Kuliah 1-3 PDF
Kuliah 1-3 PDF
Universitas Gunadarma
KULIAH
FISIKA DEVAIS
SEMIKONDUKTOR
• S.M. Sze, Semiconductor Devices, Physics and Technology, (Wiley, Singapore 1985)
• S.R. Rio dan M. Iida, Fisika dan Teknologi Semikonduktor, (Pradnya Paramita, Jakarta
1980)
Kuliah I
1 Elemen-Elemen Fisika Semikonduktor
======================================
1.1 Pengantar
1.2 Dasar-dasar Mekanika Kuantum
1.3 Atom-atom dan Tabel Periodik
1.4 Ikatan-Ikatan dan Pita Energi (bonds and bands)
1.5 Konsentrasi Pembawa (Carrier concentrations)
======================================
1.1 Pengantar
• Material Baru:
– Silikon amorp
– Poly-silikon
– Senyawa (compound) semikonduktor (III-IV)
– Semikonduktor dgn band gap yang lebar (SiC dan
GaN)
• Ide devais baru
• Interkoneksi baru (tembaga dan K rendah, optikal)
• Tools CAD baru untuk menghasilkan desain devais
dan rangkaian yang lebih baik → untuk ukuran sub-
mikron yang lebih dalam (deep submicron size)
• Rangkain baru
• Arsitektur baru
• Power Supply baru: solar on board, biological heat,
mircowave beams from space
• Nano-Technology
1.2 Dasar-Dasar Mekanika Kuantum
• Jawab:
– px = mv = 9, 11 × 10−25 kg m/s
– kx = px/~ = mv = 8, 64 × 109 m−1
– py = 0 dan ky = 0
Namun demikian, karena M x = 100 Å dan prin-
sip ketidakpastian menyatakan
∗
M pz M z ≥ ~/2
~
M pz ≥
2Mz
= 5, 27 × 10−27 kg m/s
∗
M p2z
M Ez =
2m
= 1, 52 × 10−23 J
= 9, 52 × 10−5 eV
1.2.5 Persamaan Schroedinger
– Contoh:
Foton dgn energi ~ω ik = Ei − Ek diabsorbsi oleh
gas hidrogen karena mereka menyebabkan tran-
sisi elektron antara tingkat Ek dan Ei. Hitung pan-
jang gelombang radiasi yang terabsorbsi akibat transisi-
2 antara keadaan kedua dan ketiga
– Jawab:
~ω 32 = E3 − E2 = EB (1/22 − 1/32) = 1, 89 eV
ω 32 = 2, 87 × 1015 s−1
λ = 2πc/ω 32 = 0, 657 µm
1.2.9 Fungsi Gelombang & Bil. Kuantum
• Ionisitas:
Jika seluruh atom dalam suatu kristal identik, jum-
lah elektron yang dishared memerlukan waktu yang
sama untuk setiap atom → Ikatan kovalen homopo-
lar
Pada sebuah senyawa semikonduktor, spt GaAs, elek-
tron ikatan memerlukan fraksi waktu lebih pada an-
ion (yaitu atom yang dimuati negatif). Situasi ini berkai-
tan dgn ikatan heteropolar parsial (ionik parsial)
Ionisitas (0 < fi < 1) adalah 0 untuk ikatan kovalen
homopolar murni, dan 1 untuk ikatan heteropolar murni.
fi = 0, 177 untuk SiC dan 0,31 u/ GaAS
1.5 Dasar-dasar Fisika Zat Padat
Kristalin, Polykristalin, Material amporh
• Keterangan:
(a) Medan listrik ξ dan medan magnet B diletakkan
saling tegak lurus
(b) Akibat pengaruh medan listrik, elektron-2 bebas
dalam batang akan mengalami gaya −eξ , dan
bergerak ke arah -x dgn kecepatan tertentu v
(c) Bersamaa ini, hadir B mepengaruhi elektron
dgn gaya dorong −evB dalam arah -y. Se-
bagai akibatnya, elektron-2 akan terdorong ke
bawah dan terkumpul di sisi bawah batang, dan
menimbulkan medan listrik ξ H dalam arah +y
(d) Proses ini akan berlangsung terus menerus sam-
pai tercapai medan listrik sanggup menyeimbangi
gaya magnet
eξ H = evB atau
ξ H = vB
(e) Tegangan Hall yang bersangkutan
VH = ξd
= vBd
(f) Kemudian, dgn meningat bhw pada keadaan
aliran stationer tsb berlaku
j = env = I/(ld)
maka
BI
VH =
enl
BI
= RH
l
dgn
1
RH =
en
Konstant ini disebut koefisien Hall
(g) Asumsi yang digunakan u/ penurunan rumus
di atas: bhw kecepatan hanyut elektron vn = v
sama untuk setiap elektron.
