KHOFIFAH
03041181722005
Puji syukur alhamdulillah penulis panjatkan kehadirat Allah SWT yang telah
melimpahkan rahmat-Nya serta hidayah-Nya sehingga penulis bisa menyelesaikan
tugas makalah dengan judul “UJI SIFAT LISTRIK BAHAN LAPISAN TIPIS
HASIL PREPARASI DENGAN TEKNIK VAKUM EVAPORASI”.
Shalawat serta salam marik kita haturkan kepada junjungan kita Nabi
Muhammad SAW, yang membawa dunia menjadi dunia penuh ilmu pengetahuan dari
zaman kebodohan. Tugas ini dibuat dalam rangka memenuhi tugas yang diberikan
oleh dosen pengampuh, penulis mendapatkan banyak sekali bantuan, bimbingan serta
dukungan dari berbagai pihak, sehingga dalam kesempatan ini penulis juga
bermaksud menyampaikan rasa terima kasih kepada:
1. Ibu Hj. Rahmawati, selaku sebagai dosen pengampuh yang memberikan tugas.
2. Serta pihak-pihak lain yang tidak mungkin penulis sebutkan satu-persatu.
Penulis berharap tugas yang telah disusun ini bisa memberikan manfaat bagi
para pembaca untuk menambah pengetahuan para pembaca. Penulis akan
mengucapkan banyak terima kasih bagi para pembaca yang memberikan pendapt,
saran, kritik yang membangun. Penulis mengharapkan adanya saran oleh pembaca
karena mengingat banyaknya kekurangan/kesalaham yang mungkin ada dalam proses
pembuatan tugas ini.
Kelompok 1 (Satu)
2
DAFTAR ISI
KATA PENGANTAR...................................................................................................2
DAFTAR ISI.................................................................................................................3
PENDAHULUAN.........................................................................................................4
1.1 Latar Belakang.....................................................................................................4
1.2 Batasan Masalah...................................................................................................5
1.4 Rumusan Masalah................................................................................................6
1.5 Tujuan Penelitian.................................................................................................6
BAB II...........................................................................................................................7
TINJAUAN PUSTAKA................................................................................................7
2.1 SIFAT LISTRIK..................................................................................................7
2.1.1 Penentuan Nilai Tipe Konduksi....................................................................7
2.2.2 Resistivitas dan Konduktivitas Bahan...........................................................7
2.2 LAPISAN TIPIS..................................................................................................9
2.3 VAKUM EVAPORASI.....................................................................................10
2.4 FOUR POINT PROBE (FPP)............................................................................11
BAB III........................................................................................................................13
METODELOGI PENELITIAN...................................................................................13
3.1 Waktu dan Tempat penelitian............................................................................13
3.2 Variabel Penelitian.............................................................................................13
3.2.1 Variabel Bebas.......................................................................................13
3.2.2 Variabel Terikat.....................................................................................13
3.3 Bahan dan Peralatan Penelitian..........................................................................13
3.3.1 Bahan-bahan yang digunakan dalam penelitian ini adalah...................13
3.3.2 Peralatan Penelitian...............................................................................13
3.4 Diagram Alur Penelitian....................................................................................15
3
BAB I
PENDAHULUAN
4
dhambat untuk memperoleh efek tertentu pada sirkuit. Dalam suatu hambatan atom-
atomnya akan berumbukan dengan elektron-elektron sehingga laju dan kecepatan
elektron menjadi berkurang.
Berdasarkan jurna-jurnal dan skripsi yang telah dibaca, bahwa metode four
point probe yang digunakan hanya untuk menguji bahan lapisan tipis yang tersedia
dari semikonduktor. Kali ini, penulis ingin mencoba bahan konduktor, semi
konduktor, dan isolator untuk mengetahui lebih dalam perbedaan dari ketiganya.
Pada kesempatan ini juga, penulis ingin menggunakan bahan lapisan tipis
hasil preparasi dengan teknik vakum evaporasi.Teknik vakum evaporasi adalah salah
satu teknik yang digunakan untuk memperoleh lapisan tipis dengan penguapan bahan
pada ruang vakum. Keunggulan dari teknik vakum evaporasi adalah proses
pendeposisian tanpa dibantu oleh ionisasi. Hasil preparasi lapisan tipis dengan teknik
vakum evaporasi dapat dipengaruhi oleh beberapa parameter deposisi, diantaranya
sebagai berikut tekanan gas, laju deposisi, temperatur substrat, jarak antara substrat
dan temperatur sumber.
