Fabrikasi

Fiber Optik
Oleh:
1. Handriyo Sidhi Widagdo (09)
2. Nafiah Khoirul Latifah (13)
3. Sendy Octavian Sakti (19)
4. Triyanti Dyah Pertiwi (20)

TK-2A

Pengertian Fiber Optik

Fiber optik adalah saluran transmisi atau
sejenis
kabel
yang
terbuat
dari kaca atau plastik yang sangat halus dan
lebih kecil dari sehelai rambut, dan dapat
digunakan
untuk
mentransmisikan
sinyal berupa cahaya dari suatu tempat ke
tempat lain.

Struktur Fiber Optik

Fabrikasi Fiber Optik

Pembuatan fiber optik ada 2 cara:
a.Direct Melt
b. Vapor Phase Oxidation

Direct Melt
Mengikuti proses pembuatan gelas
secara tradisional
Fiber optik dibuat secara langsung
dari cairan komponen gelas silika
yang murni
(from molten state)

Vapor Phase Oxidation

Bahan Pembuatan:
1. Uap logam halida (SiCl4) + bahan
dopan (GeCl4) + oksigen = SiO2
2. SiO2 masuk proses Sintering
Preform
3. Preform yang dihasilkan memiliki
diameter
10-25 mm dan
panjangnya 60-120 cm

Metode Vapor Phase

Oxidation
Dalam Proses pembuatan fiber optik dengan
cara VPO ini terdapat beberapa metode yaitu:
1. Metode OVPO (Outside Vapor Phase
Oxidation)
2. Metode VAD (Vapor-phase Activated
Depsition)
3. Metode MCVD ( Modifided Chemical Vapor
Deposition)
4. Metode PCVD(Plasma-activated Chemical
Vapor Deposition)

Metode OVPO (Outside Vapor

Phase Oxidation)
Penyambungan silinder kaca dengan
cara
pembakaran
(burning)
menggunakan Hidrogen,oksigen.
Dalam proses ini menggunakan Silika
dan bahan dopant (germanium).

Metode OVPO (Outside Vapor Phase

Oxidation)

Pembentukan Preform Dengan Metode OVPO

Metode VAD (Vapor-phase Activated

Depsition)
Pada metode VAD, proses
pembentukan partikel SiO2sama
dengan yang terjadi pada OVPO.
Dopant yang digunakan adalah
erbium, neodynium, iterbium, atau
thuliyum.

Metode VAD (Vapor-phase Activated

Depsition)

Pembentukan Preform
Dengan Metode VAD

Metode MCVD ( Modifided Chemical

Vapor Deposition)
Proses sintering oleh H2O2 burner
(oxyhydrogen)
yang
berjalansepanjang
silica
pipe
sehingga diperolehclear glass layer
(sintered glass)

Metode MCVD ( Modifided Chemical

Vapor Deposition)

Metode PCVD(Plasma-activated
Chemical Vapor Deposition)
Proses pembentukan yang terjadi
pada silica tube. Nonisothermal
plasma beroperasi pada
tekananyang rendah untuk
menginialisasi reaksi kimia. Silica
tube berada pada temperatur 10001200oCuntuk mengurangi tekanan.
Microwave resonator yang bekerja
pada 2.45 GHz berjalan
sepanjangsilica tube untuk

Metode PCVD(Plasma-activated
Chemical Vapor Deposition)

Fabrikasi Fiber Optik

EKIAN DAN TERIMAKASIH