Makalah Elektorn Beam
Makalah Elektorn Beam
Elektron Beam
OLEH
NAMA KELOMPOK :
Lucyavalentikasinurat(15034010) (2)
Hanifahhutami(15034062) (18)
JURUSAN FISIKA
2018
KATA PENGANTAR
Puji syukur penulis panjatkan kepada Allah Yang Maha Esa yang telah
memberikan rahmat serta karunianya sehingga penulis dapat menyelesaikan makalah
ELEKTRON BEAMSebagai tugas mata kuliah Semikonduktor.Terimakasih penulis ucapkan
kepada Ibuk/bapak Dosen pengampu mata Semikonduktor. Atas bimbingan dan kesempatan
yang telah diberikan beliau,makapenulis dapat menyelesaikantugasmakalah inidenganbaik.
Semoga makalah ini dapat memberikan manfaat bagi pembaca pada umumnya, dan bagi
penulis sendiri.Penulis menyadaribahwa dalam menyusunmakalah ini tidak luput dari
kekurangan dan kesalahan. Maka penulis memohon maaf danpenulismengharapkan adanya
kritik dan saran yang membangun agar dikemudian hari penulis dapat menyusun makalah
dengan lebih baik lagi.
Penulis
BAB I
PENDAHULUAN
Mesin pemercepat elektron atau sering disebut EBM (Electron Beam Machine) adalah
satu jenis teknologi yang telah dikembangkan dalam dua dekade yang lalu sebagai sumber
radiasi pada proses iradiasi suatu produk industri. Pemanfaatan EBM dalam bidang industri
telah berkembang pesat di negara – negara maju, terutama dalam proses pengeringan
pelapisan (curing of coatings) permukaan suatu bahan, proses pembentukan ikatansilang pada
plastik, karet, sterilisasi perlatan medis, pengawetan bahan makanan, modifikasi tekstil dan
graft polymerization.(Suprapto, 2006)
Mesin pemercepat elektron memiliki banyak fungsi dalam teknologi modern, termasuk
dunia industri yang notabenenya bersinggungan langsung dengan teknologi modern. Mesin
pemercepat elektron dapat berfungsi dalam proses penggilingan, pengeboran serta perforasi
dalam dunia industri.
2.2 Pembahasan
Elektron acak dipancarkan dari permukaan katoda panas dan dipercepat menuju anoda
dengan potensial percepatan tinggi diletakan diantara anoda dan katoda. Karena bentuk
medan elektrostatik yang dibentuk oleh konfigurasi anoda cangkir jaringan yang digunakan,
elektron yang dipancarkan secara elektrostatik dibentuk menjadi aliran sedikit yang melewati
anoda, aliran tersebut mencapai kecepatan maksimum yang tersedia dari tegangan percepatan
dan mempertahankan kecepatan maksimum ini, ketika proses berlangsung di lingkungan
vakum, samoai aliran bertabrakan dengan benda kerja.
a) E-beam Evaporation
E-beam (electron beam) evaporation adalah proses evaporasi termal, dan bersama
dengan sputtering adalah salah satu dari dua tipe deposisi uap fisika (PVD) yang paling
umum. E-beam evaporation menyediakan untuk transfer langsung sejumlah besar energi ke
dalam sumber material, memungkinkan penguapan logam dan bahan dielektrik dengan suhu
leleh yang sangat tinggi, seperti emas dan silikon dioksida, masing-masing. Oleh karena itu,
adalah mungkin untuk menyimpan bahan yang tidak dapat diuapkan dengan penguapan
termal resistif standar. Manfaat tambahan dari evaporasi e-beam adalah tingkat deposisi lebih
tinggi dari mungkin dengan baik sputtering atau penguapan resistif.
Dalam evaporasi e-beam, bahan penguapan dapat ditempatkan langsung di perapian
tembaga berpendingin air atau menjadi wadah dan dipanaskan oleh sinar elektron terfokus.
Panas dari berkas elektron menguapkan material, yang kemudian mengendap pada substrat
untuk membentuk film tipis yang dibutuhkan.
Dalam mode operasi ini, pancaran sinar elektron intensitas tinggi difokuskan pada
material target yang ditempatkan dalam air yang didinginkan tembaga. Prosesnya dimulai
dengan vakum. Sebuah filamen dipanaskan sehingga akan membentuk sebuah balok yang
dibelokkan dan fokus pada material yang akan diuapkan oleh medan magnet. Ketika E-beam
menumbuk material magnet target, energi kinetik dari gerak ditransfer ke energi panas.
E-beam evaporation digunakan untuk menyimpan berbagai macam material.
Umumnya digunakan untuk aplikasi film tipis optik seperti laser optik dan panel surya untuk
kacamata dan kaca arsitektur, penguapan e-beam menyediakan kualitas optik, listrik, dan
mekanik yang diperlukan. E-beam evaporation memberikan efisiensi penggunaan material
yang tinggi dibandingkan dengan proses PVD lainnya, mengurangi biaya.
