NIM: 06111381520043
PENDAHULUAN FISIKA ZAT PADAT
PENDIDIKAN FISIKA 2015 PALEMBANG
1. MIS (Metal Insulator Semiconductor)
MIS merupakan kapasitor yang terbentuk dari lapisan logam berbahan isolator
dan lapisan bahan semikonduktor. Ia mendapatkan namanya dari inisial struktur
semikonduktor-insulator logam. Seperti halnya struktur transistor medan-efek
MOS , karena alasan historis, lapisan ini juga sering disebut sebagai kapasitor
MOS, tetapi ini secara khusus mengacu pada bahan isolator oksida. Kapasitansi
maksimum, C MIS (maks) dihitung secara analog dengan kapasitor pelat: dimana:
Pada tahun 1959 MM (John) Atalla dan Dawon Kahng di Bell Labs mencapai
transistor efek medan-gerbang pertama yang berhasil (FET), yang telah lama
diantisipasi oleh Lilienfeld, Heil, Shockley dan lain-lain (1926 Milestone) dengan
mengatasi "permukaan menyatakan "bahwa medan listrik diblokir dari menembus
ke dalam bahan semikonduktor. Menginvestigasi lapisan silikon-dioksida yang
berkembang secara termal, mereka menemukan bahwa keadaan ini dapat sangat
berkurang pada antarmuka antara silikon dan oksida dalam sandwich yang terdiri
dari lapisan logam (M-gate), oksida (O-isolasi), dan silikon (S - semikonduktor) -
demikian nama MOSFET, yang dikenal sebagai MOS. Karena perangkat mereka
lambat dan tidak ditangani kebutuhan mendesak sistem telepon, itu tidak dikejar
lebih lanjut. Dalam memo 1961, bagaimanapun, Kahng menunjukkan potensi
"kemudahan fabrikasi dan kemungkinan aplikasi dalam sirkuit terpadu."
Namun para peneliti di Fairchild dan RCA memang mengakui kelebihan ini.
Pada tahun 1960 Karl Zaininger dan Charles Meuller mengarang transistor MOS
di RCA dan C.T. Sah of Fairchild membangun tetrode yang dikendalikan MOS.
Fred Heiman dan Steven Hofstein mengikuti pada tahun 1962 dengan perangkat
terintegrasi 16 transistor eksperimental di RCA. Transistor MOS yang melakukan
region adalah p-type (menjadikannya perangkat "p-channel") atau tipe n ("n-
channel" device) material. Yang terakhir lebih cepat dari p-channel tetapi lebih
sulit dibuat. Perangkat MOS menghantam pasar komersial pada tahun 1964.
General Microelectronics (GME 1004) dan Fairchild (FI 100) menawarkan
perangkat p-channel untuk aplikasi logika dan switching; RCA memperkenalkan
transistor n-channel (3N98) untuk memperkuat sinyal. Karena ukurannya yang
lebih kecil dan konsumsi daya yang lebih rendah daripada perangkat bipolar, lebih
dari 99 persen microchip yang diproduksi saat ini menggunakan transistor MOS.
Mencapai ubikuitas seperti itu membutuhkan waktu puluhan tahun usaha.
NAMA: LIA NOVITA SARI
NIM: 06111381520043
PENDAHULUAN FISIKA ZAT PADAT
PENDIDIKAN FISIKA 2015 PALEMBANG
3. MOSFET (Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor)
MOSFET (Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor) adalah
sebuah perangkat semionduktor yang secara luas di gunakan sebagai switch dan
sebagai penguat sinyal pada perangkat elektronik. MOSFET adalah inti dari
sebuah IC ( integrated Circuit ) yang di desain dan di fabrikasi dengan single chip
karena ukurannya yang sangat kecil. MOSFET memiliki empat gerbang terminal
antara lain adalah Source (S), Gate (G), Drain (D) dan Body(B). MOSFET
bekerja secara elektonik memvariasikan sepanjang jalur pembawa muatan (
electron atau hole ). Muatan listrik masuk melalui Saluran pada Source dan keluar
melalui Drain. Lebar Saluran di kendalikan oleh tegangan pada electrode yang di
sebut dengan Gate atau gerbang yang terletak antara Source dan Drain. ini
terisolasi dari saluran di dekat lapisan oksida logam yang sangat tipis. Kapasitas
MOS pada komponen ini adalah bagian Utama nya.
Mosfet memiliki dua mode, mode pertama adalah depletion mode dan
Enhancement Mode.
1. Depletion Mode:
Ketika tidak ada tegangan pada Gate maka kondusi channel berada pada
kondisi maksimum. Karena tegangan pada gerbang positif atau negative konduksi
pada channel menurun.
2. Enhancement Mode
NAMA: LIA NOVITA SARI
NIM: 06111381520043
PENDAHULUAN FISIKA ZAT PADAT
PENDIDIKAN FISIKA 2015 PALEMBANG
Ketika tidak ada tegangan pada Gate, MOSFET tidak akan bersifat konduksi.
Tegangan yang meningkat pada Gate, maka sifat konduksi pada Channel semakin
lebih baik.
N-Channel MOSFET
Struktur N-Channel Mosfet atau disebut dengan NMOS terdiri dari subtract tipe P
dengan daerah Source dan Drain deberi Difusi N+. Diantara daerah Source dan
Drain terdapat sebuah celah sempit dari subtract P yang di sebut dengan channel
yang di tutupi oleh isolator yang terbuat dari Si02
P-Channel MOSFET
P-Channel MOSFET memiliki wilayah P-Channel diantara Source dan Drain. Dia
memiliki empat terminal seperti Gate, Drain, Source dan Body. Struktur
Transistor PMOS terdiri atas tipe-n dengan daerah Source dan Drain diberi difusi
P+.
NAMA: LIA NOVITA SARI
NIM: 06111381520043
PENDAHULUAN FISIKA ZAT PADAT
PENDIDIKAN FISIKA 2015 PALEMBANG
FUNGSI CMOS
KARAKTERISTIK CMOS