BIOREATORES - MBR

LAYOUT FOOTPRINT

Aumentar as taxas de carga, reduz o tempo de

reteno, reduzindo rea.

VOLUME Convencional
Processo de Lodos ativados
100%

25%

CONVENCIONAL
Private & Confidential

MBR
Roberto dos Santos

BIOREATORES - MBR
PRINCIPAIS TIPOS DE MBR CONFORME CONFIGURAO DO PROCESSO
1 Imerso - 1.1 - FS - Flat Sheet

Private & Confidential

Roberto dos Santos

BIOREATORES - MBR
PRINCIPAIS TIPOS DE MBR CONFORME CONFIGURAO DO PROCESSO
1 Imerso - 1.2 HF Hollow Fiber

Private & Confidential

Roberto dos Santos

BIOREATORES - MBR
PRINCIPAIS TIPOS DE MBR CONFORME CONFIGURAO DO PROCESSO
1 Imerso - 1.3 MT Multi Tube/CT Capillary tube

Private & Confidential

Roberto dos Santos

OPERAO BSICA DE MBR

TANQUE DAS MEMBRANAS
Suprimento
de ar

Filtrado

MemPulse MBR

Licor Misto

Private & Confidential

Roberto dos Santos

FATORES CRTICOS MBR

CONFIGRAO BSICA DE MBR
Q

RQ
Q
DO < 0.2mg/L
3

NO N2

DO > 1mg/L
+

NH4 NO3

(R+1)Q

Ar

Private & Confidential

5Q

Roberto dos Santos

OSMOSE

OSMOSE REVERSA
CARACTERISTICAS DE GUA DE
ALIMENTAO

TDS: 100-15000 mg/L

Remoo de sais: 90-99%
Recuperao de gua: 50-80%
Fe < 0,05mg/L
Cloro livre - isento

OSMOSE REVERSA
CARACTERISTICAS DE GUA
PRODUZIDA

Remoo de salinidade (90-99%)

Remoo de compostos orgnicos
Remoo de amonaco
Remoo de metais pesados
Remoo de alumnio e fluoreto
SDI <1

OSMOSE REVERSA
Teste de SDI
SDI= (100/15) x [1-(t0/t15)] onde:
t0 = tempo, expresso em segundos, gasto no
sistema do teste, para encher 500 ml de um
recipiente;
t15 = tempo, expresso em segundos, gasto aps 15
minutos de teste, para encher 500 ml de um
recipiente.

OSMOSE REVERSA
Taxa de fluxo
GFD = Q/(AxN) onde:
GFD taxa de fluxo
funo da caracterstica da gua de
entrada no sistema e de seu SDI. Define a
quantidade de membranas necessrias para
o sistema de osmose.
Q = Variao de produo do sistema;
A = rea utilizada na membrana;
N = Quantidade de membranas.

OSMOSE REVERSA
LIMITAES

Alto consumo de energia eltrica

Alto percentual de gua rejeitada
Alto custo de pr tratamento
Consumo de anti incrustante
Saturao das membranas
No seletivo para slica
No tolera cloro livre
No alcana nveis de condutividade para
caldeira necessitando leito misto complementar

OSMOSE REVERSA
TIPOS DE REJEITOS
(CONCENTRADOS E MEMBRANAS)
Incrustantes (CaCO3, CaSO4, BaSO4, slica)
Matria orgnica (cidos nicos, leos,
coagulantes)
Coloides (slica, argila, areia, xidos)
Material biolgico (algas, limo, bactrias)

OSMOSE REVERSA
CONFIGURAES

TROCA INICA
Principais aplicaes
Abrandamento
Alimentao de caldeiras (BP)
Polimento de condensado
Desmineralizo da gua
Alimentao de caldeiras (MP e AP)

PROCESSOS DE TROCA INICA

CATEGORIAS
Substituio
Separao
Remoo

PROCESSOS DE TROCA INICA

CICLOS

Exausto
Retrolavagem
Regenerao
Lavagem
Descarte

PROCESSOS DE TROCA INICA

BASES PARA PROJETO

Anlise completa da gua a ser tratada

Produo do efluente requerido
Tipos de resina
Nmeros de horas do ciclo operacional
Tipo de regenerante a ser utilizado

