BAB IV

HASIL DAN PEMBAHASAN

4.1 Pengaruh Waktu Kontak Terhadap Kinerja Reaksi Elektroplating

Berdasarkan praktikum untuk penentuan waktu optimum, didapatkan data berikut ini.
Tabel 4.1. Data praktikum penentuan waktu optimum
t (menit) W Fe (gr)  W Fe (gr) W Cu (gr)  W Cu (gr)
0 4,702 0,000 5,104 0,000
5 4,822 0,120 5,102 -0,002
10 4,843 0,140 4,928 -0,176
15 4,849 0,147 4,876 -0,228
20 4,901 0,199 4,855 -0,249
25 4,943 0,241 4,827 -0,277
Sehingga didapatkan grafik sebagai berikut.
0.3
berat endapan Cu (gr)

0.25
0.2
0.15
0.1
0.05
0
0 5 10 15 20 25 30
waktu (menit)

Gambar 4.1. Hubungan antara waktu vs massa endapan Cu pada penentuan waktu kontak
optimum

Gambar 4.2. Gambar plat Cu dan Fe saat 5 menit pada penentuan waktu optimum

Gambar 4.3. Gambar plat Cu dan Fe saat 25 menit pada penentuan waktu optimum
10
 Berdasarkan data tersebut, dapat diamati bahwa terjadi penambahan berat anoda Fe dari
waktu ke waktu. Pada praktikum ini perubahan berat elektroda diamati setiap 5 menit hinga menit
ke-25. Larutan elektrolit yang digunakan yaitu larutan CuSO4 dengan konsentrasi 2 gr/l dan kuat
arus sebesar 0,15 A. Sebelum proses elekroplating dilakukan, berat awal plat Fe yang digunakan
sebagai anoda adalah 4,702 gr. Setelah proses elektroplating dilakukan, berat anoda terus
mengalami penambahan seiring berjalannya waktu hingga menit ke-25 beratnya menjadi 4,943 gr
yang berarti terjadi penambahan berat sebanyak 0,241 gr. Selain fenomena tersebut, berat katoda
Cu mengalami penurunan, berat awal katoda yang awalnya sebesar 5,104 gr setelah dilakukan
proses elektroplating hingga menit ke-25 beratnya menjadi 4,827 gr yang berarti terjadi
pengurangan berat sebanyak 0,277 gr.
Penambahan berat anoda Fe ini disebabkan karena terjadi pelapisan logam Cu yang
terlepas dari katoda, sehingga berat anoda Cu mengalami penurunan. Hal ini sesuai dengan
persamaan reaksi sebagai berikut:
2H2O (l)  O2 (g) + 4H+ + 4e- (Anoda)
Cu2+ + 2e- Cu (s) (Katoda)
Ion Cu2+ yang teroksidasi akan mengambil elektron dan menjadi logam tembaga yang menempel
pada plat Fe. Lama kelamaan berat tembaga berkurang dan plat Fe akan terlapisi tembaga. Bila
waktu kontak semakin lama, maka Cu yang mengendap di plat Fe semakin tebal (Nida, 2014). Hal
ini sesuai dengan hukum Faraday I, yang menyatakan bahwa “Massa zat yang dihasilkan pada
suatu elektroda selama proses elektrolisis berbanding lurus dengan waktu dan muatan listrik yang
digunakan” (Manurung, 2013).
𝑒 × 𝐼 × 𝑡
𝑊=
96500
Dimana :
W= Berat logam yang diendapkan (gr)
e = Berat ekivalen
I = Kuat arus (A)
t = Waktu (s)
Sehingga semakin lama proses elektroplating yang dilakukan, maka semakin besar pula dan
semakin optimal pula proses elektroplating tersebut. Akibatnya logam yang akan melapisi akan
semakin banyak dan tebal.
Dari hasil praktikum yang diperoleh nilai efisiensi terbesar adalah 8,105 % pada
penambahan berat Fe yang terjadi pada menit ke-5. Seharusnya semakin lama waktu kontak maka
efisiensi akan semakin besar. Penurunan efisiensi pada waktu 10 menit hingga 25 menit
disebabkan oleh beberapa faktor antara lain tidak terkontrolnya suhu pada elektrolit yang ditandai
dengan banyaknya gelembung yang tidak konstan, serta permukaan logam yang akan dilapisi
masih terdapat oksida logam (Dewi dan Ahmadi, 2013).
4.2 Pengaruh Kuat Arus Terhadap Kinerja Reaksi Elektroplating
Berdasarkan praktikum untuk penentuan waktu optimum, didapatkan data berikut ini.

