Anda di halaman 1dari 5

01 ELECTRON BEAM

LITHOGRAPHY

Tugas 1 02 ELECTRON BEAM


LITHOGRAPHY
Teknologi
NEMS/MEMS 03 EUV Lithography

04 EUV Lithography
01
ELECTRON BEAM
LITHOGRAPHY
Litografi berkas elektron adalah teknologi modern yang
menggunakan berkas elektron yang diekstraksi, difokuskan, dan
dipercepat hingga 20kv. Tiga sumber utama elektron adalah
pemancar termionik, pemancar foto, dan pemancar lapangan. Saat
ini, litografi berkas elektron digunakan terutama dalam mendukung
industri sirkuit terpadu. Fleksibilitasnya membuatnya ideal untuk
membuat topeng yang dapat digunakan oleh teknologi lain
termasuk x ray litografi. Ini juga digunakan untuk menulis pola
kompleks langsung di wafer. Prosedur yang terlibat dalam litografi
berkas elektron hampir mirip dengan fotolitografi. Kedua teknologi
menggunakan resistensi foto dan bahan kimia yang berbeda untuk
mengembangkan bagian yang terbuka. Tahanan foto berkas
elektron yang paling umum digunakan adalah
polymethylmethacrylate (PMMA). PMMA terurai menjadi monomer
setelah terpapar elektron, yang kemudian dikembangkan
menggunakan bahan kimia yang disebut metil-isobutilon keton
(MIBK)
02 Ada beberapa keuntungan menggunakan litografi berkas Elektron dibandingkan
fotolitografi. Pertama dan untuk sebagian besar, ia memiliki resolusi tinggi hingga 20
nm. Kedua, dapat mencetak pola rumit yang dihasilkan komputer secara langsung
pada wafer. Ini adalah teknik yang sangat fleksibel yang dapat bekerja dengan
berbagai bahan dan jumlah pola yang hampir tak terbatas. Beberapa kelemahannya
meliputi: sangat mahal dan kompleks dengan biaya perawatan yang tinggi, masalah
hamburan ke depan dan hamburan ke belakang, dan kecepatan yang lebih lambat.
Ketika elektron menembus resistansi, sebagian kecil dari mereka akan mengalami
hamburan sudut kecil. Masalah hamburan maju ini dapat menghasilkan profil balok
secara signifikan lebih luas di bagian bawah resistansi daripada di atas.

Ada tiga bagian penting dari mesin electron beam lithography (EBL): senapan
elektron, sistem vakum, dan sistem kontrol. Elektron dipancarkan dari ujung filamen
dan tertarik ke sebuah

anoda. Elektron yang dipancarkan terfokus ke dalam balok menggunakan lensa


elektromagnetik, yang menentukan diameter ukuran spot balok. Pelat
elektromagnetik juga digunakan untuk memperbaiki astigmatisme yang mungkin
terjadi ketika memfokuskan sinar. Sistem vakum adalah bagian penting dari EBL,
karena mengisolasi berkas dari gangguan luar.
01 MORE THAN TEMPLATE

Analysis
Creativity is the key to success in the future, and

86% primary education where our teachers can bring


morel gypsum

Creativity is the key to success in the future, and primary education


where our teachers can bring morel gypsum AR

500%
200%
18%
THANK YOU