Pembangkitan Plasma Dengan Menggunakna Metode Direct Current Magnetron Sputtering

PERNYATAAN KEASLIAN TUGAS AKHIR
Dengan ini saya menyatakan bahwa isi sebagian maupun keseluruhan Tugas Akhir
saya dengan judul Pembangkitan Plasma Menggunakan Metode Direct Current
Magnetron Sputtering adalah benar-benar hasil karya intelektual mandiri,
diselesaikan tanpa menggunakan bahan-bahan yang tidak diizinkan dan bukan
merupakan karya pihak lain yang saya akui sebagai karya sendiri. Semua referensi
yang dikutip maupun dirujuk telah ditulis secara lengkap pada daftar pustaka.
Apabila ternyata pernyataan ini tidak benar, saya bersedia menerima sanksi sesuai
peraturan yang berlaku.
Balikpapan, 21 Januari 2019
Syarifah Nihlah Yahya

NIM. 01141005
i
“halaman ini sengaja dikosongkan”
ii
PERNYATAAN PERSETUJUAN PUBLIKASI TUGAS
AKHIR UNTUK KEPERLUAN AKADEMIS
Sebagai civitas akademik Institut Teknologi Kalimantan, saya yang bertanda tangan
dibawah ini:
Nama : Syarifah Nihlah Yahya

NIM : 01141005
Program Studi : Fisika
Jurusan : Sains, Teknologi Pangan dan Kemaritiman
demi pengembangan ilmu pengetahuan, menyetujui untuk memberikan kepada

Institut Teknologi Kalimantan Hak Bebas Royalti Non-eksklusif (Non-exclusive
Royalty Free Right) atas karya ilmiah saya yang berjudul:
Pembangkitan Plasma Menggunakan Metode

Direct Current Magnetron Sputtering
beserta perangkat yang ada (jika diperlukan). Dengan Hak Bebas Royalti
Noneksklusif ini, Instutut Teknologi Kalimantan berhak menyimpan,
mengalihmediakan, mengelola dalam bentuk pangkalan data (database), merawat,
dan memublikasikan tugas akhir saya selama tetap mencantumkan nama saya
sebagai penulis/pencipta dan sebagai pemilik Hak Cipta.
Demikian pernyataan ini saya buat dengan sebenarnya.
Balikpapan, 21 Januari 2019

NIM 01141005
iii
iv
LEMBAR PENGESAHAN
TUGAS AKHIR
Disusun untuk memenuhi syarat memperoleh gelar
Sarjana Sains (S.Si.)
pada
Program Studi S-1 Fisika
Jurusan Sains, Teknologi Pangan dan Kemaritiman
Institut Teknologi Kalimantan
Judul Tugas Akhir:

PEMBANGKITAN PLASMA MENGGUNAKAN METODE
DIRECT CURRENT MAGNETRON SPUTTERING
Oleh:
NIM 01141005
Disetujui oleh Tim Penguji Tugas Akhir:
1. Suardi, S.T., M.T. Pembimbing I ..............................
2. Fadli Robiandi, S.Si., M.Si. Pembimbing II ..............................
3. Atut Reni Septiana, S.Pd., M.Si. Penguji I ..............................
4. Agus Rifani, S.Si., M.Si. Penguji II ..............................
BALIKPAPAN
JANUARI, 2019
v
vi
KATA PENGANTAR
Puji syukur kepada Tuhan Yang Maha Esa atas berkat rahmat dan anugerah-
Nya sehingga penulis dapat menyelesaikan proposal tugas akhir yang berjudul:
“PEMBANGKITAN PLASMA MENGGUNAKAN METODE

DIRECT CURRENT MAGNETRON SPUTTERING”
Proposal tugas akhir ini merupakan salah satu syarat yang harus ditempuh
untuk menyelesaikan Program Sarjana di Program Studi Fisika, Jurusan Sains,
Teknologi Pangan dan Kemaritiman, Institut Teknologi Kalimantan (ITK)
Balikpapan. Untuk itu penulis mengucapkan terima kasih yang sebesar-besarnya
kepada:
1. Allah SWT. yang telah memberikan nikmat kesehatan, kesempatan, dan
kemampuan kepada penulis untuk dapat menyelesaikan proposal tugas akhir.
2. Bapak Suardi, S.T., M.T. selaku Dosen Pembimbing Utama dan Bapak Fadli
Robiandi, S.Si. M.Si. selaku Dosen Pembimbing Pendamping.
3. Bapak Mahendra Satria Hadiningrat, S.Si., M.Si. selaku Koordinator Tugas
Akhir Program Studi Fisika Jurusan Sains, Teknologi Pangan dan
Kemaritiman ITK.
4. Bapak Dian Mart Shoodiqin, S.Si., M.Si. selaku Koordinator Program Studi
Fisika Jurusan Sains, Teknologi Pangan dan Kemaritiman ITK.
5. Ibu Menasita Mayantasari, S.Si., M.T. selaku Dosen Wali penulis di Program
Studi Fisika Jurusan Sains, Teknologi Pangan dan Kemaritiman ITK.
6. Ibu Atut Reni Septiana, S.Pd., M.Si., Bapak Agus Rifani, S.Si., M.Si., Bapak
Yohanes Dwi Saputra, S.Si., M.Si., dan Bapak Febrian Dedi Sastrawan, S.Si.,
M.Si., selaku Dosen Program Studi Fisika Jurusan Sains, Teknologi Pangan
dan Kemaritiman ITK, serta Mbak Bebby Putri Indahswari, S.E., selaku
Tenaga Pendidik Program Studi Fisika Jurusan Sains, Teknologi Pangan dan
Kemaritiman ITK.
7. Ibu Warniah yang telah sukses menjadi madrasah pertama bagi penulis.
Bapak Sjarif Ridha Yahja. Ibu Junawati yang senantiasa menemani penulis
vii
selama mengenyam pendidikan. A’a Syarief Dienan Yahya, S.E., M.M.,
Teteh Nurul Wardani Yahya, S.H.I, dan Maya Zulfah Yahya yang senantiasa
menyemangati penulis. Serta Paramitha Meylani Suwandi sebagai kawan
dalam berburu toples untuk vacuum chamber dengan penawaran tingkat
dewa.
8. Teman-teman Fisika ITK 2014 Hana yang menjadi partner girls squad di
semester akhir, Irsan sang beautiful charming guy di Fisika 2014, Padrian
yang selalu mengingatkan pada kebaikan, Jaka si alig yang selalu menemani
semester akhir yang penuh drama, Pewe yang menjadi Dosen Pembimbing
Ketiga, Defi acil cina yang selalu memiliki selera yang sama dengan saya,
Mirna kasur empuk yang selalu bunyi kalo di senderin, Reja sebagai teman
yang sudah terbiasa direpotkan, Keluarga Mahasiswa Fisika ITK angkatan
2015, 2016, dan 2017 yang selalu menemani semester akhir penulis, teman-
teman Bird Generation yang selalu kompak dari tahun pertama di Surabaya,
dan Keluarga Mahasiswa ITK.
9. Serta semua pihak yang tidak dapat disebutkan satu persatu.
Penulis menyadari bahwa proposal tugas akhir ini masih jauh dari kata
sempurna, karena itu penulis mengharapkan segala kritik dan saran yang
membangun. Semoga proposal tugs akhir ini dapat bermanfaat bagi kita semua.
Balikpapan, Oktober 2018
Penulis
viii
PEMBANGKITAN PLASMA MENGGUNAKAN METODE
DIRECT CURRENT MAGNETRON SPUTTERING
Nama Mahasiswa : Syarifah Nihlah Yahya

NIM : 01141005
Dosen Pembimbing Utama : Suardi, S.T., M.T.
Dosen Pembimbing Pendamping : Fadli Robiandi, S.Si., M.Si.
ABSTRAK
Direct Current (DC) magnetron sputtering merupakan salah satu instrumen

Physical Vapour Deposition (PVD) yang memanfaatkan plasma sebagai media
yang digunakan untuk mendeposisikan lapisan tipis pada permukaan substrat.
Dalam penelitian ini, instrumen DC magnetron sputtering terdiri atas pompa
vakum, tabung vakum (reaktor plasma), kapasitor, trafo MOT, dioda bridge HV,
dan trafo regulator. Plasma dapat dibentuk dengan cara mengionisasikan gas yang
terperangkap dalam tabung vakum. Keadaan vakum dapat diperoleh dengan
memompa keluar udara yang terperangkap dalam tabung vakum selama 45 menit
dan 60 menit. Proses ionisasi dilakukan dengan cara memberikan listrik tegangan
tinggi DC (800-1600 Volt) pada gas yang terperangkap dalam reaktor plasma, hasil
dari proses ionisasi yang dilakukan adalah berupa plasma. Listrik tegangan tinggi
DC dapat diperoleh dari rangkaian trafo regulator, trafo MOT, dioda bridge HV,
dan kapasitor HV. Plasma dibangkitkan berdasarkan jarak antar elektroda sebesar
2, 4, 6, 8, dan 10 cm. Plasma yang diperoleh dari instrumen DC magnetron
sputtering yang dibuat terdiri atas 3 jenis, yaitu plasma lucutan townsend, plasma
lucutan pijar, dan cathode/anode glow. Ketiga jenis plasma terbentuk pada
tegangan yang berbeda-beda. Warna plasma yang dihasilkan sebagian besar
berwarna ungu. Warna ungu berasal dari udara bebas, dimana sebanyak 78%
mengandung gas N2.
Kata kunci:
DC magnetron sputtering, plasma, tegangan
ix
x
PLASMA IGNITED USING DIRECT CURRENT
MAGNETRON SPUTTERING METHOD
By : Syarifah Nihlah Yahya

Student Identity Number : 01141005
Supervisor : Suardi, S.T., M.T.
Co-Supervisor : Fadli Robiandi, S.Si., M.Si.
ABSTRACT
Thin layer on the surface of the substrate can be deposited by Direct Current
(DC) magnetron sputtering wich is one of the Physical Vapour Deposition (PVD)
technique that use plasma as a medium. In this experiment, vacuum pumps, vacuum
tubes (plasma reactor), capacitor, MOT transformers, HV bridge diodes, and
regulator transformers is the main instrumen of DC magnetron sputtering. By
ionizing the trapped gas inside the vacuum tube we created the plasma. By pumping
out the air inside the vacuum tube for 45 and 60 minutes we can get the vacuum
state. The ionization process can be done by giving DC high voltage electricity to
the trapped gas in the plasma reactor that formed plasma. DC high voltage
electricity (at 800-1600 Volt) can be form using regulator transformers, MOT
transformers, HV bridge diodes, and HV capacitor. Plasma’s are ignited with the
distance between the electrodes which is 2, 4, 6, 8, and 10 cm. From the experiment
we got three types of plasma, townsend discharge plasma, glow discharge plasma,
and cathode/anode glow. All of the plasma’s types was formed at different voltages.
The color of the plasma is mostly purple. Purple indicated that the gas we used for
plasma is N2 gas. As we know that 78% N2 gas was in the free air.
Key word:
DC magnetron sputtering, plasma, voltage
xi
xii
DAFTAR ISI
Pernyataan Keaslian Tugas Akhir ............................................................................ i

