DR.

ATIKAH
JURUSAN KIMIA FMIPA-UB
2010

4/5/2010 KIMIA DASAR II-B_KOLOID 1

 ZAT, meskipun [M+][Anion-] > Ksp
tidak tampak mengendap
 Misal:
 As2O3 + H2S As2S3 (koloid kuning)
 Apabila dikenai cahaya menunjukkan
pembauran cahaya, yang disebut efek
Tyndall

4/5/2010 KIMIA DASAR II-B_KOLOID 2

Efek Tyndall

cahaya

4/5/2010 KIMIA DASAR II-B_KOLOID 3

Contoh zat koloid:
 Fe(OH)3
 Al(OH)3
 Cr(OH)3
 CuS
 MnS
 NiS
 AgCl
 H4SiO4
4/5/2010 KIMIA DASAR II-B_KOLOID 4
 Ukuran partikel = 0,2m – 5 m
(2.10-7 – 5.10-9 m)
 Dapat lolos pada kertas saring biasa
(mampu menahan ukuran partikel 
10-20m (1-2.10-5m)
 Koloid = sistem heterogen (sistem
dispersi) terdiri dari:
 Fasa dispersi
 Medium dispersi(air)

4/5/2010 KIMIA DASAR II-B_KOLOID 5

Ukuran Partikel Koloid:
 Karena ukuran partikel koloid sangat kecil ,
maka perbandingan permukaan partikel
koloid dengan volume sangat besar
 Partikel koloid dapat dipisahkan dari
partikel molekul dengan membran
koloidon (perkamen)
 Dikenal sebagai dialisis atau penyaring
ultra
 Koloid dapat menembus pori-pori kertas
saringbiasa ( 1m)

4/5/2010 KIMIA DASAR II-B_KOLOID 6

Pengaruh ukuran partikel terhadap
luas permukaan
Bentuk Panjang Banyak Luas Jml luas
rusuk partikel Permu- Permukaa
kaan (cm2) n (Cm )
2

Kubus 1 1 1 6x1

10-2 106 10-4 6.102

10-4 1012 10-8 6.104

Mendekati 10-6 1018 10-12 6.106

ukuran
koloid
4/5/2010 KIMIA DASAR II-B_KOLOID -16 7
10-8 10 24
10 6.108
Cara menyaring koloid
 Kertas saring dibasahi dengan
koloidon/gelatin
 Kemudian dikeraskan dengan
formaldehid (ukuran pori diperkecil)
 Partikel koloid ditahan

4/5/2010 KIMIA DASAR II-B_KOLOID 8

Sitem Koloid
 Medium dispers sol
 Misal:
 (air) akuasol
 (alkohol) alkosol

 Koloid (sol) + larutan elektrolit,

sebabkan koloid mengendap
 Koloid mengendap = flokulasi =
koagulasi
4/5/2010 KIMIA DASAR II-B_KOLOID 9
Contoh:
 As2S3 + Al2(SO4)3 koloid

Koagulasi/flokulasi
 Sol GEL
Peptisasi

4/5/2010 KIMIA DASAR II-B_KOLOID 10

Macal Koloid
Koloid ada 3 macam
 Liofil suka terhadap air hidrofil
 Liofob tidak suka terhadap air hidrofob

4/5/2010 KIMIA DASAR II-B_KOLOID 11

Sifat Sol Hidrofil
 Viskositas sol > viskositas medium
 Misal:
 sol asam silikat;SnO2
 Gelatin; kanji; protein
 Untuk menggumpalkan perlu
elektrolit cukup banyak
 Pada umumnya perubahan reversibel
 Air berpengaruh terhadap
penggumpalan
4/5/2010 KIMIA DASAR II-B_KOLOID 12
Sifat Sol Hidrofil
 Perubahan muatan partikel sangat
cepat
 Misal:
 Dalam suasana asam bermuatan (+)
 Dalam suasana basa bermuatan (-)
 Dalam medan listrik, dapat bergerak
kesegala arah/tidak bergerak sama
sekali

4/5/2010 KIMIA DASAR II-B_KOLOID 13

Sifat Sol Hidrofil
 Dalam mikroskop ultra hanya terlihat
sinar difusi
 Tegangan permukaan < tegangan
permukaan air

4/5/2010 KIMIA DASAR II-B_KOLOID 14

Sifat Sol Hidrofob
 Viskositas sol = medium
 Misal:
 Sol logam-logam; Ag halida
 Hidroksida logam-logam; BaSO4
 Untuk menggumpalka koloid perlu
elektrolit sedikit
 Pada umumnya perubahan irriversibel
 Penggumpalan tidak dipengaruhi oleh
air
4/5/2010 KIMIA DASAR II-B_KOLOID 15
Sifat Sol Hidrofob
 Hanya partikel bermuatan listrik
tertentu yang dapat berubah secara
khusus
 Dalam medan listrik partikel bergerak
dalam satu arah (elektroforesis)
 Dalam ultramikroskop menunjukkan
gerak Brown
 Tegangan permukaan = air

4/5/2010 KIMIA DASAR II-B_KOLOID 16

Muatan Partikel Koloid
 Dalam medan listrik, partikel koloid
dapat bergerak ke salah satu
elektroda
 Menunjukkan partikel koloid
bermuatan (+) atau (–)
 Contoh partikel koloid bermuatan (-):
 Sol logam-logam; sulfur; sulfida logam-
logam; asam silikat; Ag halida; kanji

