5-PROSES-PROSES SERBUK, LOGAM KERAS, SERAMIK

DAN SERAMIK KACA

5.1

Pengenalan

Penggunaan proses-prose serbuk amat meluas bagi pengeluaran berbagai

jenis bahan

Proses-proses ini melibatkan logam/aloi logam, seramik dan oksida yang

dibentuk dalam keadaan masih serbuk menjadi sesuatu bentuk tertentu dan
kemudian disinter

Pensinteran (=perubahan serbuk jasad tegar) berlaku secara

1) pemindahan jirim (atom/molekul) ke dalam ruang di antara zarah serbuk
2) pemindahan melalui proses cecair

Teknologi terbaru/terkini:pemejalan pantas/pengatoman. Hasil pemejalan

pantas (reben dan gentian) perlu dihancurkan ke saiz mikron unuk jadi
serbuk halus. Biasanya serbuk daripada proses ini digunakan dalam prosesproses plastik e.g. pengacuan suntikan

Untuk kebanyakan proses-proses serbuk, pembentukan produk memerlukan

pensinteran (pembakaran) kerana sifat-sifat fizik bahan terutamanya takat
lebur/lembut yang tinggi. Belum wujud proses lain untuk gantikan
pensinteran.

5.2

Kaedah-kaedah pengeluaran serbuk

1)

Penurunan oksida

Beberapa proses penurunan oksida logam boleh digunakan.

Hidrogen sering digunakan.

Penurunan dengan gas boleh dikawal supaya memberikan zarah

berbentuk tertentu dan saiz zarah bergantung kepada suhu, kadar
pengaliran gas dan saiz asal zarah.

Contoh lazim: Penurunan ke W, Fe, Mo dan Co.

W:

WO3

dimendak

daripada

larutan

asid

ditulenkan dan diturunkan dalam hidorgen pada 850

Hasil: zarah W 1-20m boleh didapati.
Fe: Amang besi/sisik besi }

Fe
Penurunan
dengan gas
H2

tungstik.

Medakan

2)

Pengatoman dengan gas dan Pemejalan pantas

Lihat kuliah terdahulu

Nota: Pengatoman terus berikan serbuk halus

Pemejalan pantas: reben/gentianserbuk halus
hancur

3)

Pengatoman emparan
(lihat g.rajah)

Elektrod diarkakan menetang anod logam.aloi yang berputar. Titisan

leburan dihasilkan dari permukaan eletrod dan memejal sebagai
serbuk.

4)

Teknik sol-gel

Menghasilkan sfera halus berketumpatan rendah. Sebagai suatu

kelompok sfera-sfera ini mempunyai keluasan permukaan yang tinggi
dan aktiviti kimia yang tinggi. Sfera-sfera ini boleh disinter ke
ketumpatan amat tinggi (teori) pada suhu yang rendah

Sol: Ampaian zarah koloid hasil daripada pemendakan dari larutan

akues (berair)
Gel: bahan likat yang terhasil daripada pempolimeran sol. Ia diperolehi
dengan/melalui penyejatan air atau mengubah nilai pH bagi sol.
Pemanasan dan pengacuan sol secara serentak boleh memberikan hasil
solgel

Dua cara lazim dalam industri untuk dapatkan sfera halus:

1)-Sol dipecahkan menjadi titisan halus
- titisan dilakukan melalui suatu turus cecair yang boleh menyingkir
air daripada titisan sol
2)- pH dikawal dengan memasukkan ammonia (misalnya melalui
hexamethy tetramine) ke dalam sol
- titisan sol dilakukan melalui bendalir organik yang panas untuk
membebaskan ammonia.
Pengeringan selanjutnya menghasilkan sfera gel berketumpatan rendah.

Pensinteran boleh berlaku pada suhu rendah. Misalnya proses biasa bagi
SiO2 memerlukan 1750oC. Proses sol-gel membolehkan silika didapati
pada suhu 700oC.

5)

Serbuk daripada karbonil

Serbuk besi tulen boleh didapati daripada gas penguraian karbonil besi
Fe (Co):
Fe (Co)
1 atmosfera
150-400oC

Fe

Zarah bentuk sfera bagi Fe boleh didapati dengan mencampurkan

karbonil

besi

dengan

gas

nadir

(eg.

Ar)

dan

penguraian

Fe(Co)Fe dilakukan dalam bekas tanpa sentuhan dengan permukaan

bekas yang panas.
5.3

Pengukuhan serbuk
(rujuk g.rajah)

5.4

1)

Pemadatan dan pensinteran (rujuk g.rajah)

2)

Pengacuan suntikan (rujuk g.rajah)

3)

Pemadatan dinamik (rujuk g.rajah)

4)

Tekanan isostatik panas (rujuk g.rajah)

Pensinteran (rujuk g.rajah)

1)

Pensinteran keadaan pepejal (PKP) (rujuk g.rajah)

2)

Pensinteran fasa cecair (rujuk g.rajah)

1- Pembentukan cecair (*1)
2- Pembesaran zarah (*2)
3- Proses PKP (*3)

*1 : Bahan tambah (additive) cair, tersebar ke dalam liang dan menarik zarahzarah supaya menjadi rapat dengan tarikan daya rerambut.

