BAB I

PENDAHULUAN
I.1 TOPIK
Pelipisan Logam dengan pelapis Tembaga (Cu), Nikel (Ni), Krom (Cr).
I.2 TUJUAN
Tujuan dari proses pelapisan ini antara lain adalah:
a. Mahasiswa mampu melakukan proses pelapisan tembaga (Cr), Nikel (Ni), Krom
(Cr).
b. Mahasiswa dapat merangkai rangakaian listrik yang digunakan pada proses
pelapisan
c. Mahasiswa dapat menghitung prosentase kesalahan pada proses pelapisan
d. Mahasiswa dapat menghitung besarnya arus yang harus digunakan pada masing
masing proses pelapisan.
e. Mahasiswa dapat mengetahui pertambahan berat pada benda kerja setelah proses
melalui pelapisan.
I.3 DASAR TEORI
Pelapisan logam (elektroplating) adalah proses elektrolisa yaitu melapisi suatu
logam dengan logam lain. Elektrolisa sendiri ialah peristiwa penguraian suatu
elektrolit oleh arus listrik. Dengan mengalirkan arus listrik ke dalam larutan atau
elektrolit, kita akan memperoleh reaksi redoks dalam sel elektrolisa. Logam yang akan
dilapisi harus mempunyai keaktifan lebih tinggi daripada logam yang digunakan untuk
melapisi.
Michael Faraday (1791-1867) dari Inggris adalah orang pertama yang
menerangkan hubungan kuantitatif antara banyaknya arus listrik yang digunakan pada
elektrolisa dan banyaknya hasil elektrolisa yang terbentuk pada katoda dan anoda.
Jumlah arus listrik yang dialirkan kedalam zat elektrolisa untuk mendapatkan 1
mol elektrolit yang terlibat dalam reaksi redoks, dikenal sebagai 1 Faraday yang setara
dengan 96487 Coulumb, dan sering dibulatkan menjadi 96500 Coulumb. Berat zat
hasil elektrolisa, baik yang terbentuk di katoda maupun anoda, dapat dirumuskan
dengan hukum Faraday :

G=exF

G = Berat zat elektrolisa (gram)

e = Berat ekuivalen zat hasil elektrolisa
F = Jumlah arus listrik (Faraday)

Dengan mengingat bahwa 1 Coulumb = 1 ampere.detik, maka hukum Faraday dapat

dijabarkan menjadi :
G=

e.i.t
96500

i = kuat arus (ampere)

t = waktu / lama elektrolisa (detik)

Lapis listrik adalah suatu proses pelapisan logam (pada umumnya) diatas logam
besar. Tujuan dari pelapisan ini adalah untuk membuat benda lebih menarik
(dekoratif), melindungi logam yang dilapisi dari bahaya korosi, memperkeras
komponen komponen yang aus. Lapis listrik termasuk dalam proses yang secara
umum disebut proses elektrolisa. Biasanya elektrolisa dilakukan dalam suatu bejana
yang disebut sel elektrolisa yang berisi cairan elektrolit. Pada cairan ini tercelup paling
tidak 2 elektroda. Masing masing elektroda dihubungkan arus listrik yang terbagi
menjadi kutub positif dan negatif, disebut anoda (+) dan katoda (-). Ciri ciri
elektroda ini adalah :
Anoda :

Bentuk positif

Terjadi reaksi pelepasan elektron

Katoda :

Bentuk negatif

Terjadi penangkapan elektron

Setelah proses pelapisan, kadang memerlukan proses pemolesan sebelum proses

tersebut, beberapa diantaranya asam, proses pembilasan dan pemolesan.
Pengaruh pH larutan pd galvano teknik. Elektrolit jika dilarutkan dalam air akan
terurai menjadi ion. Pada elektrolit kuat dissosiasi berjalan sempurna, tetapi pada
elektrolit yang lemah hanya terlaksana untuk sebagian kecil.

Yang termasuk elektrolit kuat:

1.

Asam kuat/basa kuat

2.

