Jelajahi eBook
Kategori
Jelajahi Buku audio
Kategori
Jelajahi Majalah
Kategori
Jelajahi Dokumen
Kategori
SPEKTROSKOPI MASSA
6. Bagaimanakah perbedaan metode produksi ion dengan ionisasi elektron dan ionisasi
kimia? Bagaimanakah penampakan spektrum keduanya?
Jawab:
Proses ionisasi dalam metode ionisasi elektron bermula ketika sampel dalam bentuk gas akan
dilewatkan sistem inlet melalui arus elektron diantara dua elektroda filamen panas sehingga
terjadi tumbukan hebat antara molekul dan elektron serta terjadilah pengionan.
Sedangkan dalam metode ionisasi kimia, atom-atom sampel dalam bentuk gas akan
terionisasi melalui tumbukan dengan ion-ion yang dihasilkan dari hantaman elektron gas
pereaksi seperti gas metana yang biasanya diberikan berlebih.
SPEKTROSKOPI MASSA
SPEKTROSKOPI MASSA
7. ISILAH TABEL PERBANDINGAN METODE IONISASI DIBAWAH INI:
EI CI FI
Prinsip Metode ionisasi Prinsip metode ini atom-atom Prinsip metode ionisasi
menggunakan kawat dalam sampel bentuk gas medan: medan listrik kuat
tungsten atau kawat rhenium akan terionisasi melalui dihasilkan dengan cara
yang memproduksi elektron tumbukan dengan ion-ion memberikan tegangan
yang akan dipercepat oleh yang dihasilkan dari tinggi(10-20 KV) pada logam
potensial mendekati 70 v hantaman medan elektron tungsten yang memancarkan
diantara filamen anoda dari gas pereaksi energi
Instrumen Metode ini digunakan untuk Energi yang ditransfer pada Mempunyai momen dipol
sampel yang volatil dan stabil proses ionisasi dengan tinggi dan juga kemempuan
pada temptarur tinggi metode ini berkisar 10-50 untuk
kkl/mol atau 40-200 kj/mol terpolarkan(polarizability)
Hasil Pada metode akan Menghasilkan suatu reaktan Pada ionisasi medan
menghasikan ion yang berupa gas yang lebih menghasilkan molekul besar
posotif(kation) dan berat kedalam sampel dan kompleks
menghasikan ion
negatif(anion)
SPEKTROSKOPI MASSA
10. Jelaskan perbedaan utama TOF dan Quadropolar MF dalam hal mekanisme pemisahan ion-ion.
Dalam TOF, ion akan melewati tabung layang yang bebas medan, ion yang mempunyai massa yang berbeda-
beda akan mempunyai kecepatan yang berbeda pula untuk mencapai detektor. Partikel yang lebih ringan akan
memiliki kecepatan yang besar dan mencapai detektor terlebih dulu daripada partikel yang bermassa besar.
Dalam quadropolar mass-filter, ion dengan perbedaan rasio m/z yang tidak terlalu besar akan melewati separator
yang terdiri dari 4 batang yang saling berhadapan dan berpasangan. Ion yang masuk dalam sistem ini akan
berosilasi dengan amplitudo yang semakin lama semakin besar dan akhirnya akan membentur elektroda. Ion
dengan rasio m/z tertentu akan melaju melalui analis dan sampai pada detektor. Rasio m/z ini ditentukan oleh
kekuatan tegangan rf dan frekuensi.
Pemisahan ion pada TOF didasarkan pada seberapa lama suatu ion terbang dalam tabung layang untuk
mencapai detektor, sedangkan quadropolar mass-filter pemisahan ion didasarkan pada perbedaan
frekuensi dan tegangan DC yang digunakan.
SPEKTROSKOPI MASSA
Sumbu x: intensitas
Sumbu y: massa per muatan (m/z)
SPEKTROSKOPI MASSA
ICP-MS merupakan jenis spektrometri massa yang mampu mendeteksi logam dan beberapa non logam dengan
konsentrasi sangat rendah (ppq).
SPEKTROSKOPI MASSA
Aplikasi ICP-MS :
1. Dapat mengukur kandungan beberapa elemen di tanah, seperti boraks, fosfor, dan molybdenum,
pada tingkat tidak dapat diakses oleh metode lain
2. Matriks sampel lingkungan, yang mungkin berisi konsentrasi rendah dan mengandung unsur
campur, sehingga pada sejarahnya ada kesulitan dalam menentukan analit dalam sampel yang
dianalisis.
17 Apa yang dimaksud dengan Secondary Ion Mass
Spectrometer?
Latar Belakang
Teknik SIMS ditemukan pada tahun 1910, oleh J.J. Thomson dimana pada saat itu ditemukan
fenomena emisi dari partikel sekunder. Namun, SIMS pertama kali secara komersial dibuat
oleh Herzog dan asistennya dibawah kontrak kerja dengan NASA.