Pernyataan Persetujuan Publikasi Tugas Akhir Untuk Keperluan Akademis ....... iii
Lembar Pengesahan .................................................................................................v
Kata Pengantar ...................................................................................................... vii
Abstrak ................................................................................................................... ix
Abstract .................................................................................................................. xi
Daftar Isi .............................................................................................................. xiii
Daftar Gambar........................................................................................................xv
Daftar Tabel ........................................................................................................ xvii
Daftar Notasi ........................................................................................................ xix
Daftar Istilah ........................................................................................................ xxi
BAB 1 Pendahuluan .................................................................................................1
1.1 Latar Belakang.........................................................................................1
1.2 Perumusan Masalah .................................................................................3
1.3 Batasan Masalah ......................................................................................3
1.4 Tujuan Penelitian .....................................................................................3
1.5 Manfaat Penelitian ...................................................................................4
1.6 Kerangka Pemikiran Penelitian ...............................................................4
BAB 2 Tinjauan Pustaka ..........................................................................................7
2.1 Transformator ..........................................................................................7
2.2 Rangkaian Penyearah Gelombang Penuh Sistem Jembatan ....................9
2.3 Kapasitor................................................................................................11
2.4 Plasma....................................................................................................12
2.5 Reaktor Plasma ......................................................................................15
2.6 Direct Current Magnetron Sputtering ...................................................16
2.7 Penelitian Terdahulu..............................................................................18
BAB 3 Metode Penelitian.......................................................................................21
3.1 Alat dan Bahan ......................................................................................21
3.1.1 Alat ...................................................................................................21
xiii
3.1.2 Bahan ............................................................................................... 21
3.2 Langkah Kerja ....................................................................................... 22
3.2.1 Pembuatan Sistem Vakum ............................................................... 22
3.2.2 Pembuatan Rangkaian Sumber Tegangan ....................................... 22
3.2.3 Pengujian Rangkaian Sumber Tegangan ......................................... 22
3.2.4 Pembangkitan Plasma ...................................................................... 23
3.2.5 Diagram Alir Penelitian ................................................................... 24
3.3 Rencana Jadwal Penelitian .................................................................... 26
BAB 4 Hasil dan Pembahasan ............................................................................... 27
4.1 Hasil Perancangan Direct Current Magnetron Sputtering ................... 27
4.1.1 Sistem Vakum.................................................................................. 27
4.1.2 Sistem Rangkaian Sumber Tegangan .............................................. 28
4.2 Pembangkitan Plasma ........................................................................... 32
BAB 5 Kesimpulan dan Saran ............................................................................... 39
5.1 Kesimpulan ........................................................................................... 39
5.2 Saran...................................................................................................... 39
Daftar Pustaka........................................................................................................ 41
LAMPIRAN A .................................................................................................... A-1
LAMPIRAN B ..................................................................................................... B-1
LAMPIRAN C ..................................................................................................... C-1
LAMPIRAN D .................................................................................................... D-1
xiv
DAFTAR GAMBAR
Gambar 1.1 Kerangka Pemikiran Penelitan .............................................................5

Gambar 2.1 Skema Transformator ...........................................................................7
Gambar 2.2 MOT .....................................................................................................8
Gambar 2.3 Trafo Regulator ....................................................................................9
Gambar 2.4 Penyearah gelombang penuh dengan sistem jembatan (a) rangkaian
dasar, (b) sinyal saat siklus positif, (c) sinyal saat siklus negatif, (d)
sinyal arus beban...............................................................................10
Gambar 2.5 Kapasitor HV .....................................................................................11
Gambar 2.6 Fase material ......................................................................................12
Gambar 2.7 Plasma lucutan pijar korona ...............................................................14
Gambar 2.8 Skema sederhana reaktor plasma .......................................................15
Gambar 2.9 Skema alat DC magnetron sputtering ................................................17
Gambar 2.10 Sputtering pada permukaan target yang menghasilkan lapisan tipis
pada substrat ....................................................................................18
Gambar 3.1 Rangkaian alat DC magnetron sputtering ..........................................21
Gambar 3.2 Sistem Vakum DC magnetron sputtering ..........................................22
Gambar 3.3 Skema Karakterisasi Sinyal Tegangan ...............................................23
Gambar 3.4 Skema Pengukuran Tegangan ............................................................24
Gambar 3.5 Diagram Alir Penelitian .....................................................................25
Gambar 4.1 Vakum gauge STAINS yang terukur pada tabung vakum yang
dirancang .........................................................................................28
Gambar 4.2 Nilai input dan output trafo regulator dan trafo MOT .......................28
Gambar 4.3 (a) Sinyal tegangan output trafo regulator (b) Sinyal tegangan output
trafo MOT .........................................................................................29
Gambar 4.4 Tegangan output dari rangkaian setelah dihubungkan dengan dioda
bridge HV .........................................................................................30
Gambar 4.5 Sinyal tegangan output dioda bridge HV ...........................................30
Gambar 4.6 Tegangan input reaktor plasma ..........................................................31
Gambar 4.7 Sinyal tegangan input reaktor plasma ................................................32
xv
Gambar 4.8 Grafik kestabilan plasma ................................................................... 34
xvi
DAFTAR TABEL
Tabel 2.1 Variasi warna plasma berdasarkan gas yang terionisasi di dalam reaktor
plasma*)................................................................................................ 14
Tabel 2.2 Penelitian terdahulu yang berkaitan ...................................................... 19
Tabel 3.1 Parameter pembangkitan plasma .......................................................... 24
Tabel 3.2 Rencana Jadwal Penelitian .................................................................... 26
Tabel 4.1 Parameter plasma yang terbentuk ......................................................... 32
Tabel 4.2 Plasma lucutan pijar yang terbentuk ..................................................... 35
Tabel 4.3 Plasma cathode/anode glow yang terbentuk ......................................... 37
xvii
xviii
DAFTAR NOTASI
Notasi Keterangan Satuan

I0 arus output pada rangkaian Ampere
penyearah gelombang penuh
sistem jembatan
Ip arus pada kumparan primer trafo Ampere
Is arus pada kumparan sekunder trafo Ampere
n kerapatan plasma m-3
ne kerapatan elektron m-3
ni kerapatan ion m-3
Np jumlah lilitan pada kumparan -
primer trafo
Ns jumlah lilitan pada kumparan -
sekunder trafo
Pin daya input pada trafo Watt
Pout daya output pada trafo Watt
V0 tegangan output pada rangkaian Volt
sistem jembatan
Vin tegangan input pada rangkaian Volt
sistem jembatan
Vp tegangan pada kumparan primer Volt
trafo
Vs tegangan pada kumparan sekunder Volt
trafo
xix
xx
DAFTAR ISTILAH
Istilah Pengertian
anode/cathode glow fenomena yang terjadi pada saat gas
bertekanan rendah diberikan tegangan tinggi
DC anode/cathode glow menunjukan plasma
yang terakumulasi di sekitar anoda dan
katoda pada reaktor plasma
breakdown voltage terjadi ketika isolator (dalam kasus ini adalah
udara bebas) diberikan tegangan hingga
menyebabkan benda yang bersifat isolator
berubah menjadi benda yang bersifat
konduktor
direct current salah satu alat yang menggunakan prinsip
magnetron sputtering deposisi uap plasma atau Plasma Vapoour
Deposition (PVD) dalam penggunaannya.
Sistem DC magnetron sputtering merupakan
modifikasi dari sistem sputtering dan
pengembangan dari metode RF sputtering,
yaitu dengan menambahkan magnet dalam
konstruksi target (material yang akan di
deposisi pada TCO) serta menggunakan
generator DC
plasma lucutan pijar fenomena yang terjadi pada saat proses
ionisasi gas terjadi secara berkelanjutan.
plasma lucutan pijar terlihat seperti kilat yang
menyambar secara terus-menerus di dalam
reaktor plasma
plasma lucutan fenomena yang terjadi pada saat proses
townsend ionisasi gas pertama kali terjadi. plasma
lucutan townsend terlihat seperti kilat sesaat
yang menyambar di dalam reaktor plasma
xxi
xxii
BAB 1
PENDAHULUAN
Pada bab pendahuluan berisi latar belakang dilakukannya penelitian, masalah

dan batasan masalah yang akan diselesaikan dari penelitian yang dilakukan, tujuan
dilakukannya penelitian, manfaat yang dapat diperoleh dari penelitian yang
dilakukan, serta kerangka pemikiran dari penelitian yang dilakukan.
1.1 Latar Belakang