Sistem evaporator e-beam Denton Vacuum dikirim dengan pengendali sweep yang
dapat diprogram untuk memberikan pemanasan optimal dari bahan evaporasi dan
meminimalkan kontaminasi dari wadah. Multi-pocket e-beam sources dapat disediakan untuk
menguapkan bahan evaporasi yang berbeda secara berurutan tanpa merusak vakum untuk
desain film multi-layer. Sistem dikonfigurasikan dengan pengendali pengendapan film tipis
untuk kontrol proses satu dan banyak lapisan otomatis. Pemantauan optik dan kontrol
perangkat keras dan perangkat lunak real-time dapat sepenuhnya diintegrasikan ke dalam
sistem untuk memungkinkan kontrol proses otomatis untuk aplikasi pelapisan optik yang
kritis.
E-beam evaporation dapat dikontrol, diulang dan kompatibel dengan penggunaan
sumber bantuan ion untuk meningkatkan karakteristik kinerja film tipis yang diinginkan.
Denton telah mengembangkan dua sistem untuk aplikasi evaporasi e-beam, satu menawarkan
konfigurasi serbaguna untuk R & D dan produksi percontohan, yang lain menargetkan
produksi volume tinggi dengan konfigurasi khusus aplikasi. Kami memiliki lebih dari 50
tahun pengalaman dalam memberikan solusi proses turn-key untuk metalisasi, lift-off, dan
pelapisan optik presisi. Solusi e-beam di bawah ini memberikan banyak opsi untuk
memenuhi persyaratan aplikasi.
BAB III
PENUTUP
3.1 Kesimpulan
Mesin pemercepat elektron wajib dilakukan dalam ruang hampa. Jika tidak elektron akan
berinteraksi dengan molekul udara, sehingga elektron akankehilangan energi dan kemampuan
pemotongan. Jadi benda kerja yang akan dikenai mesin terletak di bawah sinar elektron dan
tetap berada dalam keadaan vakum. Energi tinggiterfokus kedalam berkas elektron dibuat
untuk menimpa pada benda kerja dengan ukuran tempat10 - 100 µm. Energi kinetik dari
elektron kecepatan tinggi diubahmenjadi energi panas sebagai elektron menyerang bahan
kerja. Karena daya masa jenis tinggiinstan mencair dan penguapan dimulai "meleleh –
penguapan" depansecara bertahap berkembang. Akhirnya bahan mencair, jika beberapa di
bagian atas dari depan, dikeluarkan dari zona pemotongan oleh uap yang tekanan tinggidi
bagian bawah. Tidak seperti di berkas pengelasan elektron , pistol di EBM digunakan dalam
modus pulse. Lubang dapat dibor dalam lembaran tipis dengan menggunakan satupulse.
Untuk piring tebal, beberapa pulse akan diperlukan. Pemercepat elektron juga dapat
bermanuver dengan menggunak-kan kumparan defleksi elektromagnetik untuk pengeboran
lubang bentuk apapun.
Pengeboran : Dalam lubang pengeboran, berkas elektron terfokus pada satu tempat dan
menguapkan bahan sampai telah benar – benar menembus benda kerja atau diaktifkan dari
setelah kedalaman lubang tertentu telah tercapai. Diameter lubang tergantung pada diameter
aliran dan kerapatan energi. Jika lubang yang lebih besar dari diameter aliran yang
diperlukan, berkas elektron dibelokkan elektromagnetik dalam lintasan melingkar dengan
diameter yang diperlukan. Memvariasikan amplitude dari tegangan generator terhubung ke
sistem defleksi elektromagnetik dapat mengubah diameter jalur aliran melingkar. Jika lubang
yang sangat besar yang diperlukan, benda kerja dapat dipindahkan dari pusat dan diputar.
Perforasi : Elektron Beam Machine digunakan secara luas untuk melubangi banyak
bahan termasuk super alloy tahan panas, plastik, dan tekstil.
Penggilingan : Aplikasi yang digunakan untuk EBM pabrik kecil lubang profil berbentuk
kurang dari 160 mm2 . benda kerja dipegang stasioner sedangkan berkas elektron diprogram
untuk memotong pola.
DAFTAR PUSTAKA
Elshourbagy, Hazem Elsayed, 2014. Elecron Beam Machine.Production Engineering &
Mechanical Design Department Faculty of Engineering - Mansoura University, Egypt.
Paul, Soumitra, Module Non conventional Machining Lesson 40 Electron Beam and Laser
Beam Machining Version 2 ME. Department of Mechanical Engineering Indian
Institute of Technology, Kharagpur, Indian
Suprapto, 2006. Rancangan Dan Konstruksi Sumber Elektron Untuk Mesin Berkas Elektron
Industri Lateks.Pusat Teknologi Akselerator dan Proses Bahan, BATAN, Yogyakarta.