5
1.4 Rumusan Masalah
Rumusan masalah pada penelian kali ini adalah “Bagaimana hasil variasi sifat listrik
bahan lapisan tipis dari CaCo3 (Kapur tulis), timah dan arang?”
6
BAB II
TINJAUAN PUSTAKA
2.1 SIFAT LISTRIK
2.1.1 Penentuan Nilai Tipe Konduksi
Tipe konduksi suatu lapisan tipis merupakan salah satu sifat terpenting yang harus
diketahui. Prinsip kerja dalam penentuan tipe konduksi disajikan pada Gambar 4.
Pada jarum A dililitkan kawat wolfram untuk pemanasan sehingga disebut probe
panas. Sedangkan jarum B dibiarkan pada suhu kamar dan kedua jarum dihubungkan
dengan amperemeter. Bila bahan bersifat semikonduktor tipe-p maka jarum B
menunjukkan tegangan negatif dan arus mengalir dari jarum B ke jarum A. Arah arus
akan berlawanan kalau yang diukur adalah semikonduktor tipe-n. Maka tipe konduksi
dapat ditentukan dengan mengetahui arah arus.
Prinsip kerja dalam penentuan tipe konduksi dapat disajikan pada Gambar 1.
7
Ketidakteraturan ditimbulkan oleh beberapa sumber penyebab yaitu suhu,
deformasi, dan irradiasi nuklir. Bila pada ujung-ujung semikonduktor dihubungkan
dengan beda potensial maka akan timbul medan listrik pada setiap titik di dalam
semikonduktor tersebut yang menghasilkan arus listrik I. Secara matematis arus yang
mengalir pada semikonduktor adalah
V
I= (1)
R
Dimana I merupakan arus listrik yang mengalir dalam ampere. V merupakan
beda potensial ujung semikonduktor dalam volt, R merupakan resistansi yang
menyatakan karakteristik semikonduktor dalam ohm. Menurut hukum Ohm, rapat
arus J sebanding dengan kuat medan listrik E. Secara matematis dapat ditulis:
J=σE (2)
Dimana J merupakan rapat arus (A/m2), adalah konduktivitas listrik semikonduktor
(Ω-1 m-1) dan E merupakan kuat medan listrik (V/m). Rapat arus yang mengalir pada
semikonduktor adalah:
I
J= (3)
A
Dimana A adalah luas penampang semikonduktor (m2). Bila kuat medan listrik
dalam suatu semikonduktor dianggap serba sama (homogen) maka kuat medan listrik
adalah :
V
E= (4)
l
Dengan l merupakan panjang semikonduktor (m) . Dari persamaan (2)
bila disubstitusikan ke dalam persamaan (3) maka diperoleh :
I =σEA (5)
Berdasarkan persamaan (4) dan persamaan (5) diperoleh besar arus
listrik yang mengalir pada semikonduktor.
σA
I= V (6)
d
Persamaan (3) analog dengan persamaan (1) dengan R = l/σA, karena ρ
8
= 1/σ maka diperoleh :
A
ρ= R (7)
l
9
3. Kondensasi pada permukaan substrat secara langsung atau melalui reaksi kimia
untuk membentuk suatu deposisi padatan.
Suhu substrat sangat berpengaruh pada proses penumbuhan lapisan tipis
dikarenakan atom tidak dapat bergerak pada suhu 0 K atau suhu kamar. Bila suhu
dinaikkan maka energinya akan meningkat sehingga akan menyebabkan atom-atom
bergetar dan menimbulkan jarak antar atom akan melebar. Jarak atom yang melebar
ini akan memungkinkan atom-atom bahan memiliki energi atau berada di atas energi
ikatnya akan bergerak mendorong ikatannya dan melompat ke posisi yang baru dan
akan mengakibatkan jumlah kekosongan meningkat dengan cepat secara
eksponensial. Substrat bersuhu yang sesuai akan memungkinkan atom-atom lain akan
menyusup lebih dalam diantara celah-celah atom (Van Vlack, 2004). Hal ini akan
menyebabkan atom-atom lain tersebut terikat dan semakin kuat menempel pada
substrat, sehingga lapisan yang terbentuk akan memiliki kualitas dan karakteristik
sesuai yang diharapkan.