11
 Tabel 4.2. Data praktikum penentuan kuat arus optimum pada I = 0,08 A
t (menit) W Fe (gr)  W Fe (gr) W Cu (gr)  W Cu (gr)
0 4,739 0,000 5,109 0,000
5 4,917 0,178 5,006 -0,103
10 5,012 0,273 4,982 -0,127
15 5,030 0,291 4,897 -0,212

Tabel 4.3. Data praktikum penentuan kuat arus optimum pada I = 0,15 A
t (menit) W Fe (gr)  W Fe (gr) W Cu (gr)  W Cu (gr)
0 4,702 0,000 5,104 0,000
5 4,822 0,120 5,102 -0,002
10 4,843 0,140 4,928 -0,176
15 4,849 0,147 4,876 -0,228

Tabel 4.4. Data praktikum penentuan kuat arus optimum pada I = 0,22 A
t (menit) W Fe (gr)  W Fe (gr) W Cu (gr)  W Cu (gr)
0 4,699 0,000 5,066 0,000
5 4,838 0,139 5,033 -0,033
10 4,871 0,172 5,005 -0,061
15 4,979 0,280 4,986 -0,080

Sehingga didapatkan grafik hubungan waktu vs massa Cu yang terlepas dan menempel pada Fe
sebagai berikut.
0.35
0.3
Berat Endapan (gr)

0.25
0.2
0.15
0.1
0.05
0
0 2 4 6 8 10 12 14 16
Waktu (menit)

I = 0,08 I = 0,15 I = 0,22

Gambar 4.4. Hubungan antara waktu vs massa endapan Cu pada penentuan kuat arus optimum

12
 Gambar 4.5. Gambar plat Cu dan Fe saat 5 dan 15 menit pada kuat arus 0,08 A

Gambar 4.6. Gambar plat Cu dan Fe saat 5 dan 15 menit pada kuat arus 0,15 A

Gambar 4.7. Gambar plat Cu dan Fe saat 5 dan 15 menit pada kuat arus 0,22 A
Untuk menentukan kuat arus optimum proses elektroplating dilakukan menggunakan larutan
elektrolit CuSO4 2 gr/l selama 15 menit dan variabel kuat arus yang digunakan 0,08 A; 0,15 A;
0,22 A. Pada penggunaan kuat arus 0,08 A didapatkan nilai W Fe terbesar yaitu 0,291 gr,
sedangkan pada penggunaan kuat arus 0,15 A dan 0,22 A nilai W Fe yaitu 0,147 gr serta 0,280
gr.
Secara teori semakin besar arus yang mengalir, maka semakin banyak elektron yang
mengalir, akibatnya semakin banyak pula elektron yang berpindah dari katoda menuju anoda. Hal
ini sesuai dengan hukum Faraday I, yang menyatakan bahwa “Massa zat yang dihasilkan pada
suatu elektroda selama proses elektrolisis berbanding lurus dengan waktu dan muatan listrik yang
digunakan” (Manurung, 2013).
𝑒 × 𝐼 × 𝑡
𝑊=
96500
Dimana :

13
 W= Berat logam yang diendapkan (gr)
e = Berat ekivalen
I = Kuat arus (A)
t = Waktu (s)
Dari hasil praktikum, diperoleh kuat arus optimum pada I = 0,08 A dengan nilai efisiensi
sebesar12,28 %. Seharusnya semakin besar kuat arus maka efisiensi akan semakin besar.
Penyimpangan ini dapat disebabkan oleh Pemakaian kuat arus yang terlalu besar akan
menyebabkan gelembung-gelembung gas disekitar Fe yang berakibat pada penghambatan
partikel-partikel logam Cu yang akan menempel secara sempurna pada Fe dan proses yang terjadi
terlalu cepat (Rasyad dan Budiarto, 2011).

