Anda di halaman 1dari 6

Ikatan π internal menggunakan Orbital d

Senyawa trimethylamine (CH3)3N dan trisilylamine (SiH3)3N memiliki formula yang sama, tetapi memiliki
struktur yang berbeda. Pada trimetilamin, susunan elektron adalah sebagai berikut:
1s 2s 2p
Struktur elektronik dari atom
↑↓ ↑↓ ↑ ↑ ↑
nitrogen- keadaan dasar

tiga elektron tidak berpasangan dari ikatan dengan


CH3 -susunan tetrahedral dari tiga pasangan ikatan
dan satu pasangan bebas (hibridisasi sp3)

Dalam trisilylamine, tiga orbital sp2 digunakan untuk ikatan 𝜎, menghasilkan


struktur segitiga planar. Pasangan elektron bebas menempati orbital p pada sudut kanan
segitiga bidang. Ini tumpang tindih dengan orbital d kosong pada masing-masing dari
tiga atom silikon, dan menghasilkan ikatan π, lebih akurat digambarkan sebagai ikatan
pπ-dπ , karena dari orbital p penuh ke orbital d kosong. Hal ini memperpendek panjang
ikatan N-Si. Karena nitrogen tidak lagi memiliki pasangan elektron bebas, molekul
tidak memiliki sifat donor. Ikatan pπ-dπ yang serupa tidak mungkin terjadi dalam
(CH3)3N karena C tidak memiliki orbital d dan karenanya molekul ini bersifat
piramidal.
TETRAHALIDA
Semua tetrahalida diketahui kecuali Pbl4. Mereka biasanya kovalen,
tetrahedral, dan sangat fluktuatif. Pengecualiannya adalah SnF dan PbF, yang
memiliki struktur tiga dimensi dan titik leleh tinggi (SnF, menyublim pada 705oC,
PbF, meleleh pada 600°C)
Karbon
Tetrafluorometana (karbon tetrafluorida) CF4 adalah gas yang sangat tidak aktif. Dapat dibuat sebagai berikut:
CO2 + SF4 → CF4 + SO2
SiC + 2F2 → SiF4 + C
CF2Cl2 + F2 → CF4 + Cl2 (metode industri)

Senyawa fluorin lain seperti hexafluoroethane C2F6 dan tetrafluoro-ethvlene C2F4 telah dikenal. Di bawah
tekanan, CF4 dipolimerisasi menjadi (C2F4)n dan menghasilkan politetrafluoroethylene atau PTFE. Ini adalah plastik
padat putih yang keras dan berminyak saat disentuh, dan jauh lebih berat (lebih padat), Isolator listrik yang baik,
bersifat inert, mahal, dan digunakan di laboratorium karena kelembamannya. Memiliki koefisien gesekan yang
sangat rendah dan digunakan untuk melapisi panci anti lengket dan pisau cukur. Fluorocarbon adalah pelumas,
pelarut, dan isolator yang berguna.

Tetraklorometana (karbon tetraklorida) CCl4 diproduksi terutama dari karbon disulfida.


Karbon halida tidak dihidrolisis dalam kondisi normal karena mereka tidak memiliki orbital d, dan tidak dapat
membentuk intermediet hidrolisis lima koordinat. Sebaliknya silikon halida menghidrolisis dengan mudah. Silikon
memiliki orbital 3d yang tersedia, dan ini dapat digunakan untuk mengoordinasikan ion OH atau air sebagai langkah
pertama dalam hidrolisis. Dalam atom apa pun selalu ada orbital kosong, tetapi ini biasanya terlalu tinggi energi untuk
digunakan. Jika energi yang cukup disediakan dengan menggunakan uap super panas maka CCI4, akan menghidrolisis:
Freon
Campuran klorofluorohidrokarbon seperti CFCI3, CF2CI2 dan CF3CI dikenal sebagai
Freons. Tidak reaktif dan tidak beracun dan banyak digunakan sebagai cairan pendingin dan sebagai
propelan dalam aerosol. Hampir 700.000 ton Freon diproduksi setiap tahun (setengahnya di AS).
CFCS yang merupakan kependekan dari fluorocarbon terklorinasi, meskipun bersifat inert, akan
tetapi menyebabkan kerusakan lingkungan. Penggunaannya dalam aerosol dilarang di AS dari tahun
1980, dan di Eropa dari tahun 1990.
Freon adalah 'gas rumah kaca' yang jauh lebih efektif di atmosfer daripada CO2, meskipun
jumlah Freon sangat kecil. Freon dapat menembus atmosfer atas (ketinggian 5-20 mil), dan
menyebabkan kerusakan pada lapisan ozon, yaitu sekitar 6% dari ozon. Sebuah lubang di lapisan
ozon telah muncul di Kutub Selatan, dan lubang serupa tampaknya berkembang di Kutub Utara.
Lapisan ozon penting karena menyaring radiasi dari matahari dan mencegah sebagian besar radiasi
UV yang berbahaya mencapai bumi. Paparan radiasi UV yang berlebihan harus dihindari karena
menyebabkan kanker kulit (melanoma) pada manusia.
Di atmosfer bagian atas, Freon mengalami reaksi fotolitik dan menghasilkan atom klor
bebas (yang radikal) yang akan bereaksi dengan ozon. Radikal CIO yang terbentuk membusuk
perlahan, membentuk kembali radikal klor, yang bereaksi dengan lebih banyak ozon dan seterusnya.
Rata-rata, satu atom klor dapat bereaksi dengan 100.000 molekul ozon sebelum dikeluarkan dari
siklus katalitik.

Reaksi keseluruhan: 2O3 → 3O2

Anda mungkin juga menyukai