*2 : Zarah saiz kecil larut dalam cecair (additive) dan mendak semula
dipermukaan zarah saiz besar. Kawasan leher (neck) dan kawasan tajam
juga larut dan mendak semula di permukaan zarah besar. Resapan juga
berlaku pada masa yang sama; demikian juga pertumbuhan butir.
*3 : Lihat 1).... (PKP)
3)

Pensinteran serbuk terikat (reaction bonding)

Murah dan persis

Contoh: 3Si
+
(serbuk)

2N2 = SiN4
(gas)
(serbuk)

atau
Si
(serbuk)

C =
(serbuk)

SiC

Sebenarnya serbuk-serbuk di atas, sebelum disinter, dicampur dengan

polimer supaya bersifat plastik. Kemudian digelek, disemperit atau
ditekan. Berbagai bentuk boleh dibuat.

Semasa pensintern, polimer terbakar keluar pada suhu sederhana; pada

suhu tinggi serbuk bertindak balas (e.g. Si + C)

Hasil proses ini berkeliangan tinggi (tidak tumpat). Tetapi baik untuk
tujuan kawal dimensi produk tanpa proses tambahan.

5.5

Bahan keras

Ini bermaksud bahan yang digunakan untuk pemotongan logam; contoh:

karbida logam, oksida, nitrida dan intan.

Industri banyak menggunakan karbida tungsten (WC) dan karbida titanium

(TiC) sebagai alat pemotong.

Kategori alat pemotong yang penting ialah:

Keluli kelajuan tinggi
Karbida titanium
Sermet (Cermets)
Seramik

Bahan keras dibuat dengan proses serbuk yang berbagai; juga proses
pengerasan permukaan sudah mula digunakan.

5.6

Bahan seramik

Bahan yang mempunyai kekerasan yang tinggi dan tahan suhu tinggi;
berbagai jenis digunakan dalam industri.

Contoh: Oksida

Al2O3, SiO2

Karbida

WC, TiC, SiC

Nitrida

ZrN, Si3N4, BN

Borida

Fe2B, TiB2

Sialon (Si-Al-O-N)
Intan
Grafit

5.7

Pembuatan Karbida tersinter

Karbida tersinter untuk/sebagai alat pemotong dibuat kebanyakannya

daripada Karbida Tungsten yang terikat (perekat) dengan kobalt.

Karbida lain berasaskan/mengandungi:

Ti, Ta, Nb, Cr, V, Mo, Hf

Ni dan Mo digunakan sebagai agent cair dalam pensinteran fasa cair

Metod pembuatan WC*:

Serbuk W daripada amang

WC daripada pengkarbonan pada 1400oC-1500oC (menggunakan karbon

hitam) ATAU daripada pengalaoian mekanik antara serbuk W & C

Serbuk WC dan serbuk halus perekat (Co) dicampur dalam kilang bebola

Bahan pelincir (e.g. paraffin dalam karbon tetraklorida) (0.5%-2%)

ditambah sebelum pemadatan

Penyulingan tekanan rendah dilakukan, memberikan

pelincir
perekat
WC
Serbuk dibentuk kebentuk bijian supaya mudah diacu

Serbuk ditekan pada 50-150Mpa

(Tekanan isostatik digunakan juga untuk berikan ketumpatan seragam)

Kompak dibakar dalam atmosfera pelindung (Ar2N),

iaitu dipresinter pada 700-750oC

Kompak anum ini boleh dipotong /cetak ke bentuk yang dikehendaki

Pensinteran: 1350oC- 1655oC dalam H2

(*Boleh juga disinter secara lazim dan diikuti dengan proses tekanan isostatik panas)

5.8

Skema Am Pensinteran Seramik

Serbuk-serbuk awal dicampur

Bentuk dalam keadaan sejuk atau panas sebelum pensinteran. Tekanan

isostatik atau tekanan sepaksi (untuk pengeluaran banyak) boleh digunakan.
Tekanan serbuk yang mungkin mengandungi bahan perekat dan pelincir
atau tidak.

Penyemperitan panas atau sejuk dengan serbuk mengandungi bahan

pemplastik untuk hasilkan bahagian-bahagian bahan pra-bentuk yang
selanjar.

Pengacuan suntikan, terutamanya untuk bentuk kompleks (sukar).

Tuangan slip dalam medium berair.

Pemesinan pra-bentuk dalam keadaan anum diikuti dengan pensinteran.

Pensinteran.

Pengemasan

5.9

Oksida logam
'- SIALON
Si3N4

Masalah dalam pemprosesan

Seramik kaca

Bukan seramik lazim

Terhasil melalui nukleasi kaca ke pepejal berhablur

Hampir tiada liang (mikrostruktur)

Bahan mentah: oksida Si, Al, B, Na, Ca dan lain-lain

+ fluorida, klorida, sulfida dan lain-lain

Campuran bahan mentah dilebur dan gas-gas dikeluarkan.

Nukleasi aneka digunakan

Kadar pemanasan penting dalam proses nukleasi ini untuk dapatkan fasa dan
mikrostruktur yang dikehendaki.

Kaca dipanaskan ke suhu nukleasi berlaku; nukleasi dibiarkan berlaku pada

suhu tersebut untuk beberapa lama; kemudian suhu dinaikkan.

Masa disuhu tertinggi ini dikira untuk dapatkan mikrostruktur yang

dikehendaki.

Penyejukan dan pemanasan semula dikitar dalam jangkamasa beberapa jam

ke beberapa hari.

Kebanyakan seramik kaca: alumina silikat yang dinukleasikan dengan TiO2

atau ZrO2

Sifat unggul: kestabilan terma, tahan hentakan dan tahan kesan bahan kimia.