Garam

Untuk asam (H+) = (asam) karena asam itu terurai menjadi ion.
Karena asam dan basa ini elektrolit kuat, maka pH dapat langsung dihitung
dengan konsentrasinya. Dengan pertimbangan tertentu, pH larutan sulit ditetapkan
sebagaimana mestinya, maka kation dan anion diikat dengan senyawa komplek.
Rapat arus dan kekuatan arus
Arus total yang melalui sel atau sistem menghasilkan perhitungan besar logam
yang diendapkan. Dalam proses lapis listrik yang lebih penting bukan berat total dari
logam yanga diendapkan namun ketebalan rata-rata dan destilasi endapan pada
permukaan katoda. Ketebalan rata-rata akan tergantung berat total yang diendapkan
dan luas permukaan.
Banyaknya arus listrik yang menuju luas permukaan dari elektroda disebut rapat
arus sedangkan banyaknya arus disebut dengan kuat arus. Yang terbaca dalam
amperemeter adalah kuat arus sedangkan rapat arus tidak dapat dilihat hanya dari
amperemeter namun harus diperhitungkan luas permukaan elektrodanya. Dalam teori
proses kelistrikan, distribusi arus ikut menentukan baik buruknya sel pelapisan namun
dalam kenyataannya distribusi arus cenderung terkonsetrasi pada ujung/tepi benda
kerja (anoda). Distribusi arus dapat diusahakan mendekati rata antara lain dengan
mengatur jarak/letak katoda dan anoda.
Berikut ini adalah rumus yang digunakan untuk menghitung rapat arus :
i

I
A

dimana :

= rapat arus (amp/dm2)

= kuat arus (amp)

A = luas permukaan
Pelapisan Tembaga (Cu)
Tujuan dari p[roses pelapisan tembaga adalah untuk memperoleh lapisan pelindung
pada pemukaan logam yang tahan terhadap lingkungan. Juga meningkatkan tampak
rupa, menambah kekerasan dan sebagainya.

Komposisi larutan elektrolis untuk pelapisan tembaga

CuCN / Cupper Cyanid

53 gr/lt

Natrium Cyanid / NaCN

103 gr/lt

Cooperit

2 cc/lt

Temperatur

Suhu kamar

Arus

1,5 2 A/dm2

Pelapisan Nikel ( Ni )
Nikel adalah logam yang berharga dalm bidang teknik. Logam ini dipakai untuk
pelapisan logam dan berwarna putih keperakan. Nikel juga salah satu dari elemen
dalam pembuatan baja yang ditambahkan untuk meningkatkan kekerasan, kekuatan
dan keliatan. Baja dengan kekuatan tinggi mengandung Nikel 0,5 5 % dan biasa
dipakai untuk Auto mobil, pesawat terbang traktor dan peralatan kimia.
Oleh karena itu, untuk melapisi logam dengan nikel perlu diperhatikan beberapa teori
dasar sebagai berikut:
1.

Logam besi memiliki tingkat keaktifan yang

lebih tinggi dibandingkan dengan nikel.

2.

Nikel salah satu elemen dalam pembuatan baja

yang diambahkan untuk meningkatkan kekerasan, kekuatan dan keliatan.

3.

Kebanyakan

dari

baja

kekuatan

tinggi

dengan

rumus

mengandung nikel 0,5 % - 5 %.

4.

Berat

pelapisan

dihitung

berdasarkan hukum faraday yang telah diuraikan diatas, yaitu :

G

e.i.t
96500

Keterangan :

MA : Massa Atom
Val

: Valensi

Komposisi larutan elektrolit untuk pelapisan nikel :

Nikel Sulfat (NiSO4)

250

gr/lt

Nikel Chlorida (NiCl2)

90

gr/lt

Asam Borit (H3 BO3)

