Makala H
Makala H
Elektron Beam
KELOMPOK
JURUSAN FISIKA
2018
KATA PENGANTAR
Puji syukur penulis panjatkan kepada Allah Yang Maha Esa yang
telah memberikan rahmat serta karunianya sehingga penulis dapat
menyelesaikan makalah ELEKTRON BEAM Sebagai tugas mata kuliah
Semikonduktor. Terimakasih penulis ucapkan kepada Ibuk/bapak Dosen
pengampu mata Semikonduktor. Atas bimbingan dan kesempatan yang telah
diberikan beliau, maka penulis dapat menyelesaikan tugas makalah ini dengan
baik. Semoga makalah ini dapat memberikan manfaat bagi pembaca pada
umumnya, dan bagi penulis sendiri. Penulis menyadari bahwa dalam menyusun
makalah ini tidak luput dari kekurangan dan kesalahan. Maka penulis memohon
maaf dan penulis mengharapkan adanya kritik dan saran yang membangun agar
dikemudian hari penulis dapat menyusun makalah dengan lebih baik lagi.
Penulis
BAB I
PENDAHULUAN
2.2 Pembahasan
Elektron acak dipancarkan dari permukaan katoda panas dan dipercepat
menuju anoda dengan potensial percepatan tinggi diletakan diantara anoda dan
katoda. Karena bentuk medan elektrostatik yang dibentuk oleh konfigurasi anoda
cangkir jaringan yang digunakan, elektron yang dipancarkan secara elektrostatik
dibentuk menjadi aliran sedikit yang melewati anoda, aliran tersebut mencapai
kecepatan maksimum yang tersedia dari tegangan percepatan dan
mempertahankan kecepatan maksimum ini, ketika proses berlangsung di
lingkungan vakum, samoai aliran bertabrakan dengan benda kerja.
a) E-beam Evaporation
E-beam (electron beam) evaporation adalah proses evaporasi termal, dan
bersama dengan sputtering adalah salah satu dari dua tipe deposisi uap fisika
(PVD) yang paling umum. E-beam evaporation menyediakan untuk transfer
langsung sejumlah besar energi ke dalam sumber material, memungkinkan
penguapan logam dan bahan dielektrik dengan suhu leleh yang sangat tinggi,
seperti emas dan silikon dioksida, masing-masing. Oleh karena itu, adalah
mungkin untuk menyimpan bahan yang tidak dapat diuapkan dengan penguapan
termal resistif standar. Manfaat tambahan dari evaporasi e-beam adalah tingkat
deposisi lebih tinggi dari mungkin dengan baik sputtering atau penguapan resistif.
Dalam evaporasi e-beam, bahan penguapan dapat ditempatkan langsung
di perapian tembaga berpendingin air atau menjadi wadah dan dipanaskan oleh
sinar elektron terfokus. Panas dari berkas elektron menguapkan material, yang
kemudian mengendap pada substrat untuk membentuk film tipis yang dibutuhkan.
Gambar 2. Skema E-beam Evaporation