Potensi Pembangkit Listrik Tenaga Surya (PLTS) di wilayah Nusantara dapat
mencapai 207.898 MW. Dari jumlah tersebut terdapat 13.479 MW berasal dari
wilayah Provinsi Kalimantan Timur, jumlah ini dapat memenuhi 26,32% kebutuhan
listrik penerangan jalan untuk seluruh wilayah Provinsi Kalimantan Timur (ESDM
Statistik EBTKE, 2016). Untuk dapat memanfaatkan potensi tersebut, maka
dibutuhkan penelitian lebih lanjut mengenai komponen PLTS untuk dapat
mengembangkan PLTS di wilayah Kalimantan Timur.
Salah satu komponen utama dari PLTS adalah kaca konduktif. Secara umum,
kaca konduktif berfungsi untuk mentransmisikan cahaya menggunakan lapisan
aktif semikonduktor untuk dapat menghasilkan listrik. Kaca konduktif juga
berfungsi sebagai media penghantar muatan yang akan dialirkan ke elektroda (Arini
dkk, 2017). Transparent Conductive Oxide (TCO) merupakan salah satu jenis kaca
konduktif yang proses pembuatannya menggunakan metode yang sangat mudah
untuk dilakukan (Wirjoadi, 2008). Beberapa metode yang sering digunakan untuk
membuat TCO adalah spray pyrolisis, sol-gel, dan Direct Current magnetron
sputtering. Metode spray pyrolisis merupakan metode yang diadopsi untuk
membuat serbuk yang berukuran submikrometer (Widiyastuti dkk, 2011). Metode
sol-gel merupakan metode sintesis yang dapat menghasilkan material dengan
karakteristik kemurnian yang tinggi, kontrol homogenitas yang baik, dan
pengaturan sifat dihasilkan pada berbagai macam material nanostruktur (Yuwono
dkk, 2010). Metode Direct Current magnetron sputtering menghasilkan deposisi
1
lapisan tipis yang memiliki struktur polikristalin, ikatan antara target dan substrat
sangat kuat (tidak menunjukkan adanya rongga), dan lapisan tipis yang terbentuk
homogen (Sugianto dkk, 2015).
Diantara beberapa metode diatas, metode Direct Current magnetron
sputtering merupakan metode yang cukup menjanjikan untuk digunakan. Selain
menghasilkan lapisan tipis yang baik, stoikiometri dari lapisan tipis dapat
ditentukan dan dapat menggunakan logam sebagai target dalam melakukan deposisi
(Stamate dkk, 2005). Direct Current magnetron sputtering juga merupakan teknik
yang paling baik untuk pengembangan industri berdasarkan tingkat deposisi, harga,
dan kemungkinan untuk digunakan secara komersil dalam skala besar (Leng dkk,
2012). Direct Current magnetron sputtering memanfaatkan plasma untuk dapat
mendeposisikan lapisan tipis pada TCO.
Plasma merupakan fase zat keempat setelah fase zat padat, cair, dan gas.
Plasma dapat dibuat dengan cara mengionisasikan gas pada ruang vakum. Proses
ionisasi dapat dilakukan dengan memanaskan gas, atau dengan memberikan listrik
tegangan tinggi pada gas. Plasma dapat terbentuk apabila gas yang dionisasikan
berada pada tabung vakum atau yang disebut sebagai reaktor plasma. Terdapat
beberapa faktor yang mempengaruhi plasma yang terbentuk pada Direct Current
magnetron sputtering, antara lain tegangan, arus, tingkat vakum, dan jenis gas yang
diionisasikan. Plasma pada Direct Current magnetron sputtering dimanfaatkan
untuk dapat mendeposisikan lapisan tipis pada TCO.
Pada Direct Current magnetron sputtering terdapat dua komponen utama
untuk dapat menghasilkan plasma. Yakni sistem vakum dan sistem tegangan tinggi
DC. Untuk dapat membangkitkan plasma, diperlukan sebuah reaktor yang
didalamnya terdapat gas bertekanan rendah. Gas bertekanan rendah dapat diperoleh
dengan cara memompa keluar udara yang berada di dalam reaktor. Gas bertekanan
rendah ini nantinya akan digunakan untuk membangkitkan plasma. Plasma dapat
diperoleh dengan cara memberikan tegangan tinggi DC pada gas bertekanan
rendah. Tegangan tinggi dapat diperoleh dengan cara merancang rangkaian sumber
tegangan tinggi DC.
Berdasarkan penjelasan singkat di atas, penelitian lebih lanjut untuk membuat
plasma yang selanjutnya dapat dimanfaatkan dalam melakukan deposisi lapisan
2
tipis pada TCO dengan menggunakan Direct Current Magnetron Sputtering. Pada
penelitian ini akan dilakukan pembangkitan plasma dengan menggunakan
rangkaian Direct Current magnetron sputtering yang menggunakan trafo MOT
sebagai komponen utamanya. Hal ini dikarenakan trafo MOT merupakan trafo yang
dapat dengan mudah ditemukan, mudah digunakan, dan memiliki harga yang cukup
murah. Karakteristik tegangan pada saat plasma terbentuk serta kestabilan plasma
akan diinvestigasi.
1.2 Perumusan Masalah

Berdasarkan latar belakang penelitian, masalah yang akan diselesaikan dalam
penelitian ini adalah:
1. Menghasilkan plasma pada reaktor plasma dengan menggunakan metode
Direct Current magnetron sputtering.
2. Parameter listrik (tegangan) untuk menghasilkan plasma pada reaktor plasma.
1.3 Batasan Masalah

Pembatasan suatu masalah digunakan untuk menghindari adanya
penyimpangan atau pelebaran pokok masalah agar penelitian dapat lebih terarah
dan memudahkan dalam pembahasan sehingga tujuan penelitian dapat tercapai.
Batasan masalah dalam penelitian adalah:
1. Plasma dapat dihasilkan dengan menggunakan metode Direct Current
magnetron sputtering.
2. Plasma yang dibuat merupakan hasil dari ionisasi gas yang terperangkap
dalam reaktor plasma.
1.4 Tujuan Penelitian

Berdasarkan perumusan masalah, tujuan dilakukannya penelitian ini adalah:
1. Menghasilkan plasma dengan menggunakan metode Direct Current
2. Menentukan tingkat kestabilan plasma yang dihasilkan.
3
1.5 Manfaat Penelitian
Manfaat yang dapat diperoleh dari penelitian ini adalah:
1. Mengembangkan penelitian mengenai plasma.
2. Mengembangkan penelitian di bidang teknologi physical vapour deposition
(PVD) khususnya Direct Current magnetron sputtering.
3. Mengembangkan penelitian di bidang teknologi deposisi kaca konduktif
menggunakan metode Direct Current magnetron sputtering.
1.6 Kerangka Pemikiran Penelitian

Kerangka pemikiran dari penelitian yang dilakukan ditunjukan oleh Gambar
1.1 sebagai berikut:
4
Gambar 1.1 Kerangka Pemikiran Penelitan
5
6
BAB 2
TINJAUAN PUSTAKA
Pada tinjauan pustaka berisi beberapa teori yang akan mendukung penelitian
yang dilakukan. Tinjauan pustaka berisi penjelasan mengenai transformator,
rangkaian penyearah gelombang penuh sistem jembatan, kapasitor, plasma, reaktor
plasma, Direct Current magnetron sputtering, dan penelitian terdahulu yang
berkaitan mengenai plasma.
2.1 Transformator
Transformator merupakan instrumen listrik yang berfungsi mengubah
tegangan arus bolak-balik (arus AC) dari satu tingkat ke tingkat yang lain melalui
suatu gandengan magnet dan berdasarkan prinsip-prinsip induksi elektromagnetik
(Setiadji dkk, 2006). Prinsip induksi elektromagnetik yang digunakan adalah
Hukum Ampere dan Hukum Induksi Faraday. Kedua hukum tersebut menyatakan
bahwa perubahan arus atau medan listrik dapat menimbulkan medan magnet dan
perubahan medan magnet (fluks medan magnet) sehingga menyebabkan tegangan
induksi. Secara umum, Gambar 2.1 menunjukan skema dari transformator.
Gambar 2.1 Skema Transformator
Arus AC yang mengalir pada kumparan primer akan membangkitkan fluks

magnet yang mengalir melalui inti besi yang terdapat diantara dua kumparan, fluks
magnet tersebut menginduksi kumparan sekunder sehingga terjadi beda potensial
diantara kedua ujung kumparan sekunder. Beda potensial yang terjadi dinamakan
tegangan induksi (PT PLN (Persero), 2014).
7
Hubungan antara jumlah lilitan,tegangan, dan arus dari sebuah transformator
secara umum didasarkan pada Hukum Induksi Faraday yang dapat dirumuskan
sebagai persamaan 2.1
Vp Np
= (2.1)
Vs Ns
Persamaan daya ideal dari transformator ditunjukan oleh persamaan (2.2)

sebagai berikut.
Pin = Pout (2.2)

Vp Ip = Vs Is (2.3)
Vp Is
= (2.5)
Vs Ip
Dari persamaan (2.1) dan (2.5) dapat diperoleh persamaan umum

transformator yang ditunjukan oleh persamaan (2.6) sebagai berikut.
Vp Np Is
= = (2.6)
Vs Ns Ip
(Qurthobi, 2018)
Transformator memiliki beberapa jenis, salah satunya adalah Microwave

Oven Transformer (MOT). MOT merupakan transformator yang dapat ditemukan
pada microwave. MOT mudah digunakan dan memiliki harga yang cukup murah.
MOT dapat digunakan untuk instrumen catu daya tegangan tinggi. Trafo MOT dan
bagian-bagiannya ditunjukan oleh Gambar 2.2 sebagai berikut (Rana, 2014).
Gambar 2.2 MOT

(Sutadi, 2013)
8
Selain MOT, trafo regulator juga merupakan salah satu jenis dari trafo. Trafo
regulator adalah trafo yang menyediakan tegangan output dalam bentuk AC
konstan. Trafo regulator dapat digunakan dalam jangka panjang tanpa
menimbulkan reaksi yang merugikan (Mendis dkk, 2006). Salah satu contoh bentuk
dari trafo regulator ditunjukan oleh Gambar 2.3 sebagai berikut.
Gambar 2.3 Trafo Regulator

(www.aliexpress.com)
2.2 Rangkaian Penyearah Gelombang Penuh Sistem Jembatan

Rangkaian penyearah gelombang penuh dengan menggunakan sistem
jembatan merupakan rangkaian yang digunakan untuk mengubah aliran arus listrik
AC menjadi aliran arus listrik DC. Rangkaian penyearah gelombang penuh dapat
digunakan pada berbagai jenis trafo ataupun tanpa trafo (Surjono, 2007).
Persamaan (2.7) merupakan persamaan yang menyatakan tegangan output
rata-rata dari rangkaian penyearah gelombang penuh sistem jembatan.
2√2
V0 = Vin (2.7)
π
Untuk persamaan arus output rata-rata dari rangkaian penyearah gelombang

penuh sistem jembatan ditunjukan oleh persamaan (2.8) sebagai berikut.
V0
I0 = (2.8)
R
(Dahono, 2018)
9
Rangkaian dasar dari rangkaian penyearah gelombang penuh sistem jembatan
ditunjukan oleh Gambar 2.4 sebagai berikut.
Gambar 2.4 Penyearah gelombang penuh dengan sistem jembatan (a)

rangkaian dasar, (b) sinyal saat siklus positif, (c) sinyal saat siklus negatif,
(d) sinyal arus beban.
(Surjono, 2007)
10
2.3 Kapasitor
Kapasitor adalah komponen pasif elektronika yang dapat menyimpan muatan
listrik di dalam medan listrik dengan cara mengumpulkan ketidakseimbangan
internal dari muatan listrik. Kapasitor dapat dilambangkan deangan huruf “C”
dengan satuan Farad (F) (Erwanto, 2015).
Kapasitor tegangan tinggi merupakan kapasitor yang digunakan pada
rangkaian pengali tegangan trafo MOT yang menggunakan aliran AC 50 Hz, serta
dapat digunakan secara kontinyu (Microwave Oven Capacitor Datasheet). Gambar
2.5 menunjukan salah satu kapasitor HV yang dapat ditemukan pada microwave.
Gambar 2.5 Kapasitor HV
Kapasitor tegangan tinggi memiliki beberapa keunggulan, yaitu:

a. Dapat digunakan pada tegangan tinggi untuk korona
b. Memiliki tingkat presisi yang tinggi
c. Dapat digunakan dalam jangka waktu yang lama
d. Memiliki performa yang stabil
e. Memiliki disipasi panas yang baik
(Microwave Oven Capacitor Datasheet)
11
2.4 Plasma
Konsep plasma pertama kali dicetuskan pada tahun 1928 oleh Langmuir dan
Tonks. Mereka mendefinisikan plasma sebagai gas yang terionisasi dalam lucutan
listrik (Tarenbaum, S.B., 1967). Plasma sering disebut sebagai fase keempat dari
material. Fase tersebut terbentuk pada saat substansi dipanaskan suhu diatas energi
ikat dari keadaan tertentu material sehingga terjadi transisi fase (Callen, 2003).
Gambar 2.6 Fase material
Gambar 2.6 menunjukan bahwa plasma merupakan daerah reaksi tumbukan

elektron yang sangat signifikan untuk terjadi. Plasma dapat terjadi apabila suhu atau
energi suatu gas dinaikkan sehingga memungkinkan atom-atom gas terionisasi dan
melepaskan elektron-elektronnya yang mana pada keadaan normal elektron
tersebut mengelilingi inti (Nur, 2011). Fenomena plasma juga dapat terjadi ketika
medan listrik diaplikasikan pada gas sehingga menyebabkan elektron yang
memiliki energi yang sangat besar akan mentransfer energinya pada molekul gas
12
melalui proses tumbukan, eksitasi molekul, tangkapan elektron, disosiasi, dan
ionisasi (Triadyaksa dkk, 2007). Plasma dapat terbentuk ketika terjadi campuran
kuasinetral antara elektron, radikal bebas, ion positif, dan ion negatif (Tseng, C.H.,
1999). Kondisi kuasinetral adalah kondisi dimana kerapatan ion (n i) memliki nilai
yang hampir sama dengan kerapatan elektron (ne) sehingga berlaku persamaan (2.8)
sebagai berikut.
𝑛𝑖 ≈ 𝑛𝑒 ≈ 𝑛 (2.8)
dengan n menyatakan kerapatan secara umum atau kerapatan plasma