4.3 Pengaruh Konsentrasi CuSO4.5H2O Terhadap Kinerja Reaksi Elektroplating

Berdasarkan praktikum untuk penentuan waktu optimum, didapatkan data berikut ini.
Tabel 4.5. Data praktikum pada konsentrasi 1 gr/l
t (menit) W Fe (gr)  W Fe (gr) W Cu (gr)  W Cu (gr)
0 4,738 0,000 5,103 0,000
5 4,823 0,085 5,030 -0,073
10 4,922 0,184 4,965 -0,138
15 4,948 0,210 4,871 -0,232

Tabel 4.6. Data praktikum pada konsentrasi 2 gr/l

t (menit) W Fe (gr)  W Fe (gr) W Cu (gr)  W Cu (gr)
0 4,739 0,000 5,109 0,000
5 4,917 0,178 5,006 -0,103
10 5,012 0,273 4,982 -0,127
15 5,030 0,291 4,897 -0,212

Tabel 4.7. Data praktikum pada konsentrasi 3 gr/l

t (menit) W Fe (gr)  W Fe (gr) W Cu (gr)  W Cu (gr)
0 4,698 0,000 5,102 0,000
5 4,868 0,170 5,001 -0,101
10 5,008 0,310 4,987 -0,115
15 5,271 0,573 4,964 -0,138

Sehingga didapatkan grafik hubungan waktu vs massa Cu yang terlepas dan menempel pada Fe
sebagai berikut.

14
 0.7

0.6

0.5

0.4

0.3

0.2

0.1

0
0 2 4 6 8 10 12 14 16

1 gr/l 2 gr/l 3 gr/l

Gambar 4.8. Hubungan antara waktu vs massa endapan Cu pada penentuan konsentrasi
optimum

Gambar 4.9. Gambar plat Cu dan Fe saat 5 dan 15 menit pada konsentrasi 1 gr/l

Gambar 4.10. Gambar plat Cu dan Fe saat 5 dan 15 menit pada konsentrasi 2 gr/l

Gambar 4.11. Gambar plat Cu dan Fe saat 5 dan 15 menit pada konsentrasi 3 gr/l
Dengan menggunakan kuat arus 0,08 A pada waktu 15 menit, dapat diketahui hubungan

15
antara konsentrasi larutan CuSO4 dengan W Fe. Pada larutan CuSO4 dengan konsentrasi 1 gr/l
terjadi pengendapan Cu sebesar 0,210 gr, pada konsentrasi 2 gr/l terjadi pengendapan Cu sebesar
0,291 gr, dan pada konsentrasi 3 gr/l terjadi pengendapan Cu sebesar 0,573 gr.
Larutan elektrolit adalah suatu zat yang akan terurai menjadi ion-ion positif atau negatif
bila dilarutkan didalam air dan bersifat penghantar listrik. Zat-zat yang digunakan sebagai
elektrolit dilarutkan ke dalam air dan akan terurai menjadi ion-ion (terionisasi) sehingga larutan
ini dapat menhantarkan arus listrik. Ion listrik positif akan tertarik menuju elektroda negatif
(katoda), sedangkan ion negatif akan menuju elektroda positif (anoda). Elektrolit kuat akan
terionisasi seluruhnya atau sebagian besar menjadi ion-ion, sedangkan eletrolit lemah hanya
sebagian terionisasi menjadi ion di dalam larutan. Semakin besar konsentrasi larutan elektrolit
makaion-ion yang dihasilkan semakin banyak (Manurung, 2013).
Dari hasil praktikum, peningkatan konsentrasi larutan CuSO4 akan menaikkan laju
pelapisan. Sehingga didapatkan konsentrasi optimum elektroplating yaitu sebesar 3 gr/l dengan
efisiensi tertinggi yaitu 24,18 %. Hal tersebut disebabkan konsentrasi Cu di dalam larutan
elektrolit semakin meningkat dan jumlah ion-ion semakin rapat, maka gerakan ion menuju katoda
semakin cepat (Halupi, 2015).
4.4 Pengaruh Konsentrasi CuSO4.5H2O Terhadap Konstanta Laju Reaksi Elektroplating