TROCA INICA
Volume de resinas em cada vaso
Definido pelo ciclo operacional
Utilizao de torre de decantao
Depende da quantidade CO2
Quando utilizado
Depende do padro de gua requerido

TROCA INICA
CARACTERSTICAS
Composio: co-polmeros de estireno ou acrlico
e de divinilbenzeno
Resinas catinicas fortes so obtidas por adio
de SO3
Resinas aninicas fortes so obtidas por adio
de aminas
Recomendadas at 500 mg/L de STD

TROCA INICA
LAVAGEM E REGENERAO DOS
LEITOS DAS RESINAS
ORIGEM

REJEITO

Abrandadores

Cloreto de sdio

Leito catinico

cido clordrico ou sulfrico

Leito aninico

Hidrxido de sdio

LEITO MISTO
CONCEITUAO
Vaso de presso composto de resinas
catinicas e aninicas que promovem o
polimento de gua ultrapura j tratada por
osmose reversa ou troca inica.
O controle de qualidade feito por meio de
condutivimetro ou anlise de sdio.

PROCESSOS DE TROCA INICA

LEITO MISTO
Utilizado como complemento a troca inica e
osmose reversa
Produz gua desmineralizada < 1micro s/cm

LEITO MISTO
Durao do ciclo:
5 a 10 dias
Regenerao das resinas
Feita em duas etapas: cida e alcalina no
simultneas, com enxgue do leito entre
estas etapas.

LEITO MISTO
Produo de gua ultrapura
FAIXAS DE VARIAO

EDI 0-2 mg/L;

Troca Inica 2-40 mg/L;
Zona de transio 40-60 mg/L;
Osmose reversa >40 mg/L.

QUALIDADE PARA CALDEIRAS

DE ALTA PRESSO
80 bar e 470C

Slica < 10ppm

Condutividade < 0,2s/cm

ELETRODILISE REVERSA
CARACTERSTICAS DA GUA DE
ALIMENTAO

TDS: 400-3000 mg/L

Turbidez: <0,5 NTU
DQO: <50 mg/L
O&G: <2mg/L
Fe: <0,5 mg/L
Cloro livre : <0,3mg/L
Outros

ELETRODILISE REVERSA
CARACTERSTICAS DA GUA
PRODUZIDA

Remoo de sais: 50-95%

Recuperao de gua: 85-94%

ELETRODEIONIZAO (EDI)
O que ?
Tecnologia
que
utiliza
processo
eletroqumico capaz de remover sais do
meio lquido, objetivando a obteno de
gua pura.

ELETRODEIONIZAO (EDI)
Conceituao
A corrente eltrica promove a remoo de
sais inicos da gua enquanto regenera
continuamente as resinas de troca inica
com H+ e OH- atravs da dissociao de
sais na gua.

ELETRODEIONIZAO (EDI)
Como funciona?
Aplica-se uma corrente eltrica em placas
fixadas ao longo de cada mdulo;
A placa carregada positivamente (nodo)
atrai ao anions;
A placa carregada negativamente (catodo)
atrai os ctions;
Membranas seletivas e resinas de troca
inica destinadas ao transporte dos ions
completam o sistema.

ELETRODEIONIZAO (EDI)
Usos
Polimento em sistemas de desmineralizao
para caldeiras de alta presso;
Indstrias farmacuticas;
Indstrias de equipamentos eletrnicos
Indstrias alimentcias.

ELETRODEIONIZAO (EDI)
VANTAGENS COM RELAO AO
LEITO MISTO

Ausncia de produtos qumicos;

Requer diminuta necessidade de mo de obra;
Sistema mais confivel que o leito misto;
Demanda pouca limpeza (a cada 6 meses);
Funcionamento contnuo;
rea menor;
Menos custos operacionais;
Qualidade de gua produzida constante.
(Si < 5ppb e 10 a 8 mega ohm/cm)

ELETRODEIONIZAO (EDI)
DESVANTAGENS

Maior sensibilidade variao da alimentao;

Limites baixos de dureza
(<1 mg/L de CaCo3 e Si< 1 mg/L)

ELETRODEIONIZAO
CARACTERISTICAS DA GUA DE
ALIMENTAO

Turbidez < 0,1 NTU

TOC < 0,5mg/L
Fe < 0,01mg/L
Cloro livre < 0,05 mg/L
Condutividade < 43 micro s/cm
Dureza total < 0,5mg/L
Slica < 0,5 mg/L