(Francis, 1974).
Plasma korona merupakan proses pembangkitan arus pada fluida netral
didalam ruang vakum dan berada di antara dua buah elektroda yang memiliki
tegangan tinggi. Proses pembangkitan plasma korona dapat dilakukan dengan cara
mengionisasi fluida netral tersebut sehingga membentuk plasma pada salah satu
elektroda dan menggunakan ion yang dihasilkan―dari proses ionisasi fluida
netral―untuk dijadikan sebagai pembawa muatan menuju elektroda lainnya.
Proses terjadinya lucutan pijar plasma korona dalam medan listrik diawali dengan
lucutan townsend untuk kemudian diikuti oleh lucutan pijar (glow discharge) atau
korona (corona discharge) yang kemudian diakhiri dengan arc discharge (Reizer,
1997). Lucutan pijar korona dapat muncul dengan menggunakan sepasang
elektroda yang memiliki bentuk tidak simetris didalam daerah dengan medan listrik
tinggi dan di antara dua buah elektroda yang memiliki bentuk geometri yang lebih
runcing pada salah satu elektroda dibanding elektroda yang lainnya (Rutgers dan
Van, 2002). Pada salah satu elektroda yang akan mengalami proses ionisasi disebut
sebagai elektroda aktif (Spyrout dkk, 1994). Proses pembangkitan plasma lucutan
pijar korona di antara kedua elektroda pada ruang vakum ditunjukan oleh Gambar
2.7 sebagai berikut.
13
Gambar 2.7 Plasma lucutan pijar korona
(Chen, 2002)
Warna plasma yang dihasilkan akan bergantung pada jenis gas yang
diionisasikan. Tabel 2.1 menunjukan beberapa warna plasma yang terbentuk
berdasarkan gas yang terionisasi di dalam reaktor plasma.
Tabel 2.1 Variasi warna plasma berdasarkan gas yang terionisasi di dalam reaktor
plasma*)
No. Jenis Gas Warna Plasma
1 Nitrogen
2 Oksigen
3 Argon
4 Karbon dioksida
5 Helium
6 Neon
7 Kripton
14
Tabel 2.1 Lanjutan
No. Jenis Gas Warna Plasma
7 Kripton
8 Xenon
9 Hidrogen
10 Uap Air
11 Silikon
*)International Commission on Illumination, 2018
2.5 Reaktor Plasma

Untuk membuat plasma dibutuhkan tabung berisi gas bertekanan rendah yang
disebut sebagai reaktor plasma. Reaktor plasma dapat dirancang dengan
menggunakan dua buah elektroda yang diantaranya terdapat gas bertekanan rendah.
Apabila dua buah elektroda diletakkan di dalam tabung yang berisi gas dengan
tekanan rendah dan kedua elektroda dihubungkan dengan sumber tegangan tinggi
DC, maka akan terjadi lucutan listrik diantara elektroda-elektrodanya. Secara
sederhana skema dari tabung lucutan gas (reaktor plasma) dapat dilihat pada
Gambar 2.8.
Gambar 2.8 Skema sederhana reaktor plasma
15
Elektron dari katoda akan bergerak menuju anoda dan dalam pergerakannya
elektron-elektron tersebut akan menumbuk molekul-molekul dan atom-atom gas
yang berada diantara kedua elektroda. Hal ini menyebabkan terjadinya ionisasi
berantai, tahapan pertama yang harus dilalui adalah terjadinya ionisasi yang
menghasilkan elektron. Elektron pertama ini berasal dari ionisasi gas oleh radiasi
sinar kosmis. Elektron pertama ini dipercepat oleh beda potensial antara dua
elektroda plat dalam tabung lucutan tersebut. Dalam perjalannya elektron ini akan
menumbuk dan mengionisasi atom atau molekul gas lain, demikian seterusnya.
Proses tumbukan beruntun tersebut akan menghasilkan guguran elektronik dan
dapat mengakibatkan terjadinya ionisasi berantai (Nur, 2011).
2.6 Direct Current Magnetron Sputtering

Transparent conductive oxide (TCO) adalah material konduktor listrik yang
memiliki tingkat penyerapan cahaya yang rendah. TCO dibuat dengan teknologi
lapisan tipis dan digunakan pada alat opto elekronika seperti pada sel surya dan
layar (Stadler, 2012). Bahan pembuatan TCO pada umumnya indium tin oxide
(ITO), flourine-doped tin oxide (FTO), aluminium-doped zinc oxide (AZO), dan
antimony-doped tin oxide (ATO) (Stadler, 2012). Material TCO berfungsi sebagai
elektroda sel surya. TCO yang baik memiliki karakteristik transparansi yang tinggi
pada panjang gelombang tertentu, serta memiliki konduktivitas dan carrier mobility
yang tinggi (Syuhada dkk, 2008).
TCO dibuat menggunakan metode chemical deposition dan physical
deposotion. Pada metode chemical deposition, proses pembuatan TCO dilakukan
dengan cara merendam material yang akan dilapisi ke larutan kimia pelapis.
Beberapa proses chemical deposition adalah plating, chemical solution deposition,
dan chemical vapour deposition (CVD). Sedangkan pada metode physical
deposition, TCO dibuat dengan cara memberi perlakuan fisika pada material.
Beberapa proses physical deposition adalah thermal evaporation, Direct Current
magnetron sputtering, pulsed laser deposition, physical vapour deposition (PVD)
dan cathodic arc deposition (Arc-PVD). Selain chemical deposition dan physical
deposition, terdapat metode lain untuk membuat TCO, yaitu electrochemical, spin
16
coating, sol-gel, cathodic deposition, anodic deposition, metal organic chemical
vapour deposition (MOCVD), vacuum evaporation, dan lain-lain
(Rahmasari, 2017).
Direct current (DC) magnetron sputtering merupakan salah satu alat yang
menggunakan prinsip deposisi uap plasma atau Plasma Vapoour Deposition (PVD)
dalam penggunaannya. Sistem DC magnetron sputtering merupakan modifikasi
dari sistem sputtering dan pengembangan dari metode RF sputtering, yaitu dengan
menambahkan magnet dalam konstruksi target (material yang akan di deposisi pada
TCO) serta menggunakan generator DC (Tunggadewi dkk, 2015). Sistem DC
magnetron sputtering secara keseluruhan terdiri atas sistem vakum, sistem
tegangan tinggi, elektroda positif, elektroda negatif, dioda bridge, dua buah magnet
neodimium, dan penyimpang muatan. Sistem DC magnetron sputtering dapat
dilihat pada Gambar 2.8 (Amin, 2007).
katoda
anoda
Gambar 2.9 Skema alat DC magnetron sputtering
Pada DC magnetron sputtering target dipasang pada anoda dengan sistem

magnet yang berada di bawahnya, sedangkan substrat dipasang pada katoda. Anoda
dan katoda diatur sedemikian rupa sehingga berada di dalam tabung vakum. Ketika
elektroda diberikan beda potensial bertegangan tinggi, maka akan terjadi plasma
lucutan pijar (glow discharge). Gas yang masih terperangkap dalam tabung vakum
akan dipecah oleh medan listrik tegangan tinggi menjadi plasma yang mengandung
17
elektron (e-), ion positif, dan ion negaif. Ion-ion positif kemudian akan menumbuk
atom-atom permukaan target yang diletakkan pada anoda. Ion-ion yang menumbuk
target memiliki energi yang berkisar antara ratusan hingga ribuan eV sehingga
dapat menyebabkan atom-atom yang berada pada permukaan target terlepas dan
menempel pada permukaan substrat yang terpasang pada katoda dan membentuk
lapisan tipis (Amin, 2007). Deposisi dengan metode DC magnetron sputtering
menggunakan prinsip medan magnet tertutup untuk mengarahkan atom target
bergerak dari katoda menuju anoda, meningkatkan derajat ionisasi, serta mencegah
terjadinya resputtering (Raharjo, 2009). Pada substrat yang berada di anoda, atom
target akan menempel sehingga terdeposisi membentuk lapisan transparan oksida
konduktif (Tunggadewi dkk, 2015). Proses sputtering pada target hingga
menghasilkan lapisan tipis pada substrat ditunjukan oleh Gambar 2.9 sebagai
berikut.
Gambar 2.10 Sputtering pada permukaan target yang

menghasilkan lapisan tipis pada substrat
2.7 Penelitian Terdahulu

Berikut merupakan hasil dari beberapa penelitian terdahulu terkait pembuatan
plasma.
18
Tabel 2.2 Penelitian terdahulu yang berkaitan
No. Nama dan
Tahun Parameter Plasma Hasil yang Diperoleh
Publikasi
1 Triadiyaksa Menggunakan sistem elektroda Plasma lucutan pijar
dkk, 2007 titik-bidang dengan jarak antar dapat dibangkitkan
elektroda 3 cm sebanyak 63 pada tegangan 8 kV
buah, sistem vakum berada DC.
pada tekanan atmosfer, serta
dengan menggunakan
tegangan tinggi DC 8 kV.
2 I Made Indra, Menggunakan elektroda jarum Menghasilkan grafik
2010 berdiameter 1, 1.5, dan 2 mm jarak antar elektroda
serta menggunakan minyak terhadap nilai
isolasi yang digunakan sebagai Inception Voltage
bahan uji berupa Korona yang linear.
TRANSFORMER OIL Hal tersebut
POWEROIL TO 1020 60U. menunjukan bahwa
plasma berada dalam
keadaan stabil.
3 Koten dkk, Menggunakan tegangan Desain generator
2017 sumber AC 220 V menjadi DC plasma yang telah
2000 V, dan menggunakan gas dirancang meliputi catu
argon. daya (pengubah
tegangan AC 220 V
menjadi DC 2000 V),
19
20
BAB 3
METODE PENELITIAN
Metode penelitian berisi prosedur yang dilakukan selama melakukan

penelitian. Metode penelitian berisi garis besar penelitian yang meliputi alat dan
bahan yang digunakan, langkah kerja, dan rencana jadwal penelitian.
3.1 Alat dan Bahan