45

gr/lt

MA
Val

 Brihgtener

- NLC

30

cc/lt

- ZD230

cc/lt

Temperatur

Arus 8 A/dm2

60-70 C

Pelapisan khrom
Khromium tidak dapat diendapkan langsung dari larutan yang hanya
mengandung CrO3 dan air saja. Dalam larutan itu harus ada sekurang kurangnya satu
atau lebih atom sebagai katalis untuk membuat lapisan khromium pada katoda.
Asam untuk lapisan ini adalah asam sulfat dan asam fliroida. Asam fluorida
biasanya berbentuk kompleks dengan silikat. Jika menggunakan asam fluorida kontrol
yang dilakukan sangat sukar, karena sangat efektif dalam jumlah sedikit. Sebab yang
paling penting pada operasi atau pelapisan khrom adalah pengendalian pebandingan
berat (ratio) asam khromat dan asam yang digunakan sebagai katalis harus berada pada
batas tertentu.
efisiensi arus dalam proses pelapisan khrom biasanya cukup rendah, sekitar 10
25 %, namun demikian, kecepatan antara lain oksida seng, grapit, molibeden sulfida
adalah bahan untuk menambah sifat lekat minyak pada permukaaan logam yang
diperlukan, antara lain pada proses drawing.
Komposisi larutan elektrolit untuk pelapisan khrom

CrO3

160 gr/lt

H2SO4

0,375 cc/lt

Katalis

1 3 g/lt

Temperatur

400 C

Arus

16 30 A/dm2

BAB II
PERCOBAAN DAN LANGKAH KERJA
II.1 Daftar Alat Yang Digunakan Untuk Praktek
II.1.1 Daftar Peralatan Untuk Analisa Larutan
1. Pipet 5 mm

5.

Botol 300 ml

2. Pipet 5 ml

6.

Gelas kimia 250 ml

3. Botol tuang elemenyer 100 ml 7.

Botol tuang 100 ml

4. Botol tuang elemenyer 300 ml 8.

Buret 25 ml

5. Botol 100 ml

Batang pengaduk kaca

9.

II.1.2 Daftar Peralatan Untuk Proses Pelapisan

1. Power Supply DC

5. Gelas bak tempat larutan

2. Ampere meter

6. Kawat penggantung

3. Volt meter

7. Thermometer

4. Stop watch
II.1.3 Komponen Komponen Percobaan
1.

Untuk pengukuran pH larutan

menggunakan pH meter

2.

Untuk pengukuran arus

Power supply DC

Ampere meter

Volt meter

Penggaris

3. Untuk proses pelapisan

Gelas, bak untuk tempat larutan elektrolit pelapisan

Gelas, bak untuk tempat larutan dan pembilas

Tembaga (Cu)

Ni (nikel)

Khrom (Cr)

Katoda plat baja

Kawat penggantung

Stop watch

Pengaduk

Heater / pemanas

4. Untuk pengukuran berat pelapisan nikel

Timbangan digital

II.2 Bahan Yang Digunakan Untuk Praktek pelapisan

1.

Larutan Amoniak 6 M 500 ml

6. Larutan Asam sulfat

2.

Larutan NaOH

7. CCl4

3.

Larutan HCl

8. Larutan Na2 CO3 10 H2O

4.

Larutan Detergent

9. Larutan Cupri sulfat

5.

Plat besi

II.3 Gambar Rangkaian Alat

Proses
Power Suply

+
-

Voltmeter

Amperemete
r

A
+++

Plat besi
-

Pb

+
Elektrolit

II.4 Langkah kerja

Sebelum benda yang akan dilapisi dicelupkan kedalam cairan pelapis, benda
kerja harus terlebih dahulu dibersihkan dari kotoran dan lemak yang menempel pada
permukaan benda kerja tersebut. urutan langkahnya adalah sebagai berikut :
1.

Amplas benda kerja hingga bersih dan halus

2.

Cuci dengan air dingin (bilas dengan air aquades)

3.

Celupkan kedalam cairan alkohol

4.

Celupkan kedalam air dingin

5.

Celupkan kedalam air panas + Na2CO3

6.

Celupkan kedalam air dingin

7.

Celupkan kedalam detergen cair

8.

Bilas dengan air

9.

Celupkan kedalam HCL

10.

Bilas dengan air

11.

Ditimbang (Data untuk G1)

12.

Lapisi dengan Cu

13.

Cuci dengan air

14.

Keringkan

15.

Ditimbang (Data untuk G2)

16.

Lapisi dengan Ni

17.

cuci dengan air

18.

Keringkan

19.

Ditimbang (Data untuk G3)

20.

