Chemical Vapor Deposition

of Photocatalyst Nanoparticles
on PVDF Membranes for
Advanced Oxidation Processes

Disusun Oleh:
Fatihah Lailayen Jaoh
1197030013

layenleelieang@gmail.com
Latar belakang

Film tipis adalah lapisan material yang memiliki ketebalan bervariasi dari puluhan nanometer hingga
beberapa mikrometer. Mereka umumnya diperoleh dengan proses deposisi pada permukaan substrat
yang diberikan. Pertumbuhan film tipis umumnya merupakan proses dua langkah di mana langkah
nukleasi acak awal diikuti oleh pertumbuhan yang teratur. Nukleasi dan pertumbuhan dan akibatnya
struktur film tergantung pada kimia substrat (komposisi dan struktur permukaan), metode yang digunakan,
dan kondisi pengendapan.

Metode pengendapan film tipis diklasifikasikan dalam metode pengendapan fase padat, cair, dan gas
sesuai dengan keadaan fisik material yang diendapkan. Klasifikasi lebih lanjut dari deposisi gasmetode
membedakan deposisi uap kimia (CVD) dan deposisi uap fisik (PVD) proses. Kedua metode tersebut
melibatkan pengendapan atom atau molekul yang dibawa dalam fase uapnya ke permukaan substrat.
Dalam proses CVD, bahan (target) yang diendapkan bereaksi secara kimia dengan substrat, sedangkan
dalam proses PVD, molekul dan substrat yang diendapkan masih berbeda.
 Pengertian Chemical vapor deposition
01 CVD merupakan proses yang menghasilkan lapisan coating secara kimiawi
atau dengan reaksi kimia pada permukaaan material yang dipanaskan

Fotokatalis
02 Fotokatalisis sendiri adalah suatu proses yang dibantu oleh adanya cahaya dan
material katalis. Katalis adalah suatu zat yang mempengaruhi proses laju reaksi
tanpa ikut berubah secara kimia.
 Section Break
Insert the title of your subtitle Here

Skematisasi fotoaktivitas katalis nanopartikel (CNp)

 Alat dan Bahan
Insert the title of your subtitle Here

Ultrasonic
PVDF Metanol ZnO
Cleaning

Spektrometer Contact Angel

Argon Ti
micro Raman Meter
Alat dan Bahan

microsyringe
Prosedur Percobaan
3 Jam
Pemanasan

4 Jam
Pelapisan

6-8 Jam
Pendinginan
 Prosedur Percobaan
Spektrometer micro Raman
ZnO diendapkan pada dihubungkan ke kamera Morfologi membrane
Membran dicuci membran PVDF dengan warna untuk dan nanopartikel
dalam metanol dengan sputtering Argon mengkonfirmasi keberadaan Diselidiki dengan
ultrasonic cleaning 99,999% dari target ZnO lapisan tipis Memindai mikroskop
99,99%. TiO2 anatase electron

Larutan umpan (pada 25 ± 1 C) Analisis bentuk

Teteskan 2 µL air ke
dipompa sejajar dengan permukaan dan ukuran
dalam sampel permukaan
membran oleh pompa roda gigi nanopartikel
dengan microsyringe
pada tekanan transmembran 0,4 bar

Sampel dikumpulkan setiap Fotoaktivitas lapisan ZnO Sisi membran yang

5 menit untuk menentukan dan TiO2 diuji dalam skala tergagap terkena sinar UV
transmembran fluks. kecil dari lampu uap merkuri
 Your Picture Here

Hasil 1

Morfologi membran PVDF dan TiO2 setelah waktu sputtering yang berbeda (t): (A)
membran PVDF; t = 0, (B) t = 1 jam; (C) t = 2 jam; (D) t = 3 jam; (E) t = 4 jam.
 Morfologi membran
PVDF dalam kondisi
Hasil 2 eksperimental:

(A) membran PVDF

virgin;

(B) ZnO membran

PVDF tergagap;

Dan (C) TiO2

membran PVDF
tergagap.
 (A,B) (SEM) mikrograf
elektron hamburan balik
Hasil 3
(C,D) pemetaan unsur

(E sampai H) energi
dispersif X-ray (EDX)
analisis TiO2 (kiri) dan
ZnO (kanan) membran
PVDF tergagap.
Hasil 4

(C)
Hasil 5
Hasil 6