Rangkaian alat yang digunakan untuk membangkitkan plasma dengan
menggunakan metode Direct Current Magnetron Sputtering secara keseluruhan
ditunjukan oleh Gambar 3.1.
Saklar
Pompa
Vakum
Dioda Kapasitor
Bridge HV HV
Trafo Trafo
Regulator MOT
AC 240 V Tabung Vakum
(Reaktor Plasma)
Gambar 3.1 Rangkaian alat DC magnetron sputtering
3.1.1 Alat
Pada penelitian ini alat yang digunakan adalah pompa vakum Value tipe
VE115N, Osiloskop GW Instek tipe GDS-1042, trafo regulator TDGC2-2kVA,
trafo MOT MA 600B 639Qr, dioda bridge HV, kapasitor HV 2200VAC 1.07 µF,
tabung vakum (reaktor plasma), dan sepasang elektroda.
3.1.2 Bahan
Bahan yang digunakan untuk membuat instrumen DC magnetron sputtering
adalah kabel penghubung bertegangan 240 Volt, kabel NYA bertegangan 800 Volt,
dan scoon.
21
3.2 Langkah Kerja
3.2.1 Pembuatan Sistem Vakum
Sistem vakum terdiri atas tabung vakum dan pompa vakum . Tabung vakum
dibuat berbentuk silinder kaca. Pada bagian atas tabung vakum diberi dua buah
lubang sebagai jalur pipa pompa vakum dan jalur elektroda negatif. Elektroda
negatif berupa logam yang berbentuk silinder. Elektroda positif berupa plat berada
pada bagian bawah toples. Untuk menjaga sistem vakum, pada bagian mulut toples
dilapisi silikon serta diberi tambahan penutup silikon karet. Skema sistem vakum
yang digunakan ditunjukan oleh Gambar 3.2 sebagai berikut.
Gambar 3.2 Sistem Vakum DC magnetron sputtering
3.2.2 Pembuatan Rangkaian Sumber Tegangan

Rangkaian sumber tegangan dibuat dari rangkaian yang terdiri atas saklar
MCB, trafo regulator, trafo MOT, dioda bridge HV, dan kapasitor HV. Rangkaian
sistem tegangan tinggi ditunjukan oleh Gambar 3.1.
3.2.3 Pengujian Rangkaian Sumber Tegangan

Pengujian rangkaian sumber tegangan dilakukan dengan cara melihat sinyal
arus dan tegangan pada output trafo regulator, output dioda bridge HV, dan output
kapasitor (input reaktor plasma) dengan menggunakan osiloskop. Skema
pengukuran sinyal tegangan ditunjukkan oleh Gambar 3.3 sebagai berikut.
22
Osiloskop Osiloskop Osiloskop Osiloskop
Saklar
Pompa
Kapasitor Vakum
Dioda
HV
Bridge HV
Trafo Trafo
Regulator MOT Tabung Vakum
AC 240 V (Reaktor Plasma)
Gambar 3.3 Skema Karakterisasi Sinyal Tegangan
3.2.4 Pembangkitan Plasma

Sebelum melakukan pembangkitan plasma, tabung vakum dibersihkan
terlebih dahulu dengan menggunakan alkohol untuk kemudian dikeringkan dengan
menggunakan pengering rambut. Jarak antar elektroda diatur terlebih dahulu
sebelum melakukan proses vakum. Variasi jarak antar elektroda yang digunakan
adalah 2, 4, 6, 8, dan 10 cm. Tabung vakum kemudian dipompa selama 45 menit
untuk mengurangi jumlah partikel gas di dalam tabung vakum, sehingga tegangan
yang digunakan untuk membangkitkan plasma kecil. Langkah tersebut diulang
untuk setiap percobaan dengan variasi durasi pompa selama 45 dan 60 menit untuk
setiap jarak antar elektroda yang berbeda.
Pengujian plasma yang terbentuk dilakukan dengan cara mengukur
tegangan yang diperlukan untuk dapat memperoleh plasma. Tegangan yang diukur
adalah tegangan yang terbaca pada indikator tegangan output trafo regulator.
Gambar 3.4 menunjukan skema pengukuran tegangan pada saat plasma terjadi.
23
Multimeter
Saklar
Pompa
Vakum
Dioda Kapasitor
Bridge HV HV
Trafo Trafo Tabung Vakum

Regulator MOT (Reaktor Plasma)
AC 240 V
Gambar 3.4 Skema Pengukuran Tegangan
Pengukuran tegangan trafo regulator dilakukan pada seluruh parameter

pembentuk plasma yang berbeda. Tabel 3.1 menunjukan parameter yang akan
digunakan dalam membangkitkan plasma.
Tabel 3.1 Parameter pembangkitan plasma

Jarak Antar Durasi Proses
No Sampel Elektroda Vakum
(cm) (menit)
45
1 A 2
60
45
2 B 4
60
45
3 C 6
60
45
4 D 8
60
45
5 E 10
60
3.2.5 Diagram Alir Penelitian

Diagram alir penelitian ditunjukan oleh Gambar 3.1 sebagai berikut:
24
Gambar 3.5 Diagram Alir Penelitian
25
3.3 Rencana Jadwal Penelitian
Tabel 3.2 menunjukan Rencana Jadwal Penelitian yang akan dilakukan.
Tabel 3.2 Rencana Jadwal Penelitian

2018-2019
Jenis
No. September Oktober November Desember Januari
Kegiatan
1 2 3 4 1 2 3 4 1 2 3 4 1 2 3 4 1 2 3 4
Pembuatan
Instrumen
1 DC
Magnetron
Sputtering
Seminar
2
Proposal TA
Revisi
3
Proposal TA
Pembangkitan
dan
4 Pengukuran
Tegangan
dari Plasma
Pengolahan
5
Data
6 Seminar Hasil
Sidang Akhir
7
TA
Pembuatan
8
Laporan TA
Pengumpulan
9
Laporan TA
26
BAB 4
HASIL DAN PEMBAHASAN
Pada bab ini akan menjelaskan hasil dari pembangkitan plasma menggunakan
metode DC magnetron sputtering yang dilakukan serta penjelasan terkait plasma
yang diperoleh untuk setiap jarak antar elektroda yang berbeda.
4.1 Hasil Perancangan Direct Current Magnetron Sputtering

4.1.1 Sistem Vakum
Sistem vakum DC magnetron sputtering dirancang dengan menggunakan
pompa vakum Value tipe VE115N. Tabung vakum terbuat dari toples kaca silinder.
Pada bagian atas toples diberi dua buah lubang yang berfungsi sebagai jalur aliran
udara pada saat pompa vakum dioperasikan serta berfungsi sebagai saluran untuk
elektroda negatif (katoda). Sistem vakum diperlukan untuk mengurangi konsentrasi
gas yang berada di dalam tabung vakum (reaktor plasma) sehingga tidak
membutuhkan energi yang tinggi untuk dapat membangkitkan plasma. Elektroda
negatif berupa baut berdiameter 18 mm dan panjang 115 mm yang terbuat dari
material stainless steel diletakkan pada bagian atas toples. Sedangkan elektroda
positif (anoda) terbuat dari plat tembaga berukuran (120 x 120 x 10) mm dan
diletakkan pada bagian bawah toples. Kedua elektroda berfungsi untuk mengalirkan
tegangan tinggi DC yang akan digunakan sebagai media untuk mengionisasikan gas
yang berada dalam reaktor plasma sehingga dapat menghasilkan plasma. Pada
mulut toples dilapisi silikon setebal 1 mm, dan diberi tambahan penutup silikon
karet berukuran (10.5 x 10.5) cm yang telah dilubangi pada bagian tengahnya
dengan diameter sebesar 7.5 cm. Penambahan silikon berguna untuk menjaga
tingkat vakum dari tabung vakum (reaktor plasma). Untuk mengukur tingkat vakum
dari tabung vakum digunakan vakum gauge Stains. Tingkat vakum diperoleh
bernilai dibawah -76 cmHg. Gambar 4.1 menunjukkan tingkat vakum dari tabung
vakum yang dibuat.
27
Gambar 4.1 Vakum gauge STAINS yang
terukur pada tabung vakum yang dirancang
4.1.2 Sistem Rangkaian Sumber Tegangan

Sistem rangkaian sumber tegangan DC magnetron sputtering dibuat dengan
menggunakan beberapa komponen. Komponen pertama adalah saklar MCB
TOMZN TOB1Z-63. Saklar berfungsi sebagai penghubung dan pemutus tegangan
yang masuk pada rangkaian. Saklar menghubungkan antara arus listrik PLN AC
bertegangan 240 Volt dan trafo regulator TDGC2-2kVA. Tegangan output pada
trafo regulator dihubungkan dengan trafo MOT MA 600B 639Qr. Trafo regulator
berfungsi sebagai pengatur nilai tegangan yang masuk pada trafo MOT, sedangkan
trafo MOT berfungsi untuk menaikkan tegangan yang berasal dari trafo regulator.
Gambar 4.2 menunjukan grafik antara nilai input dan output yang diperoleh dari
trafo MOT.
y = 4.811x – 49.313
Gambar 4.2 Nilai input dan output trafo regulator dan trafo MOT
28
Pada Gambar 4.2 menunjukkan grafik yang linear. Hal ini membuktikan
bahwa tegangan output dari trafo MOT akan meningkat seiring dengan
penambahan tegangan input yang diberikan.
Gambar 4.3 menunjukan grafik tegangan output dari trafo regulator (a) dan
trafo MOT (b) yang direkam dengan menggunakan osiloskop GW Instek GDS-
1042.
(a) (b)
Gambar 4.3 (a) Sinyal tegangan output trafo regulator (b) Sinyal tegangan output
trafo MOT
Pada Gambar 4.3 (a) dan (b) grafik menunjukan sinyal sinusoidal yang
menunjukan bahwa tegangan yang diperoleh dari trafo regulator dan trafo MOT
adalah tegangan AC. Pada grafik terlihat kenaikan amplitudo sinyal dari trafo
regulator menuju trafo MOT yang menunjukan bahwa trafo MOT menaikkan
tegangan output dari trafo regulator.
Tegangan output pada trafo MOT kemudian dihubungkan dengan dioda
bridge HV yang berfungsi sebagai penyearah arus yang berasal dari trafo MOT.
Gambar 4.4 menunjukkan hubungan antara tegangan output trafo regulator
terhadap output yang dihasilkan setelah dihubungkan dengan dioda bridge HV.
29
y = 8.2244x + 22,762
Gambar 4.4 Tegangan output dari rangkaian setelah dihubungkan