4/5/2010 KIMIA DASAR II-B_KOLOID 17

Contoh partikel koloid bermuatan
(+):
 Sol logam hidroksida

4/5/2010 KIMIA DASAR II-B_KOLOID 18

Kestabilan larutan Koloid
 Disebabkan oleh adanya muatan
listrik partikel koloid
 Misal: HCl
 As3+ + H2S Sol As2S3

4/5/2010 KIMIA DASAR II-B_KOLOID 19

Kestabilan larutan Koloid
Lapisan II
H+
Lapisan I
H+
S 2-

LARUTAN
As2S3 H+
S2-
Ion kontra
H+
S 2-

H+
Lapis rangkap listrik

4/5/2010 KIMIA DASAR II-B_KOLOID 20

Kestabilan larutan Koloid
 Setiap endapan koloid memiliki lapis
rangkap listrik serap ionnya
sendiri,bermuatan (-) pada Lapisan I
 Untuk menetralkan muatan, maka
menyerap ion H+ (dalam jumlah
ekivalen), membentuk Lapisan II
 Adanyan muatan listrik, sebabkan
partikel koloid saling tolak menolak,
sehingga tidak mengendap

4/5/2010 KIMIA DASAR II-B_KOLOID 21

 Jika lapisan rangkap listrik terganggu,
 Sol tidak stabil
 Sebabkan sol menggumpal
(koagulasi)
 Pada saat ini [Kation][anion] > Ksp
 Koagulasi dapat dilakukan dengan
penambahan larutan elektrolit

4/5/2010 KIMIA DASAR II-B_KOLOID 22

Koagulasi Koloid
+ BaCl2
H
+

Lapisan I
Ba2+
H+
S 2-

LARUTAN
As2S3 H+
S2-
Cl-
H+
S 2-

H+ Ba2+
Lapis rangkap listrik
Efek salting out

4/5/2010 KIMIA DASAR II-B_KOLOID menggumpal 23

Koagulasi Koloid
 Jika partikel koloid As2S3ditambah
dengan larutan elektrolit BaCl2
 Akan terjadi penetralan muatan
negatif oleh kation Ba2+pada lapisan I
(efek salting out)
 Sebabkan partikel koloid
menggumpal, karena adanya
mediadispersi asam akibat adnya ion
H+ bebas

4/5/2010 KIMIA DASAR II-B_KOLOID 24

Penting:
 Ion-ion bermuatan berlawanan
dengan ion-on terserap pada lapisan I
koloid
 Sangat penting untuk koagulasi
koloid
 Jumlah minimum elektrolit yang
diperlukan untuk penggumpalan =
bilangan penggumpalan

4/5/2010 KIMIA DASAR II-B_KOLOID 25

bilangan penggumpalan tergantung
pada:
 Valensi ion bermuatan berlawanan
dengan ion yang diserap oleh koloid
 Valensi >>>, nilai koagulasi <<<<

4/5/2010 KIMIA DASAR II-B_KOLOID 26

Koloid Pelindung
 Jika 2 sol berlawanan dicampur, misal
Fe(OH)3 dan As2S3, menimbulkan muatan
netral pada sol hidrofob, sebabkan
koagulasi bersama
 Sol hidrofil sulit terkoagulasi dibandingkan
sol hidrofob
 Jika sol hidrofil (misal: gelatin) + sol
hidrofob (misal: emas), maka sol hidrofil
akan terserap oleh sol hidrofob, sifatnya =
hidrofob
4/5/2010 KIMIA DASAR II-B_KOLOID 27
Koloid Pelindung
 Hal ini sebabkan sol hidrofob tidak
terkoagulasi
 Sol hidrofil = koloid pelindung

4/5/2010 KIMIA DASAR II-B_KOLOID 28

 Flokulasi/Koagulasi Koloid

+ - Ion (-) diserap tampa

Koloid membedakan ion-ion
flokulasi +
-
+ Ion bervalensi >>> akan
- diserap lebih kuat
+

- Sebabkan endapan koloid

Bila endapan dicuci dengan
air terkontaminasi oleh adsorpsi
permukaan
Jadi koloid
Jumlahnya <<< bilangan lagi
Elektrolit lepas
penggumpalan (peptisasi)

4/5/2010 Dicegah
KIMIA DASARdengan
II-B_KOLOIDpencucian endapan 29

menggunakan elektrolit yang sesuai

Kontaminasi Endapan Koloid
1. Kopressipitasi
2. Post Presipitasi
a. Adsorpsi permukaan
b. Oklusi

4/5/2010 KIMIA DASAR II-B_KOLOID 30

Kopressipitasi
 Ikut mengendapnya kontaminan yang
dalam keadaan normal tidak ikut
mengendap

4/5/2010 KIMIA DASAR II-B_KOLOID 31

Post Presipitasi
 Terbentuknya endapan II pada
permukaan endapan I
 Ada 2 macam yakni:
a. Adsorpsi pada permukaan partikel
endapan dalam larutan
 Jumlah zat yang teradsorpsi
bertambah besar jika permukaan
bertambah besar

4/5/2010 KIMIA DASAR II-B_KOLOID 32

Adsorpsi pada permukaan
 Misal: endapan gelatin (amorf) akan
menyebabkan adsorpsi permukaan >
bentuk kristal

4/5/2010 KIMIA DASAR II-B_KOLOID 33

Oklusi
b. Adanya zat lain (zat asing) yang
masuk ke dalam kristal selama proses
pertumbuhan kristal (okulasi)
 Misal: Endapan Ca oksalat yang
mengandung Mg2+ dalam larutannya
 Jika dibiarkan maka akan terbentuk:
Mg oksalat
Ca oksalat

4/5/2010 KIMIA DASAR II-B_KOLOID 34

4/5/2010 KIMIA DASAR II-B_KOLOID 35