ELETRODEIONIZAO
CARACTERISTICAS DA GUA
PRODUZIDA
Slica 1-10 ppb
Condutividade < 0.1 s/cm
Produo de gua ultrapura PWeWFI

ELETRODEIONIZAO (EDI)
Caractersticas da gua de alimentao e da gua
produzida

PROCESSOS OXIDATIVOS

DEFINIES BSICAS
Oxidao

Conceito Clssico - A Qumica clssica considerava a oxidao como a

combinao de uma substncia com o oxignio. De certa forma a
reduo seria o processo inverso: a diminuio do contedo de oxignio
de uma substncia.
Conceito Atual - Se considera que uma substncia se oxida quando
perde eltrons e que se reduz quando os ganha. Uma substncia no
pode se oxidar se outra no se reduzir, pois os fenmenos de oxidao
e reduo envolvem sempre uma transferncia de eltrons.
Quando o magnsio se oxida, por exemplo, perde dois eltrons (Mg
Mg2+ + 2 e ).
Essa oxidao pode ser produzida por um tomo de oxignio, que
ganha dois eltrons
(O + 2e O 2 ), ou dois tomos de cloro, cada um deles ganhando um
eltron
(2 Cl + 2 e 2 Cl ). Nos dois casos houve uma oxidao do magnsio,
mesmo que no segundo no tenha oxignio envolvido.

DEFINIES BSICAS
Tipos de Oxidantes

Oznio
Perxido de Hidrognio
Perxido de Clcio
Persulfato de Sdio
Permanganato de Sdio/Potssio

MECANISMOS DE REAO ENTRE OH E CONTAMINAN

Roberto dos Santos

PROCESSO DE SELEO - OXIDANTES

Escolher
outra
Tecnologia

H2O2

Seleo do
Oxidante

Este composto???

Oxidvel?

Demanda de N
oxidante
alta?

2
KMnO4
Triagem de
oxidantes

3
Persulfato

Amostra

estvel?

S
Oznio

Escolher
outra
Tecnologia

Demanda de
oxidante
alta?
N

Private & Confidential

Continua
S o
projeto do
processo

estvel?

Roberto dos Santos

42

ADVANCED OXIDATION PROCESSED (AOP)

ULTROX

Private & Confidential

Roberto dos Santos

43

PROCESSOS OXIDATIVOS
AVANADOS (POA)
MECANISMO
Formao de radicais hidroxila por combinao
de oxidantes e catalizadores como ons metlicos
Na oxidao de um composto orgnico h
diferentes reaes envolvendo o radical hidroxila,
como abstrao de hidrognio gerando radicais
orgnicos que reagindo fortemente com oxignio
leva a degradao at gs carbnico
+
RH + OH
R + H 2O
+
+
R + O2
RO2

OXIDAES ATRAVS DE REAGENTES FENTON

Os radicais OH formados oxidam as substncias
orgnicas. No caso do reativo de Fenton, muitas
vezes, esta oxidao no leva mineralizao total
dos
poluentes.
O
material

inicialmente
transformado em alguns produtos intermedirios
que so resistentes s reaes de oxidao
posterior. Isto se deve a complexao destes
intermedirios com os ons Fe(III) e s diversas
combinaes que podem ocorrer com radicais OH
(reaes competitivas).

Roberto dos Santos

PROCESSO FENTON
A gerao do on OH obtida atravs da reao
do perxido de hidrognio e ons ferrosos. A
reao que quando ocorre em pH baixo resulta
mais eficiente
2+
3+
Fe + H2O Fe + OH + OH
2+
3+
Fe + OH Fe + OH

PROCESSO FENTON
No processo foto-fenton a taxa de regenerao
dos ons frricos ainda mais acentuada em
razo de produzir ainda mais radicais hidroxilas
UV
3+
2+
+
Fe + H2O Fe + HO+ OH