10
bentuk gas. Setelah itu terjadi proses pelapisan dengan proses kondensasi pada setiap
permukaan substrat yang ditimpa atom-atom.
Untuk mengosongkan suatu ruangan mulai dari tekanan atmosfer misalnya sampai
5×10-5 torr dibutuhkan dua atau tiga kali pompa secara bertahap untuk mendapatkan
vakum tinggi. Karena pompa mempunyai daerah kerja tertentu maka dibutuhkan
pengetahuan tentang suatu daerah kerja suatu pompa. Seperti yang disajikan pada
Gambar 2.
Suatu pompa akan bekerja dan berfungsi dengan baik apabila dipakai sesuai
dengan daerah kerjanya. Ada beberapa pompa yang dapat menghasilkan kontaminasi
kalau dipakai diatas daerah kerja mereka. Bila vakum yang dikehendaki berada pada
daerah kerja roughing pumps (vakum rendah) maka hanya dibutuhkan satu pompa
saja. Namun biasanya orang membutuhkan vakum yang lebih tinggi misalnya untuk
menghasilkan lapisan tipis dalam industri kacamata atau dalam pembuatan cermin
reflektor lampu mobil.
11
tipis. Gambar 3 merupakan rangkaian metode four point probe. Keempat probe
tersebut dari kawat tungsen yang ujungnya sangat runcing. Suatu jajaran probe empat
titik diletakkan pada lapisan tipis yang akan diukur resistivitasnya dengan jarak antar
titik a. Jika sumber tegangan dipasang pada dua buah probe yang diluar maka akan
menghasilkan arus I pada dua probe terluar.
Sebuah voltmeter dihubungkan pada kedua ujung titik yang berbeda di dalam
yang masing-masing berjarak a untuk mengukur tegangan V. Untuk semikonduktor
lapisan tipis dengan ketebalan d, resistivitas (ρ) lapisan tipis dapat dihitung dengan
persamaan berikut
V
ρ= CFd ` (11)
I
Dengan CF adalah faktor koreksi. Apabila d << a maka faktor koreksibernilai
𝜋 / ln 2 sehingga diperoleh persamaan resistivitas lapisan tipis (Sze, 1981 : 32).
π
ρ= Rd (12)
¿2
π V
ρ= d (13)
¿2 I
Berdasarkan persamaan (13) maka yang digunakan dalam pengukuran adalah
resistansi sheet dengan persamaan (14):
π V
R= (14)
¿2 I
12
(Ellingson, R : 2011)
BAB III
METODELOGI PENELITIAN
Peralatan yang digunakan dalam penelitian ini terdiri dari perangkat preparasi
dan perangkat karakterisasi kristal bahan semikonduktor lapisan tipis CaCo3, Timah,
dan arang dengan menggunakan teknik vakum evaporasi yang meliputi:
13
1. Perangkat preparasi bahan semikonduktor Sn(S0,5Te0,5), Sn(S0,4Te0,6),
dan Sn(S0,2Te0,8) dengan metode vakum evaporasi.
a. Pompa Rotari Sekat,
b. Pompa difusi,
c. Sistem evaporator, sebagai alat utama yang digunakan dalam preparasi
lapisan tipis CaCo3, Timah, dan arang.
d. Pemanas, di dalam sistem evaporasi terdapat slide regulator untuk
mengatur tegangan sebagai pemanas.
e. Termokopel, digunakan sebagai pengontrol suhu substrat saat evaporasi
yang dipasangkan pada pemanas tersebut.
f. Timbangan digital, untuk mengukur massa bahan yang akan dipreparasi.
Timbangan ini mempuyai ketelitian hingga 1×10-2 gram.
g. Penggerus, digunakan untuk melembutkan bahan yang masih berbentuk
masif (padat).
h. Mannometer Penning, berfungsi untuk mengetahui dan mengontrol
tekanan pada ruang vakum saat proses vakum baik dengan
menggunakan pompa rotari atau pun pompa difusi.
i. Multimeter, digunakan untuk mengontrol alat evaporasi apabila terjadi
hubungan pendek.
j. Furnace (oven), digunakan untuk memanaskan kaca substrat dan spacer
pada tahap persiapan.
14
3.4 Diagram Alur Penelitian
proses evaporasi
karakteristik sifat
listrik
15
16