0.7 y = 0.0372x - 0.0156

R² = 0.9811
0.6

0.5 1 gr/l
Berat Endapan (gr)

0.4 y = 0.0194x + 0.0403 2 gr/l

R² = 0.8798
0.3 3 gr/l

0.2 Linear (1 gr/l)

y = 0.0146x + 0.0104
0.1 R² = 0.9551 Linear (2 gr/l)
Linear (3 gr/l)
0
0 5 10 15 20
-0.1
Waktu (menit)

Gambar 4.11. Hubungan antara waktu vs massa endapan Cu pada penentuan konsentrasi
optimum

Dengan menggunakan kuat arus 0,08 A pada waktu 15 menit, dapat diketahui hubungan
antara konsentrasi larutan CuSO4 dengan W Fe. Pada larutan CuSO4 dengan konsentrasi 1 gr/l
terjadi pengendapan Cu sebesar 0,210 gr, pada konsentrasi 2 gr/l terjadi pengendapan Cu sebesar
0,291 gr, dan pada konsentrasi 3 gr/l terjadi pengendapan Cu sebesar 0,573 gr.
Laju reaksi kimia adalah jumlah mol reaktan per satuan volume yang bereaksi dalam satuan
waktu tertentu. Bila dibuat sebuah kurva sebagai fungsi waktu, maka akan diperoleh kurva bahwa
slope yang menggambarkan tentang konstanta laju reaksi. Semakin besar nilai R2 atau maksimal
mendekati 1 maka proses tersebut dapat dikatakan memiliki kesamaan dengan persamaan kinetika.
Nilai regresi linear di dalam grafik menunjukan kesamaan antara persamaan kinetika dengan
kinerja proses elektrolisis.
16
 Dari gambar 4.11 pada proses elektroplating dengan kuat arus 0,08 A dan berbagai
konsentrasi larutan elektrolit, perubahan massa ditunjukan pada sumbu y sebagai massa Cu yang
menempel pada Fe dan sumbu x sebagai waktu. Maka laju reaksi merupakan nilai gradient atau
slope kurva pada gambar 4.11. CuSO4.5H2O dengan konsentrasi 3 gr/l menghasilkan nilai k yang
paling besar yaitu sebesar 0,0372. Sedangkan pada konsentrasi 1 gr/l dan 2 gr/l menghasilkan nilai
k sebesar 0,0146 dan 0,0194.
peningkatan konsentrasi larutan CuSO4 akan menaikkan laju pelapisan. Sehingga nilai k
optimum didapatkan pada konsentrasi optimum elektroplating yaitu sebesar 3 gr/l dengan efisiensi
tertinggi yaitu 24,18 %. Hal tersebut disebabkan konsentrasi Cu di dalam larutan elektrolit
semakin meningkat dan jumlah ion-ion semakin rapat, maka gerakan ion menuju katoda semakin
cepat (Halupi, 2015).

4.5 Mekanisme Perpindahan Elektron Pada Proses Reaksi Elektroplating

Sumber arus searah dihubungkan dengan dua buah elektroda yaitu elektroda yang
dihubungkan dengan kutub negatif disebut sebagai katoda dan elektroda yang dihubungkan dengan
kutub positif disebut anoda. Benda yang akan dilapisi harus bersifat konduktif dan berfungsi
sebagai katoda. Pada elektroplating dengan anoda aktif digunakan logam yang mempunyai
kemurnian tinggi. Arus mengalir dari anoda menuju katoda melalui elektron.

Proses pelapisan pada katoda dilakukan pada suatu elektrolit yang mengandung senyawa
logam. Ion logam (Mn+) dalam elektrolit yang bermuatan positif menuju katoda yang bermuatan
negative sehingga logam ion Mn+ akan tereduksi menjadi logam M dan mengendap di katoda
membentuk lapisan logam. Menurut reaksi:

Mn+ + ne → Mo

Ion logam dalam elektrolit yang telah tereduksi dan menempel di katoda posisinya akan
diganti oleh anoda logam yang teroksidasi dan larut dalam elektrolit atau dari penambahan larutan
senyawa logam. Pada anoda terjadi oksidasi menurut reaksi :

