Chemical peeling adalah suatu proses pemberian satu atau lebih bahan kimia ke kulit

dengan tujuan pengelupasan lapisan epidermis atau dermis sehingga menyebabkan

luka yang
kemudian akan mengalami reepitelialisasi atau regenerasi jaringan baru (Wasitaatmadja,
1990).

TIPE-TIPE BAHAN PEELING (Khunger. 2008).

Macam-macam bahan yang digunakan untuk peeling, antara lain:
1. Glycolic Acid (GA)
Glycolic Acid merupakan golongan alpha hydroxy acid (AHA). Glycolic Acid dengan
konsentrasi 20% - 70% umumnya digunakan untuk melasma, akne dan photoaging.
Bahan ini memiliki kemampuan untuk menipiskan stratum korneum dan memisahkan
ikatan intraseluler, epidermolisis, menguraikan lapisan melanin basal dan meningkatkan
sintesis kolagen
pada dermis.
2. Salicylic Acid (SA)
Salicylic Acid merupakan golongan beta hydroxy acid (BHA). Salicylic Acid dengan
konsentrasi 20-30% dapat digunakan untuk pengobatan pada akne dan mild
photoaging.
3. Trichloroacetic Acid (TCA)
Trichloroacetic Acid digunakan pada superficial peels dalam bentuk solusio dengan
konsentrasi 10-30%. TCA dapat digunakan secara tunggal dan kombinasi dengan SA
dan GA.
Penggunaan kombinasi tersebut dapat mengatasi bercak-bercak kehitaman pada
wajah.
4. Solusio Jessner
Solusio Jessner digunakan sebagai bahan superficial peels. Solusio ini
merupakan
kombinasi dari 14 gram resorcinol, 14 gram SA dan 14 gram lactid acid didalam ethanol
95%.
5. CO2 solid (dry ice)
CO2 solid digunakan secara tunggal dan dapat dikombinasi dengan TCA
untuk
mendapatkan pengelupasan lapisan kulit yang lebih dalam. CO2
solid efektif untuk pengobatan
bekas jerawat.
6. Baker-Gordon phenol peel
Baker-Gordon phenol peel merupakan kombinasi dari 88% liquid phenol 3 ml, air 2 ml,
septisol liquid soap 8 tetes, minyak croton 3 tetes. Baker-Gordon phenol peel digunakan
pada depth peels