Lapisi dengan Cr

21.

Cuci dengan Air

22.

keringkan

23.

Ditimbang (Data untuk G4)

II.5 Data Hasil Percobaan

Luas permukaan yang dilapisi

Tembaga

Nikel

Khrom

L = 3 cm ; P = 6 cm

L = 3 cm ; P = 5 cm

L = 3 cm ; P = 4 cm

Luas = P x L x 2

Luas = P x L x 2

Luas

= 6x3x2

= 5x3x2

= 4x3x2

= 36 cm2

= 30 cm2

= 24 cm2

= 0,36 dm2

= 0,3 dm2

= 0,24 dm2

= PxLx2

Arus yang digunakan

Tembaga (Cu)

Nikel (Ni)
8

Khrom (Cr)

= 1,5 x 0,36
= 0,54 A

= 8 x 0,3

= 2,4 A

= 30 x 0,24
= 7,2 A

Tabel data sebelum dan sesudah pelapisan

No
1
2
3

Benda Kerja
I
II
III

Berat benda kerjasebelum pelapisan (G1)

23,29 gram
23,48 gram
23,50 gram
Hasil pelapisan tembaga

No
1
2
3

Benda Kerja
I
II
III

Waktu
20 Detik
40 Detik
60 Detik

Hasil pelapisa nikel

No
1
2
3

Benda Kerja
I
II
III

Waktu
3 Menit
4 Menit
5 Menit

Berat benda kerja(G2)

23,41 gram
23,64 gram
23,70 gram
Hasil pelipisan khrom

No
1
2
3

Berat benda kerja(G2)

23,30 gram
23,50 gram
23,53 gram

Benda Kerja
I
II
III

Waktu
60 Detik
120 Detik
180 Detik

Berat benda kerja(G2)

23,42 gram
23,65 gram
23,72 gram

II.6. Analisis Data

Pelapisan Tembaga (Cu)

a)

Benda Kerja 1
G teori

e.i.t
96500

31,75 x 0,72 x 20
96500

Dimana

e =

Ar
Elektronva lensi

e =

= 0,00473 gram

63,5
2

e = 31,75 A
i = 2 A/dm2 x 0,36 dm2 = 0,72 A

G praktek

= G2 G1 = 23,30 23,29 = 0,01 gram

% Kesalahan =

GTeori GPr aktek

x 100 %
GTeori
0,00473 0,01
0,00473

x 100 % = 111,4 %

b)

Benda Kerja 2
G teori

e.i.t
=
96500

31,75 x 0,72 x 40
96500

G praktek

G2 G1 =

23,50 23,48

% Kesalahan =

= 0,00947 gram

= 0,02 gram

GTeori GPr aktek

x 100 %
GTeori
0,00947 0,02
0,00947

c)

x 100 % = 111,13 %

Benda Kerja 3
G teori

e.i.t
=
96500

31,75 x 0,72 x 60
96500

G praktek

G2 G1 =

23,53 23,50

10

= 0,00142 gram

= 0,03 gram

% Kesalahan =

GTeori GPr aktek

x 100 %
GTeori
0,00142 0,03
0,00142

x 100 % = 111,26 %

Pelapisan Nikel (Ni)

a)

Benda Kerja 1
G teori

e.i.t
96500

29,35 x 2,4 x180

96500

Dimana

e =

Ar
Elektronva lensi

e =

= 0,13 gram

58,7
2

e = 29,35 A
i = 8 A/dm2 x 0,3 dm2 = 2,4 A

G praktek

= G3 G2 = 23,41 23,30 = 0,11 gram

% Kesalahan =

GTeori GPr aktek

x 100 %
GTeori
0,13 0,11
x 100 % = 15,38 %
0,13

b)

Benda Kerja 2
G teori

e.i.t
=
96500

29,35 x 2,4 x 240

96500

G praktek

G3 G2 =

23,64 23,50

% Kesalahan =

= 0,175 gram

= 0,14 gram

GTeori GPr aktek

x 100 %
GTeori
0,175 0,14
x 100 % = 20 %
0,175

c)