FLUXOGRAMA DE POA FOTOOXIDAO: H2O2+ RADIAO UV

UV

H2 O2

FLUXOGRAMA DE POA: FENTON

Fe

H2 O2

FLUXOGRAMA DO POA PEROXOZONIZAO: H202 + O3

Efluente
Tratado
H2O2

O3
O2

Efluente

CENTRIFUGAO DE LODO

FILTRO PRENSA

EVAPORAO DE LODOS

DESAGUAMENTO DE LODOS EM
TUBOS DE GEOTEXTIL

ENSAIOS DE TRATABILIDADE
Ensaios fsicos
Sedimentao
Desidratao
SDI

ENSAIOS DE TRATABILIDADE
Ensaios fsico - qumico
Coagulao / Floculao
Flotao a ar dissolvido
Carvo ativado
Processos oxidativos avanados

ENSAIOS DE TRATABILIDADE
Ensaios Biolgicos
Taxa de consumo de oxignio
Taxa de depleo de oxignio
Lodos ativados

TAXA DE CONSUMO DE
OXIGNIO (Rr)
ODf - ODi
Rr (mg/L.min) =
t1 t2

TAXA DE DEPLEO DE
OXIGNIO (TDO)
Rt
TDO (mg/g.h) =
SSV (g/l)

TDO (TAXA DE DEPLEO DE

OXIGNIO)
Exemplo:
OD2= 8mg/L
OD10 = 2,5mg/L
SSV= 3 g/L
8mg/L 2,5 mg/l
Rr =

= 0,7 mg/L.min
10min-2min
0,7 mg/L min

TDO =

60 min
x

3g/L

= 14 mg/gh
hora

ANEXO
Nmero de oxidao

NMERO DE OXIDAO
NOX
O nmero de oxidao de um tomo est
associado a perda ou ganho de eltrons na
ltima camada em uma ligao inica ou
covalente quando de uma reao qumica.
Se um tomo perde eltrons ele fica com
prtons a mais e o NOX um nmero positivo
correspondente diferena entre prtons e
eltrons. Diz-se que o elemento se oxidou.
Se um tomo ganha eltrons ele fica com
prtons a mais e o NOX um nmero negativo
correspondente diferena entre prtons e
eltrons. Diz-se que o elemento se reduziu.

REAO DE OXI-REDUO
Fe + 2HCl
H2 + FeCl2
0
+1
0
+2
Nesta reao o Fe se oxidou enquanto o
hidrognio se reduziu. O ferro o agente
redutor pois provocou a reduo do
hidrognio e o hidrognio o agente
oxidante, pois provocou a oxidao do
ferro.
Quem perde eltrons se oxida e quem ganha
eltrons se reduz.

NMERO DE OXIDAO
NOX
Exemplos:
O oxignio possui 6 eltrons na ltima
camada. Logo, a tendncia ser receber 2
eltrons para formar um octeto. Neste caso,
ter 2 eltrons a mais do que o nmero de
prtons. Neste caso o NOX=-2.
O Fe+ tem NOX=+2 pois perdeu 2 eltrons de
sua ltima camada em uma reao qumica
com oxignio. Neste caso, o Ferro se oxidou e
o oxignio se reduziu.
Fe e O2 possui NOX=0

REAO DE OXI-REDUO
Nmero de oxidao
Nmero de oxidao de um elemento a
carga que ele recebe na reao qumica.
Exemplo: Calcular o Nox de S em H2SO4.
Da tabela peridica tem-se:
2(1) + S + 4(-2) = 0
2+S8=0
S=+6
O Nox do enxofre (S) = +6

 Exemplo: Calcular o Nox de P em P2O-4.7

Da tabela peridica tem-se:
2P + 7(-2) = (-4)
2P -14 = -4
2P = 10
P= +5

-3

Exemplo: AsO4
Da tabela peridica tem-se:
As + 4(-2)= -3
As = 8-3
As = +5
-3

Exemplo: AsO3
Da tabela peridica tem-se:
As + 3(-2)= -3
As = 6-3
As = +3

 Exemplo: Calcular o Nox de Cl em HClO .

Da tabela peridica tem-se:
1(1) + Cl + (-2)
Cl = +1
Neste caso o NOX de cloro +1
Exemplo: Calcular o NOX do Cloro em
HCl.
Da tabela peridica tem-se:
1 (1) + 1Cl = 0
Cl= -1
Neste caso o NOX de cloro -1

OBRIGADO
Eng Jos Eduardo W. A. Cavalcanti
cavalcanti@novaambi.com.br