dengan dioda bridge HV
bahwa tegangan output dari dioda bridge HV akan meningkat seiring dengan
penambahan tegangan input yang diberikan.
Gambar 4.5 menunjukan sinyal tegangan output dari rangkaian setelah
dihubungkan dengan dioda bridge HV.
Gambar 4.5 Sinyal tegangan output dioda bridge HV
Pada Gambar 4.5 menunjukan bahwa sinyal tegangan yang diperoleh dari
rangkaian setelah dihubungkan dengan dioda bridge HV adalah sinyal tegangan
30
DC. Hal ini membuktikan bahwa rangkaian dioda bridge HV yang digunakan dapat
mengubah tegangan AC menjadi tegangan DC.
Arus DC yang dihasilkan dioda bridge HV kemudian dihubungkan dengan
kapasitor HV yang berfungsi untuk menstabilkan aliran arus menuju tabung vakum
(reaktor plasma). Output pada kapasitor HV kemudian dihubungkan dengan anoda
dan katoda pada reaktor plasma. Gambar 4.6 menunjukan grafik nilai tegangan
output dari rangkaian setelah dihubungkan dengan kapasitor terhadap nilai
tegangan output trafo regulator.
y = 12.95x + 8.4821
Gambar 4.6 Tegangan input reaktor plasma
bahwa tegangan output dari kapasitor akan meningkat seiring dengan penambahan
tegangan input yang diberikan.
Gambar 4.7 menunjukan sinyal tegangan output dari rangkaian setelah
dihubungkan dengan kapasitor (tegangan input reaktor plasma).
31
Gambar 4.7 Sinyal tegangan input reaktor plasma
Pada Gambar 4.7 menunjukan bahwa sinyal yang diperoleh rangkaian

setelah dihubungkan dengan kapasitor sangat stabil. Hal ini membuktikan bahwa
rangkaian kapasitor yang digunakan dapat menstabilkan tegangan yang berasal dari
dioda bridge HV.
4.2 Pembangkitan Plasma

Tabel 4.1 menunjukan tegangan yang diperlukan untuk membangkitkan
beberapa jenis plasma dengan durasi vakum 45 menit dan 60 menit untuk setiap
jarak antar elektroda yang berbeda.
Tabel 4.1 Parameter plasma yang terbentuk
Tegangan Tegangan
Saat Saat Tegangan Saat
Jarak Durasi
Terjadi Terjadi Terjadi
Antar Proses
No Plasma Plasma Cathode/Anode
Elektroda Vakum
Lucutan Lucutan Glow
(cm) (menit)
Townsend Pijar (Volt)
(Volt) (Volt)
45 - 1303.48 -
1 2
60 785.48 979.73 -
45 - 1627.23 -
2 4
60 785.48 1109.23 -
45 1497.73 1691.98 1303.48
3 6
60 914.98 1173.98 -
45 1627.23 1821.48 -
4 8
60 1173.98 1368.23 -
45 1691.98 1821.48 1562.48
5 10
60 1432.98 1562.48 1303.48
32
Plasma lucutan townsend merupakan kilatan plasma yang terbentuk pertama
kali saat tegangan bernilai tertentu diaplikasikan pada reaktor plasma. Plasma
lucutan townsend terjadi disebabkan oleh fenomena breakdown voltage.
Breakdown voltage terjadi ketika isolator (dalam kasus ini adalah udara bebas)
diberikan tegangan tinggi hingga menyebabkan benda yang bersifat isolator
berubah menjadi benda yang bersifat konduktor. Lucutan plasma sesaat
menandakan bahwa udara yang awalnya bersifat isolator berubah menjadi
konduktor. Plasma lucutan townsend terkadang tidak terbentuk. Hal ini
dikarenakan pada durasi vakum 45 menit reaktor plasma memiliki konsenstrasi gas
yang cukup tinggi, sehingga untuk menghasilkan fenomena breakdown voltage
memerlukan tegangan yang bernilai besar. Pada saat terjadi lucutan townsend
dengan kondisi konsentrasi gas yang tinggi, maka akan terjadi penurunan tegangan
pada elektroda. Tegangan yang turun berada dibawah batasan breakdown voltage,
sehingga tidak menyebabkan lucutan pijar. Setelah terjadi lucutan townsend,
tegangan pada katoda akan menurun. Sehingga katoda akan memerlukan waktu
kembali untuk dapat mengisi elektron, ketika elektron telah mencukupi untuk dapat
mencapai breakdown voltage, maka akan menghasilkan lucutan kedua. Apabila
penurunan tegangan saat terjadi lucutan townsend berada di atas atau sama dengan
batas minimum breakdown voltage, maka akan terjadi plasma lucutan pijar yang
kontinyu.
Pada plasma lucutan pijar, molekul yang diberikan tegangan tinggi
menyebabkan terjadinya ionisasi gas. Proses ionisasi gas yang berkelanjutan akan
menghasilkan plasma lucutan pijar. Plasma lucutan pijar terjadi untuk setiap jarak
antar elektroda yang berbeda. Hal ini membuktikan bahwa DC magnetron
sputtering yang dibuat berhasil menghasilkan plasma.
Sedangkan untuk plasma cathode glow terjadi pada suatu gas yang
bertekanan rendah berada diantara dua buah elektroda tegangan tinggi. Fenomena
cathode glow terjadi pada DC magnetron sputtering ketika elektron tereksitasi dari
katoda dan bergerak menuju anoda. Dalam pergerakannya menuju anoda, elektron
akan menabrak atom-atom gas sehingga menyebabkan terjadinya ionisasi gas yang
akan menghasilkan cathode glow.
33
Plasma cathode glow tidak dapat terbentuk pada setiap jarak antar elektroda
yang berbeda. Hal ini dikarenakan plasma cathode glow memerlukan kondisi
tertentu agar dapat terbentuk. Beberapa faktor yang dapat mempengaruhi
terbentuknya plasma cathode glow tersebut adalah tekanan (konsentrasi gas), dan
tegangan tertentu pada reaktor plasma. Faktor tersebut berbeda-beda pada setiap
percobaan jarak antar elektroda yang berbeda dan diperlukan beberapa instrumen
lain seperti indikator tekanan yang lebih presisi, pompa untuk tingkat vakum yang
lebih tinggi, serta penggunaan gas inert sebagai gas yang diionisasikan untuk dapat
mempertahankan kondisi tersebut.
Selain terjadi fenomena cathode glow, terjadi pula fenomena anode glow.
Fenomena anode glow dapat terjadi ketika molekul gas yang bertekanan rendah
diberikan tegangan tinggi DC sehingga energinya berada diatas batas minimum
energi ionisasi dari molekul gas dan menyebabkan terjadinya penambahan ionisasi
di permukaan anoda.
Berdasarkan Tabel 4.1 maka diperoleh Gambar 4.8 yang menyatakan grafik
hubungan antara jarak antar elektroda terhadap parameter tegangan plasma yang
menyatakan tingkat kestabilan plasma sebagai berikut.
y = 48.563x + 1217.1
y = 61,513x + 1284.1
y = 71,225x + 811.38
y = 84.175x + 513.53
Gambar 4.8 Grafik kestabilan plasma

34
Berdasarkan Gambar 4.8 grafik antara tegangan pada saat plasma lucutan
pijar terjadi terhadap jarak antar elektroda untuk durasi vakum selama 45 menit dan
1 jam berbentuk garis linier. Hal ini membuktikan bahwa plasma yang dihasilkan
berada dalam keadaan stabil (Wijaya, 2010).
Plasma lucutan pijar yang dihasilkan untuk setiap variabel percobaan
memiliki warna yang berbeda. Warna yang dihasilkan pada plasma bergantung
pada jenis gas yang diionisasikan. Tabel 4.2 menunjukkan warna plasma lucutan
pijar yang dihasilkan pada setiap percobaan untuk jarak antar elektroda yang
berbeda.
Tabel 4.2 Plasma lucutan pijar yang terbentuk
Jarak
Antar Durasi Vakum Gas yang Durasi Vakum Gas yang
Elektroda 45 menit terionisasi 60menit terionisasi
(cm)
2 N2 N2
4 N2 dan Si N2
6 N2 dan Si N2
35
Tabel 4.2 Lanjutan
Jarak
Antar Durasi Vakum Gas yang Durasi Vakum Gas yang
Elektroda 45 menit terionisasi 60menit terionisasi
(cm)
8 N2 N2
10 N2 N2
Plasma yang terbentuk sebagian besar menunjukan warna ungu yang

mengindikasikan bahwa sebagian besar gas yang di ionisasikan adalah gas N2
(Tabel 2.1). Gas N2 berasal dari udara bebas yang masih tersisa dalam reaktor
plasma, dimana udara bebas mengandung gas N2 sebesar 78%. Untuk plasma yang
berwarna putih mengindikasikan bahwa terdapat gas Si dalam reaktor plasma. Gas
Si yang terionisasi berasal dari silikon yang digunakan pada bagian mulut reaktor
plasma.
Plasma yang menghasilkan cathode/anode glow terjadi pada jarak antar
elektroda 6 cm dan 10 cm. Tabel 4.3 menunjukan cathode/anode glow pada kedua
jarak antar elektroda.
36
Tabel 4.3 Plasma cathode/anode glow yang terbentuk
Jarak Jenis Gas
Jenis Gas
Antar Durasi Vakum yang Durasi Vakum
yang
Elektroda 45 menit terionisasi 60menit
terionisasi
(cm)
cathode glow
N2
6 - -
anode glow
cathode glow cathode glow
10 N2 N2
anode anode glow

glow
Fenomena cathode/anode glow terjadi hanya diperoleh pada beberapa jarak

antar elektroda. Hal ini disebabkan adanya pengotor berupa gas lain yang cukup
tinggi. Pengotor yang dimaksud adalah gas Si yang berasal dari silikon pada bagian
mulut reaktor plasma. Fenomena ini terjadi sebagai akibat dari suhu tinggi yang
dihasilkan plasma sehingga menyebabkan terjadinya penguapan silikon pada
bagian dalam reaktor plasma. Hal tersebut dibuktikan dengan bagian dalam reaktor
plasma yang berbau menyengat setiap kali selesai dilakukannya pembangkitan
plasma.
37
*halaman ini sengaja dikosongkan*
38
BAB 5
KESIMPULAN DAN SARAN
Pada bab ini berisi kesimpulan dari penelitian yang dilakukan serta saran yang
dapat dipertimbangkan untuk mengembangkan penelitian yang dilakukan.
5.1 Kesimpulan
Kesimpulan dari penelitian yang dilakukan adalah:
1. Plasma dapat dihasilkan dengan menggunakan metode Direct Current
2. Plasma yang dihasilkan merupakan plasma lucutan townsend dan plasma
lucutan pijar yang stabil, hal ini ditunjukan oleh grafik jarak antar elektroda
terhadap tegangan pembentuk plasma yang menunjukan garis linear.
5.2 Saran
Beberapa saran yang perlu dipertimbangkan antara lain adalah:
1. Sistem vakum yang digunakan sebagai reaktor plasma pada DC magnetron
sputtering sebaiknya menggunakan material yang tidak mudah menguap agar
tidak menjadi pengotor pada saat proses pembentukan plasma.
2. DC magnetron sputtering yang dibuat dapat dikembangkan untuk digunakan
sebagai alat deposisi lapisan tipis semikonduktor pada kaca konduktif.
3. Diperlukan penelitian lebih lanjut untuk membuat holder substrat dan target
agar dapat melakukan deposisi lapisan tipis dengan menggunakan DC
39
40
DAFTAR PUSTAKA
Ahmad Qurthobi, M.T. (2018). Teknik Tenaga Listrik (FTG2J2) Kuliah 4:

Transformator. [online] tersedia di:
https://qurthobi.staff.telkomuniversity.ac.id/files/2017/02/ttlchap4r.pdf
[diakses pada 18 Oktober 2018]
Amin, Nur. (2007), Analisis Sifat Listrik Persambungan M-S-M pada Film Tipis
AlxGal-xN yang Ditumbuhkan Diatas Substrat Silikon (III) dengan Metode DC
Magnetron Sputtering, Skripsi, Universitas Negeri Semarang, Semarang.
Arini, T., Lalasari, L.H., Yuwono, A.H., dkk. (2017). “Pengaruh Waktu Deposisi
dan Temperatur Substrat Terhadap Pembuatan Kaca Konduktif FTO
(Flourine-Doped Tin Oxide)”, Jurnal Metalurgi, Vol. 1, hal.1-8.
Callen, J.D., 2003, Fundamentals of Plasma Physics, University of Wisconsin,
Madison.
Dahono. P.A. (2018). Penyearah Dioda. [online] tersedia di:
https://eldaitb.files.wordpress.com/2010/03/penyearah-dioda-kuliah-ke-4-
compatibility-mode.pdf [diakses pada 18 Oktober 2018]
Direktorat Jenderal Energi Baru, Terbarukan dan Konservasi Energi. (2016).
Statistik EBTKE. (2016). [online] tersedia di:
https://www.esdm.go.id/assets/media/content/content-statistik-
ketenagalistrikan-tahun-2016.pdf [diakses pada tanggal 22 Agustus 2018]
Direktorat Jenderal Ketenagalistrikan Kementrian Energi dan Sumber Daya
Mineral. (2015). Statistik Ketenagalistrikan 2016. [online] tersedia di:
https://www.esdm.go.id/assets/media/content/Statistik_Ketenagalistrikan_2
015.pdf [diakses pada tanggal 22 Agustus 2018]
Erwanto, Danang, 2015, Capasitor, Program Studi Teknik Elektro, Fakultas
Teknik, Universitas Islam Kadiri, Kediri.
Francis, F.C., 1974, Introduction to Plasma Physics, Plenum Press, New York.
International Commission on Illumination (2018). Color Rendering Index (CRI).
[online] tersedia di: https://en.wikipedia.org/wiki/Gas-discharge_lamp
[diakses pada 21 November 2018]
Koten, D.S., Wijono, Rini, N.H. (2017). “Rancang Bangun Generator Plasma
dengan Media Gas Argon”, Jurnal EECCIS, Vol. 11, No. 1.
Leng, D., Lili Wu, Hongchao Jiang. (2012). “Preparation and Properties of SnO 2
Film Deposited by Magnetron Sputtering”, International Journal of
Photoenergy, Vol. 2012.
Mendis, N.N.R., Yatiyana, E.M.M.B., Wijesinghe, K.C., Lucas, J.R, Perera, R.
(2006). “Design and Construction of Constant Voltage Transformer”, First
International Conference on Industrial and Information Systems, Srilanka, 8-
11 Agustus 2006.
Nur, Muhammad, 2011, Fisika Plasma dan Aplikasinya, Semarang: Universitas
Diponegoro.
PT PLN (Persero). (2014). Buku Pedoman Pemeliharaan Transformator Tenaga.
[online] tersedia di: http://121.100.16.220/webtjbtb/wp-
content/uploads/perpustakaan/Buku%20Pedoman%20Trafo%20Tenaga%20
Final.pdf [diakses pada tanggal 15 Oktober 2018]
41
Raharjo, Mugi. (2009), Struktur Kristal, Sifat Listrik (Resistivitas), dan Sifat Optik
Film Tipis ZnO dengan Doping Al yang Ditumbuhkan dengan Metode DC
Magnetron Sputtering, Skripsi, Universitas Negeri Semarang, Semarang.
Rahmasari, Nabila. (2017), Karakterisasi Lapisan Tipis Bahan C, SnO2, dan
C+SnO2 Ditinjau dari Nilai Hambatan, Uji UV-Vis, dan XRD Sebagai
Material Transparent Conducting Oxide, Skripsi, Universitas Negeri
Yogyakarta, Yogyakarta.
Rana, M.S. (2014). “Design and Construction of a Tesla Transformer by using
Microwave Oven Transfer for Experimentation”, Innovative Systems Design
and Engineering Paper, Vol. 5, No.12.
Regulator/Stabilizer Tegangan. (2018). [online] tersedia di:
https://id.aliexpress.com/item/Delixi-single-phase-regulators-enter-220V-
500W-voltage-regulator-adjustable-TDGC2-0-5kVA-0V-
250v/32248731440.html [diakses pada 18 Oktober 2018]
Rifone. Microwave Oven Capacitor Datasheet. [online] tersedia di:
http://www.rifone-capacitor.com/upload/files/CH85.pdf [diakses
padatanggal 6 November 2018]
Setiadji, J.S., Machmudsyah, T., Isnanto, Y. (2006). “Pengaruh Ketidakseimbangan
Beban Terhadap Arus Netral dan Losses pada Trafo Distribusi”, Jurnal
Teknik Elektro, Vol. 6, No. 1.
Spyrout, N., Peruos, R., and Hield, B. (1994). “New Result on a Point–to Plane DC
Plasma Reactor in Low Pressure Dried Air”, Journal Phys. D: Appl. Phys.,
Vol. 27
Stadler, Andreas,. (2012). “Transparent Conducting Oxides—An Up-To-Date
Overview”, Jurnal Material, Vol. 5, hal. 661-683.
Stamate, V., Vascan, I., Lazar, I.. Lazar., G., Caraman, I., Caraman, M. (2005).
“Optical and Surface Properties TiO2 Thin Films Deposited by Magnetron
Sputtering Method”, Journal of Optoelectronics and Advanced Materials,
Vol. 7, No.2.
Sugianto, Marwoto, P., Astuti, B., Zannah, R., Yanti. (2015). “Pengaruh
Temperatur Deposisi terhadap Struktur dan Sifat Optik Film Tipis ZnO:Al
dengan metode DC Magnetron Sputtering”, Jurnal Fisika Universitas Negeri
Semarang, Vol. 5, No. 2.
Surjono, H.D., 2007, Elektronika: Teori dan Penerapan, Jember: Cerdas Ulet
Kreatif.
Sutadi, Suhartana, Sumaryadi. (2013). “Pembuatan Transformator 625 VA
Terisolasi Tegangan Tinggi 300 kV Untuk Catu Daya Filamen Sumber
Elektron MBE Lateks”, Prosiding Seminar. Yogyakarta, 11 September 2013.
Syuhada, Bayuwati, Sulaiman. (2008). ”Pembuatan Konduktor Transparan Thin
Film SnO2 dengan Menggunakan Teknik Spray Pyrolisis”, Jurnal Fisika
Himpunan Fisika Indonesia, Vol. 8, No.1.
Tarenbaum, S.B., 1967. Plasma Physics. The McGraw-Hill Companies, Inc.. New
York.
Triadyaksa, P., Nasruddin, Wasiq, J., Nur, M. (2007). “Rancang Bangun dan
Pengujian Sistem Reaktor Plasma Lucutan Pijar Korona guna Mempercepat
Pertumbuhan Tanaman Mangrove”. Jurnal Berkala Fisika, Vol. 10, No. 3, hal.
137-144.
42
Tseng, C.H., 1999, The application of Pulsed Corona Discharge Technology in Flue
Gas Desulfurization and Denitrification, The Air & Wasre Management
association’s 92nd Annual Meeting & Exhibition, St. Louis, Missouri, USA.
Tunggadewi, D.A., Hidayanti, Fitria. (2015). “Pembuatan Sel Surya Film Tipis
dengan DC Magnetron Sputtering”, Jurnal Ilmiah GIGA, Vol. 18, No. 1, hal.
38-42.
Widiyastuti, Bahriyah, S., Pakendek, S., Kusdianto, Madhania, S., Winardi, S.
(2011). “Sintesis ZnO:Al Sebagai Bahan Transparent Conducting Oxide
(TCO) dengan Metode Spray Pyrolisis”, Prosiding Seminar Nasional Teknik
Kimia “Kejuangan” Pengembangan Teknologi Kimia untuk Pengolahan
Sumber Daya Alam Indonesia. Yogyakarta, 22 Februari 2011.
Wiaya, I Made Indra. (2010). “Karakteristik Korona Dan Tegangan Tembus Isolasi
Minyak Pada Konfigurasi Elektroda Jarum-Plat
Wirjoadi, Bambang Siswanto. (2008). “Sifat Optik, Struktur Kristal dan Struktur
Mikro Lapisan Tipis ZnO:Al pada Substrat Kaca Sebagai Bahan TCO”,
Jurnal Ganendra, Vol. XI, No.2.
Yunanto, Wibowo, T., Suryadi. (1996). “Pembuatan Sistem Plasma Lucutan Pijar
dengan Teknik Gabungan RF dan Tegangan Tinggi DC”, Prosiding
Pertemuan dan Presentasi Ilmiah PPNY-BATAN. Yogyakarta 23-25 April.
Yuwono, A.H., Munir, B., Ferdiansyah A., Rahman, A., Handini, W. (2010). “Dye
Sensitized Solar Cell with Conventionally Annealed and Post-hydrotermaly
Treated Nanocrystalline Semiconductor Oxide TiO2 Derived from Sol-Gel
Process”, Jurnal Makara Teknologi, Vol. 14, No.2, hal. 53-60.
43
44
LAMPIRAN A
PERHITUNGAN
A. Regresi Linier Grafik Jarak Atar Elektroda Terhadap Tegangan Lucutan Plasma
Diperoleh persamaan regresi linier:

y = 12.95x + 8.4821
dengan x menyatakan tegangan pada output trafo regulator dan y menyatakan
tegangan pada input reaktor plasma dalam satuan Volt.
B. Perhitungan tegangan plasma untuk jarak antar elektroda 2 cm

1. Durasi vakum 45 menit
Diketahui : y = 12.95x + 8.4821
xplasma lucutan pijar = 100 Volt
Ditanyakan : yplasma lucutan pijar = ....
Penyelesaian : y = 12.95x + 8.4821
y = 12.95 (100) + 8.4821
y = 1303.48 Volt
A-1
Diketahui : y = 12.95x + 8.4821
xplasma lucutan townsend = 60 Volt
Ditanyakan : a. yplasma lucutan townsend = ....
b. yplasma lucutan pijar = ....
Penyelesaian : a. yplasma lucutan townsend = 12.95x + 8.4821
= 12.95 (60) + 8.4821
= 785.48 Volt
b. yplasma lucutan pijar = 12.95x + 8.4821
= 12.95 (75) + 8.4821
= 979.73 Volt
C. Perhitungan tegangan plasma untuk jarak antar elektroda 4 cm