Benda Kerja 3
11

G teori

e.i.t
=
96500

29,35 x 2,4 x300

96500

G praktek

G3 G2 =

23,70 23,53

% Kesalahan =

= 0,218 gram
= 0,17 gram

GTeori GPr aktek

x 100 %
GTeori
0,218 0,17
x 100 % = 22 %
0,218

Pelapisan Khrom (Cr)

a)

Benda Kerja 1
G teori

e.i.t
96500

8,67 x 6 x60
96500

Dimana

= 0,032 gram

e =

Ar
Elektronva lensi

e =

52
6

e = 8,67 A
i = 25 A/dm2 x 0,24 dm2 = 6 A

G praktek

= G4 G3 = 23,42 23,41 = 0,01 gram

% Kesalahan =

GTeori GPr aktek

x 100 %
GTeori
0,032 0,01
x 100 % = 68,75 %
0,032

b)

Benda Kerja 2
G teori

e.i.t
=
96500

8,67 x 6 x120
= 0,064 gram
96500

G praktek

G4 G3 =

23,65 23,64

% Kesalahan =

GTeori GPr aktek

x 100 %
GTeori

12

= 0,01 gram

0,064 0,01
x 100 % = 84,37 %
0,064

c)

Benda Kerja 3
G teori

e.i.t
=
96500

8,67 x6 x180
= 0,097 gram
96500

G praktek

G4 G3 =

23,72 23,70

% Kesalahan =

= 0,02 gram

GTeori GPr aktek

x 100 %
GTeori
0,097 0,02
x 100 % = 79,38 %
0,097

Grafik hasil pelapisan Tembaga (Cu)

G Praktek

G Teori

Grafik hasil pelapisan Nikel (Ni)

13

G Teori
G Praktek

Grafik hasil pelapisan khrom (Cr)

G Teori

G Praktek

BAB III
PENUTUP

14

III.1 Kesimpulan
Berdasrkan hasil praktikum yang telah dilakukan, penarikan kesimpulan dari
hasil praktikum pelapisan adalah sebagai berikut :
1. Mahasiswa telah melakukan percobaan pelapisan Tembaga (cu), Nikel (Ni), dan
Khrom (Cr)
2. Mahasiswa dapat merangkai rangkain listrik yang digunakan pada masing
masing prose pelapisan dengan benar.
Gambar rangkaian
Proses
Power Suply

Voltmeter

Amperemete
r

+
-

++

Plat besi
-

Pb

Elektrolit

3. Hasil yang diperoleh dari pelapisan Ni dipengaruhi oleh beberapa faktor,

diantaranya:
a. Perlakuan awal

b. Konsentrasi larutan

c. Suhu larutan

d. Arus yang digunakan

e. Waktu/ lama pelapisan

f. Pengadukan

4. Prosentase kesalahan pada proses pelapisan adalah sebagai berikut :

Benda kerja
I
II
III
5.

Pelapisan Tembaga (Cu)

111,4 %
111,13 %
111,26 %

Pelapisan Nikel (Ni)

15,38 %
20 %
22 %

Pelapisan (Cr)
68,75 %
84,37 %
79,38 %

Besarnya arus yang digunakan pada masing masing proses pelapisan

adalah sebagai berikut :
Pelapisan

Arus yang digunakan

Tembaga (Cu)

0,54 A

15

Nikel (Ni)

2,4 A

Khrom (Cr)

7,2 A

III.2 Saran
1.

Pastikan arus yang digunakan untuk proses pelapisan tepat.

2.

Panasi kembali larutan sebelum digunakan untuk pelapisan agar suhu sesuai
dengan ketentuan.

3.

Pengamplasan harus sampai benar-benar halus dan bersih agar pelapisan

hasilnya bagus.

4.

Suhu larutan jangan terlalu tinggi melebihi ketentuan.

5.

Setelah benda diamplas, jagalah agar pada bagian yang telah diamplas tersebut
tetap bersih dan jangan dipegang. Karena apabila benda tersebut tidak bersih
maka setelah dilakukan proses pelapisan akan terdapat bercak bercak pada
bagian yang dilapisi tersebut.

6.

Lakukanlah proses pelapisn secara urut.

16