Mo → Mn+ + ne

Apabila proses elektroplating berjalan seimbang maka konsentrasi elektrolit akan tetap,
anoda semakin lama akan berkurangdan terjadi pengendapan logam yang melapisi katoda. Reaksi
oksidasi – reduksi secara keseluruhan dapat dituliskan sebagai berikut :

Anoda : Mo → Mn+ + ne

Katoda : Mn+ + ne → Mo

Mo + Mn+ → Mn+ + Mo

Apabila plating menggunakan anoda inaktif maka logam yang menempel pada katoda
hanya berasal dari larutan, sehingga konsentrasi larutan semakin berkurang dan diperlukan kontrol

17
yang ketat terhadap konsentrasi larutan elektroplating untuk menjaga efisiensi proses dan kualitas
lapisan (Ariyan, 2010).

BAB V
PENUTUP

5.1. Kesimpulan
1. Waktu optimum elektroplating yang diperoleh yaitu 5 menit. Terjadi penyimpangan
karena tidak terkontrolnya suhu pada elektrolit yang ditandai dengan banyaknya
gelembung yang tidak konstan, serta permukaan logam yang akan dilapisi masih terdapat
oksida logam
2. Kuat arus optimum pada praktikum ini adalah 0,08 A. Penyimpangan tersebut disebabkan
oleh Pemakaian kuat arus yang terlalu besar akan menyebabkan gelembung-gelembung
gas disekitar Fe yang berakibat pada penghambatan partikel-partikel logam Cu yang akan
menempel secara sempurna pada Fe dan proses yang terjadi terlalu cepat
3. Seiring dengan bertambahnya konsentrasi larutan elektrolit CuSO4 maka FE akan
mengalami penambahan berat akibat terlapisi oleh Cu, konsentrasi optimum pada
praktikum ini adalah 3 gr/l.
4. Konstanta laju reaksi proses pelapisan Fe oleh Cu ini adalah 0,0372 gr/menit.

5.2. Saran
1. Pastikan bak elektroplating dicuci dengan bersih setiap pergantian variabel.
2. Hindari goncangan/gerakan pada elektroda yang dapat mengganggu proses
elektroplating.
3. Pastikan elektroda tercelup merata dan sejajar saat dimasukkan ke dalam larutan
elektrolit.
4. Hindari kontak langsung antar elektroda karena dapat menyebabkan loncatan arus listrik.
5. Pastikan penimbangan elektroda dilakukan dalam keadaan kering.

18
19
 DAFTAR PUSTAKA
Ariyan, Irma. (2010). Elektroplating. Teknik Kimia POLBAN.
Dewi, C.A & Ahmadi. (2013). Pengaruh Waktu Pada Elektroplating Krom Dekoratif Dengan
Logam Basis Tembaga Terhadap Laju Korosi. IKIP Mataram: Jurnal Ilmiah Pendidikan
Kimia “Hydrogen”.
Fogler, H.S. (2006). Elements of Chemical Reaction Engineering. 4th Edition. Prentice Hall PTR.
Halupi, Mentik. (2015). Pengaruh Konsentrasi Nikel dan Klorida Terhadap Proses Elektroplating
Nikel. Teknik Kimia POLBAN.
Indarti, Retno.2010. Uji Kinetika Pengurangan Kadar Nikel dari Buangan Elektroplatting Nikel
dengan metode Elektrolisis.
Manurung, Charles. (2013). Pengaruh Kuat Arus Terhadap Ketebalan Lapisan Dan Laju Korosi
(Mpy) Hasil Elektroplating Baja Karbon Rendah Dengan Pelapis Nikel.
Martin S. Silberberg, (2006), Chemistry: The Molecular Nature of Matter and Change, 4th
Edition, The McGraw-Hill Companies, Inc., ISBN 0-07-111658-3
Mordechay Schlesinger, Milan Paunovic (Editors). (2010). Modern Electroplating, 5th Edition.
John Wiley & Sons, Inc.
Rasyad, Abdul & Budiarto. (2011). Pengaruh Waktu Electroplating Dan Powdercoating Nicr
Terhadap Sifat Mekanis Dan Struktur Mikro Pada Baja Karbon Spcc- Sd. BATAN :
Prosiding Seminar Nasional Pengembangan Energi Nuklir IV.

20