berbentuk sekrup) [proses pengerjaan dengan mesin] hingga pengetsaan asam dan blasting. Kadangkala digunakan kombinasi dari proses-proses tersebut. Tidak diketahui berapa derajat kekasaran mikro yang ideal untuk adhesi tulang; ini sangat bergantung pada sifat kimiawi implan.

Pengetsaan asam dan blasting mengubah kekasaran mikro permukaan implan. Namun pengaruh mereka tidak dapat dibatasi hanya pada itu, karena proses tersebut juga dapat memodifikasi permukaan secara kimawi hingga tingkat tertentu. Walau demikian, pengaruhnya terhadap kekasaran permukaan lebih besar, sehingga mereka tetap diaplikasikan.

Mikroskop elektron (SEM) permukaan implan dengan pola karakteristik. beralur A, Implan dengan permukaan mesin ( 40). B, pola beralur jelas pada permukaan mesin ( 100). C, permukaan dengan tonjolan dan alur ( 500) yang berbeda. D, permukaan dengan tonjolan dan alur ( 1000) yang berbeda.

Mikroskop elektron (SEM) permukaan implan etsa asam-dengan tipikal khas mikroskopis pek-valley. A, Implan dengan permukaan etsaasam ( 40). B, perubahan permukaan Micro bertekstur di permukaan etsaasam ( 100). C, permukaan etsaasam dengan micropits 1 sampai 3 mikron ( 500). D, permukaan asam-dengan micropits 1 sampai 3 mikron dikelilingi oleh wilayah yang lebih luas dengan 6 sampai 10 pM peak-valley( 1000)