Maya Saputri

Teknik Metalurgi
071416

1
Outline
Pendahuluan
Pyhsical Vapor Deposition (PVD)
Chemical Vapor Deposition (CVD)
Keuntungan dan Kelebihan
Aplikasi
Daftar Pustaka
Penutup

2
 Pendahuluan
Vapor deposition
Proses pelapisan pada permukaan logam
dengan deposisi uap.
Selain sebagai pelapis tahan korosi, proses ini
dapat meningkatkan sifat mekanik seperti
keausan, tahan gesekan dan kekerasan dalam
aplikasi pemotongan.

3
Terbagi menjadi 2 kategori :
Pyhsical Vapor Deposition (PVD)
Chemical Vapor Deposition (CVD)

Kedua proses tersebut memiliki satu

karakteristik yang sama :
“Jenis deposisi adalah ditransfer dan diendapkan
dalam bentuk atom-atom individu atau molekul”.

Perbedaan utama proses tersebut pada hasil lapisan

deposisi :
PVD = line of sight
CVD = no line of sight
4
 Pyhsical Vapor
Deposition
• Proses dilakukan dalam ruang hampa dimana
material pelapis dirubah ke fasa uap dan
dideposisikan pada permukaan material dasar
sehingga terjadi lapisan yang sangat tipis
(thin film).
• Jenis PVD berdasarkan mekanismenya :
o Sputtering
o Evaporation
o Ion plating

5
 Sputtering
Merupakan proses PVD utama.
Pada tahun 1970 sputtering berkembang
pesat dalam industri semikonduktor.
Merupakan proses line of sight
Sputtering teknik terbaik untuk deposisi
lapisan tipis pada logam ( berkisar 1000 Ao)

6
7
 Evaporation
Proses PVD yang pertama kali digunakan
dalam industri, untuk metalisasi Al dari plastik
dan kaca untuk tujuan dekoratif.
Proses metalisasi lebih sederhana dan dapat
dilakukan produksi massal.
Tidak seperti proses deposisi uap lain,
eveporation adalah proses rendah energi,
dengan energi partikel rata-rata 0,2 - 0,3 eV

8
9
 Ion Plating
Merupakan kombinasi antara proses
sputtering dengan evaporation.
Dengan adanya gabungan sistem pada proses
maka akan meningkatkan energi untuk
mendeposisi.
Energi partikel 200 eV

10
11
 Chemical Vapor
Deposition
Deposisi dari padatan yang permukaannya
dipanaskan lewat reaksi kimia berdasarkan
penguapan atau fasa gas.
Proses yang secara ekstensif digunakan pada
industri semikonduktor dan cutting tool.
Proses yang cocok sangat baik untuk aplikasi
korosi pada senyawa dan logam refraktori.

12
13
Keuntungan dan
Kerugian
CVD
Keuntungan :
• Dapat mendeposisi material refraktori pada
jauh dibawah temp melting dan sintering.
• Dapat mengontrol besar butir
• Tidak memerlukan ruang hampa
• Memiliki ikatan yang kuat antara pelapis
dan permukaan material yang dilapisi.

14
Kerugian :
• Diperlukan ruang tertutup rapat dan pompa
khusus agar dampak korosif dan racun dapat
dihindarkan
• Beberapa reaksi memerlukan biaya yang
mahal
• Efesiensi pemanfaatan material rendah

15
PVD
Keuntungan :
PVD memiliki kekuatan dan ketahanan korosi yang
lebih tinggi dibandingkan dengan proses
elektroplating. Selain itu pula, PVD juga memiliki
ketahanan temperatur tinggi, kekuatan impak,
ketahanan aus dan proteksi paling lama dari
seluruh teknik pelapisan yang ada.
Dapat digunakan baik material organik maupun
anorganik dengan bentuk lapisan dasar
permukaan yang beragam.
Lebih dari satu lapisan dapat diberikan.

16
Kerugian :
Teknologi yang lebih spesifik dapat
menyebabkan kendala tertentu.
Proses membutuhkan temperatur tinggi dan
ruang hampa udara sehingga butuh personil
atau operator khusus.
Memerlukan pendingin untuk sistem
pemanas.
Teknologi baru masih perlu beberapa
pengalaman dan eksperimen.
Biaya proses mahal.

17
18
Pelapisan pada grafite
dalam aplikasi nozzel roket atau komponen
turbin
menggunakan proses CVD
Al coating steel
dalam aplikasi industri ruang angkasamaterial
sambungan bahan bakar , konektor listrik
mengunakan ion plating
Alloy coating for turbin gas
paduan MCrAlY melapisi turbin pesawat
menggunakan PVD evaporation dan
sputtering
19
 Daftar pustaka
ASM Metals Handbook vol.13 9th edition. 1992.
”Thermal Spray Coatings”.

20
21