(h) Keadaan Riil: kecepatan pembawa-2 tsb
mempunyai latar belakang distribusi termal yang
kontinyu
Jika distribusi ini diperhitungkan, maka VH dan
RH termodifikasi menjadi
µ ¶
8 BI
VH = RH
3π l
dgn µ ¶
3π 1
RH =
8 en
Persamaan di atas berlaku juga untuk pembawa-
2 bermuatan positif. Hanya polaritas VH -nya
berlawanan dgn kasus elektron,
µ ¶ dan RH menjadi
3π 1
RH =
8 ep
B. Penerapan Efek Hall u/ Penentuan Parameter
Konduksi
Efek Hall dapat digunakan u/ menentukan 3 para-
meter secara langsung
• Keterangan:
(a) Ketika e ditangkap oleh trap yang kosong dan
kemudian hole ditangkap oelh trap yang terisi
oleh elektron → rekombinasi pasangan e & h
(b) Proses sebaliknya: elektron diemisi oleh trap
terisi ke pita konduksi, dan emisi hole dari trap
yang kosong ke pita valensi
• Laju penangkapan elektron, Rnc, sebanding dgn jum-
lah elektron dan jumlah trap yang kosong
Rnc = Cnn(1 − ft)Nt
dimana ft fungsi pendudukan tingkat trap.
– Koefisien
Cn = σ nvthn
dimana σ n penampang lintang penangkapan u/ elek-
tron,
vthn = (3kB T /m∗n)1/2
adalah kecepatan termal elektron dan m∗n massa
efektif elektron.
• Laju emisi elektron dari trap, Rne,
Rne = enftNt
• Dalam kondisi setimbang
Rnc = Rne
sehingga,
Cnn0 = enft0/(1 − ft0); (3.23)
dimana
n0 = Nc exp((EF − Ec)/kB T )
adalah konstrasi elektron setimbang, ft0 pendudukan
tingkat trap setimbang.
Ratio ft0/(1−ft0) diperoleh dgn menggunakan fungsi
pendudukan Fermi-Dirac:
ft0/(1 − ft0) = exp [−(Et − EF )/kB T ]
Et energi tingkat trap
Sehingga darri pers.(3.23), diperoleh bhw
en = ntCn
dimana
nt = Nc exp [−(Et − Ec)/kB T ]
• Perbedaan antara laju penangkapan dan pememisian
elektron
Rn = Rnc − Rne = CnNt [(1 − ft)n − ftnt] ; (3.28)
• Penurunan yang sama u/ perbedaan laju panangka-
pan dan pengemisian hole
Rp = Rpc − Rpe = CpNt [ftp − (1 − ft)pt]
dimana
Cp = σ pvthp
• Pada kondisi setimbang: tidak terdapat akumulasi
netto muatan, sehingga e & h harus merekombinasi
dalam pasangan. Jadi,
Rp = Rn = R
dimana R laju rekombinasi
• Fungsi pendudukan ft dapat diperoleh dari kondisi
Rp = Rn,
nCn + ptCp
ft =
Cn(n + nt) + Cp(p + pt)
• Substitusi pers. ini ke pers.(3.28):
pn − n2i
R= ; (3.34)
τ pl (n + ni) + τ nl (p + pi)
ni konsentrasi intrinsik, τ pl dan τ nl lifetiem elektron
dan hole
τ nl = 1/(vthnσ nNt)
τ pl = 1/(vthpσ pNt)
– Khususnya, jika elektron adalah muatan minoritas
(n ¿ p ≈ NA, p À pt, p À nt), pers.(3.34) tere-
duksi menjadi
n − n0
R=
τ nl
dimana n0 = n2i /ND .
– Jika hole minoritas (p ¿ n ≈ ND , n À pt, n À nt)
p − p0
R=
τ pl
dimana p0 = n2i /NA.
– Konsentrasi pembawa ditentukan oleh doping. Penu-
runan lifetime thp doping pada tingkat doping yang
rendah dapt dijelaskan melalui konsentrasi trap di
sampel terdoped.
∗ Jika konsentrasi trap sebanding dgn konsentrasi
dopant, diharapkan
τ ' 1/ND
∗ Hasil eksperimen (M.S Tyagi & R. van Overstraaten)
menunjukan lain: pada tingkat doping yang re-
latif tinggi, τ pl menurun thp konsentrasi doping
lebih cepat daripada 1/ND .
∗ Alasan: mekanisme rekombinasi yang berbeda
(disebut rekombinasi Auger ) menjadi penting un-
tuk tingkat doping yang tinggi
∗ Pada mekanisme ini:
(A) rekombinasi e & h tanpa tingkat trap
(B) dan energi yang dikeluarkan (dlm orde energi
gap) ditransfer ke pembawa yang lain ( hole
pada tipe-n dan elektron pada tipe-p)
(C) Proses demikian adalah kebalikan dari proses
mekanisme impact ionization yang dgnnya
pembawa energetik menyebabkan generasi
pasangan e & h
(D) Karena terdapat dua elektron dan dua hole
dalam rekombinasi Auger, lifetime rekombi-
nasinya adalah berbanding terbalik kuadrat
konsentrasi mayoritas
τ nl = 1/(GpNA2 ); tipe-p
τ pl = 1/(GnND2 ); tipe-n
Untuk Si Gp = 9, 9 × 10−32 cm6/s dan
Gn = 2, 28 × 10−31 cm6/s
3.3.4 Rekombinasi Permukaan (surface)