Prinsip Penggunaan
SIMS adalah teknik analisis permukaan dimana pada dasarnya menggunakan spektrometri
massa ion sekunder. Permukaan sampel dibombardir oleh tembakan ion primer yang
bersifat energetic (~1 – 20keV) hingga menyebabkan terjadinya emisi dari partikel netral dan
partikel bermuatan. Ion sekunder yang diemisikan diekstrak melalui alat potensial elektrik
dan dianalisa dengan menggunakan spektrometer massa.
on Beam Sputtering
Interaksi tembakan/beam primer dengan sampel menghasilkan keluaran/ejeksi ion sekunder dan netral,
mencakup fragmen molekul dan klaster. Tembakan ion menginduksi pencampuran atomik sama seperti proses
implantasi ion primer yang menempel dan membentuk lapisan yang berbeda terhadap permukaan material.
Instrumentasi
Primary Sources
Sumber primer ion bisa berasal dari bahan yang reaktif maupun inert. Sumber reaktif seperti Oksigen
dan Cesium digunakan untuk meningkatkan keluaran ion sekunder positif dan negatif, disatu sisi sumber yang
inert seperti Argon dihasilkan oleh sumber electron impact. Ion cairan logam seperti Galium menghasilkan spot
size tembakan ion primer yang kecil dan resolusi lateral imaging/pencitraan lateral yang paling baik.
Mass Analyzers
Tiga tipe utama alat mass-analyzers adalah quadrupole, double focusing magnetic sector dan time-of-
flight. Masing bagian memiliki kelebihan dan kekurangan dalam hal biaya operasi, kecepatan operasi, resolusi
massa, efisiensi transmisi, dan kemampuan deteksi rentang massa.
Detektor
Detektor yang seringkali digunakan adalah electron multipliers atau Faraday cup. Untuk
pencitraan/visualisasi image digunakan detektor dual-channel plates atau anoda tahanan/resistive anodes.
Spesifikasi
SIMS mampu mendeteksi semua unsur mulai dari hidrogen (H) sampai dengan uranium (U) dengan
kepekaan deteksi sampai ke tingkat ppm (parts per million) atau bisa juga mencapai tingkat ppb (parts per
billion). Batas kemampuan deteksi SIMS memiliki variasi yang bergantung kepada unsur dan parameter
instrumentalnya. Pada kebanyakan pengotor di dalam semikonduktor, biasanya bernilai antara 1013 at/cm3 –
1017 at/cm3. Depth resolution sekitar 10 nm dapat dijangkau pada kebanyakan sampel. Beberapa insulator
dapat dianalisa dengan menggunakan electron charge compensation. Perhitungan dari komposisi unsur dapat
dicapai dengan menggunakan referensi standar material dan relative sensitivity factors (RSFs).
Kerugian
• Mass interference sering terjadi
• Secondary ion yields sangat bergantung kepada matriks
• Secondary ion yields vary by more than six orders of magnitude across the elements
• Bersifat merusak (destructive)
• Well-characterized reference standards that are as close as possible to the matrix of the samples of interest are needed for
quantification
• Unsur yang ingin diamati harus dalam keadaan konsentrasi terlarut (<1%) untuk meniadakan pengaruh matriks
Catatan
• Sampel harus kompatibel dengan ultra-high vacuum
• Sampel biasanya dibuat datar untuk instrumen sektor magnetik
• Kehadiran permukaan sementara membutuhkan perhatian ketika puncak perhitungannya mendekati 50nm dari
permukaan
• Efek kekasaran permukaan
• Pencampuran atomik dengan sputter dan topografi dapat menurunkan depth resolution
• Perhitungan struktur yang berlapis cukup rumit, apabila ion yields bervariasi antara matriks satu dengan matriks yang lain
dan juga pada antarmuka diantara lapisan-lapisannya.
Mode Operasi
Walaupun mass spectra dan ion images dapat dijangkau, namun aplikasi SIMS biasanya banyak digunakan untuk mengetahui
depth profile.
SPEKTROSKOPI MASSA
e. Aldehida
Pemutusan ikatan yang terletak disamping
karbonil berakibat pada hilangnya satu hidrogen
(berat molekul berkurang 1) atau hilangnya
gugus CHO (berat molekul berkurang 29).
Contoh : 3-fenil2-propenal
SPEKTROSKOPI MASSA
f. Keton
Sebagian besar fragmentasi keton terjadi pada ikatan
C-C yang terletak di sebelah gugus karbonil
SPEKTROSKOPI MASSA
h. Asam Karboksilat
Asam karboksilat memiliki fragmentasi yang
khas dimana yang lepas pertama kali adalah
gugus OH (berat molekul berkurang 17) atau
gugus karbonil (berat molekul berkurang 45)
karena adanya pemutusan ikatan karena
adanya pemuusan ikatan disamping gugus
karbonil. Contoh : asam-2-butanoat