Diketahui : y = 12.95x + 8.4821
Ditanyakan : yplasma lucutan pijar = ....
Penyelesaian : yplasma lucutan pijar = 12.95x + 8.4821
yplasma lucutan pijar = 12.95 (125) + 8.4821
yplasma lucutan pijar = 1627.23 Volt
Diketahui : y = 12.95x + 8.4821
= 12.95 (60) + 8.4821
= 785.48 Volt
= 12.95 (85) + 8.4821
= 1109.23 Volt
A-2
D. Perhitungan tegangan plasma untuk jarak antar elektroda 6 cm
Diketahui : y = 12.95x + 8.4821
xplasma cathode glow = 100 Volt
c. yplasma cathode glow = ....
yplasma lucutan townsend = 12.95 (115) + 8.4821
yplasma lucutan townsend = 1497.73 Volt
c. yplasma cathode glow = 12.95x + 8.4821
yplasma cathode glow = 12.95 (100) + 8.4821
Diketahui : y = 12.95x + 8.4821
A-3
E. Perhitungan tegangan plasma untuk jarak antar elektroda 8 cm
Diketahui : y = 12.95x + 8.4821
Diketahui : y = 12.95x + 8.4821
F. Perhitungan tegangan plasma untuk jarak antar elektroda 10 cm

Diketahui : y = 12.95x + 8.4821
A-4
yplasma cathode glow = 1562.48 Volt
Diketahui : y = 12.95x + 8.4821
yplasma cathode glow = 1303.48 Volt
A-5
A-6
LAMPIRAN B
DOKUMENTASI PENELITIAN
Trafo Regulator MOT TDGC2-2kVA
Trafo MOT MA 600B 639Qr
Dioda bridge HV
B-1
Kapasitor HV
Elektroda negatif (katoda) yang terbuat dari material stainless steel pada saat
sebelum proses pembangkitan plasma
Elektroda negatif (katoda) yang terbuat dari material stainless steel pada saat
setelah proses pembangkitan plasma
B-2
Pompa Vakum Value tipe VE115N
Osiloskop GW Instek tipe GDS-1042
B-3
Direct Current Magnetron Sputtering
B-4
LAMPIRAN C
LOG BOOK PENELITIAN
No. Hari/Tanggal Kegiatan

Proses pembuatan sistem vakum (reaktor
1 Senin/27 Agustus 2018 plasma), dan rangkaian sumber tegangan
tinggi DC.
Plasma dapat terbentuk dari rangkaian
2 Kamis/20 September 2018
DC magnetron sputtering.
Karena suhu yang terlalu tinggi, chamber
3 Jum’at/21 September 2018 yang digunakan mengalami keretakan
sehingga tidak dapat digunakan lagi.
Perancangan ulang sistem vakum (reaktor
4 Jum’at/23 September 2018
plasma).
5 Selasa/2 Oktober 2018 Plasma muncul pada tegangan 150 Volt.
Dengan menggunakan jarak antar
6 Kamis/4 Oktober 2018 elektroda sebesar 2 cm, plasma muncul
pada tegangan 50 Volt.
Perancangan sistem untuk dapat
memfokuskan plasma yang terbentuk
7 Jum’at/5 Oktober 2018
sehingga plasma dapat dimanfaatkan
untuk keperluan deposisi.
Dilakukan modifikasi tabung vakum
(reaktor plasma) dengan cara
8 Sabtu/6 Oktober 2018 menambahkan silikon karet pada
permukaan mulut tabung vakum (reaktor
plasma).
Plasma tidak dapat dibangkitkan setelah
modifikasi tabung vakum (reaktor
plasma) dilakukan. Hal ini kemungkinan
9 Senin/8 Oktober 2018
disebabkan oleh adanya pengotor gas
silikon yang diaplikasikan pada tabung
vakum (reaktor plasma).
Plasma muncul pada tegangan 175 Volt,
10 Selasa/9 Oktober 2018 akan tetapi plasma yang dihasilkan
berwarna putih kehijauan.
Plasma muncul pada tegangan 150 Volt,
11 Jum’at/11 Oktober 2018 akan tetapi plasma yang dihasilkan
berwarna putih kehijauan.
Salah satu dari dioda bridge HV terbakar
12 Sabtu/13 Oktober 2018 sehingga rangkaian tidak dapat berfungsi
sebagaimana mestinya
Dilakukan pengambilan data tegangan
13 Jum’at/8 November 2018
input tabung vakum (reaktor plasma)
C-1
mulai dari 0 Volt hingga plasma
terbentuk. Pengambilan data dilakukan
untuk jarak antar elektroda sebesar 6 cm.
Dilakukan percobaan pembangkitan
plasma pada jarak antar elektroda sebesar
14 Senin/12 November 2018
4 cm untuk durasi vakum selama 45
menit.
15 Selasa/13 November 2018
2 cm dan 8 cm untuk durasi vakum
selama 45 menit..
16 Kamis/15 November 2018
10 cm untuk durasi vakum selama 45
menit dan 60 menit.
Perancangan kembali reaktor plasma
17 Jum’at/16 November 2018
yang pecah.
Minggu/18 November Perancangan kembali sistem vakum yang
18
2018 baru.
19 Senin/19 November 2018 Pembuatan penutup mulut tabung vakum.
Pembuatan lapisan silikon pada mulut
20 Selasa/20 November 2018
toples
21 Rabu/21 November 2018
selama 60 menit.
22 Kamis/22 November 2018
selama 60 menit.
C-2
LAMPIRAN D
RIWAYAT PENULIS
Syarifah Nihlah Yahya, dilahirkan di Ujung Pandang

pada tanggal 14 Mei 1996. Merupakan anak ketiga dari
empat bersaudara pasangan Sjarif Ridha Yahja dan
Warniah. Syarifah menempuh pendidikan formal di
Taman Kanak-kanak Nurul Falah Makassar (2001-
2002), Sekolah Dasar Negeri Labuang Baji II Makassar
(2002-2008), Sekolah Menengah Pertama Negeri 18
Balikpapan (2008-2011), dan Sekolah Menengah Atas
Negeri 5 Balikpapan (2011-2014). Terdaftar sebagai mahasiswa angkatan ketiga
Institut Teknologi Kalimantan (ITK) program studi S1-Fisika sejak Agustus 2014.
Semasa menjadi mahasiswa ITK, Syarifah telah menyelesaikan tugas akhir yang
berjudul “Pembangkitan Plasma Menggunakan Metode Direct Current
Magnetron Sputtering” dibawah bimbingan Bapak Suardi, S.T., M.T, dan Bapak
Fadli Robiandi, S.Si., M.Si..
D-1
D-2

Pembangkitan Plasma Dengan Menggunakna Metode Direct Current Magnetron Sputtering

Diunggah oleh

Informasi Dokumen

Judul Asli

Hak Cipta

Format Tersedia

Bagikan dokumen Ini

Bagikan atau Tanam Dokumen

Opsi Berbagi

Apakah menurut Anda dokumen ini bermanfaat?

Apakah konten ini tidak pantas?

Hak Cipta:

Format Tersedia

Pembangkitan Plasma Dengan Menggunakna Metode Direct Current Magnetron Sputtering

Diunggah oleh

Hak Cipta:

Format Tersedia

PERNYATAAN KEASLIAN TUGAS AKHIR

Balikpapan, 21 Januari 2019

Syarifah Nihlah Yahya

Nama : Syarifah Nihlah Yahya

demi pengembangan ilmu pengetahuan, menyetujui untuk memberikan kepada

Pembangkitan Plasma Menggunakan Metode

Demikian pernyataan ini saya buat dengan sebenarnya.

Balikpapan, 21 Januari 2019

Syarifah Nihlah Yahya

Judul Tugas Akhir:

Disetujui oleh Tim Penguji Tugas Akhir:

1. Suardi, S.T., M.T. Pembimbing I ..............................

2. Fadli Robiandi, S.Si., M.Si. Pembimbing II ..............................

3. Atut Reni Septiana, S.Pd., M.Si. Penguji I ..............................

4. Agus Rifani, S.Si., M.Si. Penguji II ..............................

“PEMBANGKITAN PLASMA MENGGUNAKAN METODE

Balikpapan, Oktober 2018

Nama Mahasiswa : Syarifah Nihlah Yahya

Direct Current (DC) magnetron sputtering merupakan salah satu instrumen

By : Syarifah Nihlah Yahya

Pernyataan Keaslian Tugas Akhir ............................................................................ i

Gambar 1.1 Kerangka Pemikiran Penelitan .............................................................5

Notasi Keterangan Satuan

Pada bab pendahuluan berisi latar belakang dilakukannya penelitian, masalah

1.1 Latar Belakang

1.2 Perumusan Masalah

1.3 Batasan Masalah

1.4 Tujuan Penelitian

1.6 Kerangka Pemikiran Penelitian

Gambar 2.1 Skema Transformator

Arus AC yang mengalir pada kumparan primer akan membangkitkan fluks

Persamaan daya ideal dari transformator ditunjukan oleh persamaan (2.2)

Pin = Pout (2.2)

Dari persamaan (2.1) dan (2.5) dapat diperoleh persamaan umum

Transformator memiliki beberapa jenis, salah satunya adalah Microwave

Gambar 2.2 MOT

Gambar 2.3 Trafo Regulator

2.2 Rangkaian Penyearah Gelombang Penuh Sistem Jembatan

Untuk persamaan arus output rata-rata dari rangkaian penyearah gelombang

Gambar 2.4 Penyearah gelombang penuh dengan sistem jembatan (a)

Gambar 2.5 Kapasitor HV

Kapasitor tegangan tinggi memiliki beberapa keunggulan, yaitu:

Gambar 2.6 Fase material

Gambar 2.6 menunjukan bahwa plasma merupakan daerah reaksi tumbukan

dengan n menyatakan kerapatan secara umum atau kerapatan plasma

No. Jenis Gas Warna Plasma

No. Jenis Gas Warna Plasma

*)International Commission on Illumination, 2018

2.5 Reaktor Plasma

Gambar 2.8 Skema sederhana reaktor plasma

2.6 Direct Current Magnetron Sputtering

Gambar 2.9 Skema alat DC magnetron sputtering

Pada DC magnetron sputtering target dipasang pada anoda dengan sistem

Gambar 2.10 Sputtering pada permukaan target yang

2.7 Penelitian Terdahulu

Metode penelitian berisi prosedur yang dilakukan selama melakukan

3.1 Alat dan Bahan

Gambar 3.1 Rangkaian alat DC magnetron sputtering

Gambar 3.2 Sistem Vakum DC magnetron sputtering

3.2.2 Pembuatan Rangkaian Sumber Tegangan

3.2.3 Pengujian Rangkaian Sumber Tegangan

Gambar 3.3 Skema Karakterisasi Sinyal Tegangan

3.2.4 Pembangkitan Plasma