Sintesis, Modifikasi, dan Penerapan Nanosilika

pada Basis Gigi Tiruan Bahan Dasar Polymethyl

Methacrylate

Pembimbing : Drg. Sopan Sinamo, Sp. Pros

 Fateh Hayati Iatassomi

 Junita Elvrida Doloksaribu

 Pedahuluan
 Partikel Nanosilica (NPs) sering digunakan sebagai pengisi
untuk meningkatkan sifat material, terhadap ketahanan abrasi,
sifat mekanikal, dan indeks refraksi.

 Methacryloxypropyltrimethoxysi (MPS) adalah agen konektor

silane yang paling sering digunakan dalam kedokteran gigi
untuk memodifikasi permukaan silika
 BAHAN DAN METODE

• NPs bulat disiapkan melalui hydrolysing

Jumlah MPS yang digunakan untuk
silanisasi NP dihitung menggunakan
Sint esis dan m odif ikasi N Ps

tetraethoxysilane (TEOS) dalam etanol (ETH), air

suling (H22O), amonium hidroksida (NH44OH). persamaan Posthumus’s equation yang
• Ukuran partikel dikontrol dengan konsentrasi TEOS, dimodifikasi) sebagai berikut:
H22O, dan NH44OH di dalam ETH, seperti yang
dijelaskan sebelumnya.
• NPs 36 nm disintesis dari: konsentrasi X=msilica×MWMPS×MMPS×BETsilica×10−6
TEOS=0,322mol/l H22O=1mol/l dan NH44O=0,233mol/
• TEOS= 8ml + 100 mL ETH  diaduk pada suhu
kamar (RT) (23±2 ° C) selama 10 menit.
• Selanjutnya, H22O=2mL + drop dengan ditetes ke
media reaksi untuk memfasilitasi TEOS hydrolysis.
Setelah 90 menit, NH44OH=1mL (katalis) ditambahkan
ke campuran reaksi. Reaksi berlanjut selama 7 hari
untuk mendapatkan NPs monodispersed. Hasil akhir
nanopartikalsilika
Metode dilakukan dengan NPs di silanisasi dengan 0,
0,061, 0,123,0,246, 0,493, 0,987, dan 1,974 g MPS/gsilika
MPS. MPS telahdi-hydrolyzeddalam 80% ETH di RT
selama 1 jam. MPS ter hidrolisis ditambahkan ke
suspensi NPdan diaduk menggunakan pengaduk
magnetik pada 200 rpm selama 2 jam di RT, dan
kemudian diuapkan.
pada 70 ° C selama 4 jam dan dinginkan dan dibagi
menjadi dua bagian untuk analisis. Bagian pertama
dikeringkan dengan oven pada 50±5 ° C.
Proses ini menghasilkan campuran NP yang diinserisasi,
MPS yang belum direaktisasi, dan MPS
homokondensasi, yang disebut sebagai sampel kering.
Bagian lain diencerkan dengan isopropanol pada rasio
3:1 (v/v) untuk meningkatkan kelarutan MPS yang
homokondensasi.
Sampel ini diserbangi menggunakan
sentrifugasi kecepatan tinggi (Avanti®® J-E,
Bechman Coulter, Indianapolis, IN, AS)
pada 20.000 rpm untuk 2 jam di RT
MPS yang homokondensasi dan MPS
yang tidak direaksional, dimusyutkan
fromsedimen. Sedimen ini terdiri dari NPs
yang di silanisasi dengan MPS.
Sedimen ini disebut sebagai sampel
sentrifuged. Sampel kering dan sentrifuged
dikeringkan pada 50±5 °C dalam oven
setidaknya selama 16 jam.

Karakterisasi NPs
• Transmisi elektron microscopy (TEM)
• Evaluasi hamburan cahaya dinamis
(DLS)
• Analisis fisisorpsi otomatis
• Fourier transform infrared
spectrophotometry
• Analisis elemen organik
Flexural strength (FS) dan evaluasi
modulus fleksibel (FM) NPs diperkuat
basis gigi palsu PMMA
• Efek dari jumlah nps
• Efek dari jumlah MPS
(Spesimen dalam kelompok-
kelompok ini dibuat seperti yang
dijelaskan di atas dan dievaluasi
untuk FS dan Fm)
 Tes FS dan FM
FS dan FM ditentukan
menggunakan uji lentur tiga
poin
FS dan FM dihitung menggunakan
perangkat lunak Trapezium II
(Shimadzu). FS (σ)dan FM (E)
dihitung menggunakanpersamaan
berikut:
σ=3FL/2bh2
E=FL3/4bh3ddi
Tes FT
FT bertekad melakukan tes lentur tiga poin
FT (Kmax) dihitung dari persamaanberikut:
Kmax=ƒPmaxlt √10−3
/(btht3/2)
Pemindaian mikroskop elektron (SEM)
setelah uji FT lentur tiga titik diamati
menggunakan mikroskop elektron
pemindaian emisi lapangan
Pengukuran warna
Spektrofotometer(Ultrascan XE, Hunter Lab,
Reston, VA, AS) digunakan untuk mengukur
perubahan warna menggunakan sistem warna
CIE L*a *b *.
Nilai ∆E dihitung berdasarkan nilai L*, a*, dan
b* yang diperoleh pada latar belakang hitam
antara kontrol dan grup eksperimental
menggunakanpersamaan berikut:
∆ E=[(L*1−L*2)2+(a*1−a*2)2+(b*1−b*2)2]1/2
Analisis statistik
FS, FM, dan ∆E sebesar 0,246 gMPS/gsilika
sebesar 0–15% dari kelompok NP silanisasi
dan FS, FM, FT dan ∆E dari 0–1,974
gMPS/gsilika dari 1% jumlah kelompok NP
silanisasi dianalisis menggunakan ANOVA
satu arah dan perbandingan pasca-hoc Tukey
(SPSS versi.20, IBM, Armonk, NY, AS).
Tingkat signifikansi ditetapkan pada titik
α=0,05.
 Kesimpulan
Dalam keterbatasan penelitian ini, disimpulkan bahwa
jumlah MPS dalam monolayer chemisorbed pada NPs
bulat 36-nm adalah 1,77 μmol / m 2 dan jumlah
molekul MPS dalam monolayer chemisorbed adalah
1,77 μmol / m2 dan jumlah molekul MPS dalam
monolayer chemisorbed
1.07 molekul /nm2. Persamaan Arkles tidak berlaku
dalam menghitung jumlah silan chemisorbed pada
NPs. Basis gigi palsu PMMA diperkuat dengan 0,246
gMPS/gsilika 1% jumlah NPs silanisasi menyediakan FS,
FM,dan FT tertinggi dengan biaya yang dapat ∆E.